采用水熱法在不銹鋼基底上制備WO3納米片陣列,然后將其浸漬于不同濃度Zn（NO₃）₂溶液中以負(fù)載ZnO納米顆粒,從而制備出ZnO/WO₃納米片薄膜。采用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（FESEM）、X射線衍射（XRD）、X射線光電子能譜（XPS）、紫外-可見(jiàn)吸收光譜（UV-Vis）和電化學(xué)阻抗圖譜（EIS）等方法對(duì)ZnO/WO₃復(fù)合薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)、物相組成和光電性能等進(jìn)行分析,重點(diǎn)考察了薄膜電極對(duì)亞甲基藍(lán)（MB）的光電催化降解性能。結(jié)果表明,WO₃納米片均勻垂直于基底生長(zhǎng),Zn元素以ZnO顆粒的形式分布在WO₃表面;ZnO的引入促進(jìn)了WO₃中產(chǎn)生的光生電子-空穴對(duì)的分離,從而使ZnO/WO₃復(fù)合薄膜表現(xiàn)出比純WO₃薄膜更優(yōu)異的光電性能和光電催化活性;在Zn（NO₃）₂浸漬液濃度為20mmol/L時(shí),所制ZnO/WO₃復(fù)合薄膜具有最佳的光電催...

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【文章目錄】：
1 試驗(yàn)
    1.1 樣品制備
    1.2 結(jié)構(gòu)與性能表征
    1.3 光電流及光電催化活性測(cè)量
2 結(jié)果與討論
    2.1 樣品的表征
    2.2 樣品的光電性能及光電催化性能
3 結(jié)論



本文編號(hào)：4038295