非連續(xù)六硼化鑭納米薄膜的制備、表征及光學性能研究
發(fā)布時間:2022-01-27 02:52
LaB6納米材料因其在近紅外區(qū)域具有優(yōu)異的選擇吸收特性,在汽車玻璃或建筑玻璃領域具有應用前景。目前最成熟的方法是利用機械研磨法制備LaB6納米粉末,將之分散到有機載體中制作夾層玻璃。少有采用磁控濺射法直接在玻璃上沉積LaB6納米顆粒的報道。磁控濺射法制備LaB6納米顆粒的難點有兩個:一是要調整磁控濺射工藝參數和基底表面處理方式,使沉積薄膜符合島狀生長模型,才可能制備出LaB6顆粒;二是要保證沉積顆粒為結晶態(tài),只有一定尺寸的結晶態(tài)LaB6才能表現出對近紅外區(qū)域的選擇吸收。本課題從這兩個問題入手,研究了非連續(xù)薄膜的制備和處理工藝,表征了形貌、成分、粗糙度等微觀結構,確定了其生長方式并測定、計算了其在紫外-可見光-近紅外波段的透光隔熱性能。通過對基底的離子束處理增加基底表面粗糙度,改變薄膜在基底表面的生長方式。綜合基底表面粗糙度對薄膜生長方式和膜基結合力的影響,確定離子束處理最佳時間為90s;通過調整磁控濺射時間控制顆粒尺寸,濺射時間在5min之內,薄膜中LaB6顆粒尺寸在20-100nm之間,呈球狀或橢球狀;通過熱處理工藝提高薄膜的結晶度,綜合考慮基底材料和加熱電阻絲耐受溫度,對薄膜加熱至...
【文章來源】:山東大學山東省211工程院校985工程院校教育部直屬院校
【文章頁數】:83 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.2磁控派射制備原理圖[73]??Fig.l?.2?Principles?of?magnetron?sputtering^1??
成和連續(xù)薄膜形成[78]。Manz[78]等人在大量實驗的基礎上,通過對系統(tǒng)熱力學分??析以及動力學計算,將薄膜生長歸納為三種模式:層狀生長、島狀生長和層島狀??生長。薄膜的生長模型與基底對沉積材料的潤濕性有密切關系[79]。圖1.3是薄膜??的三種生長模型圖。??I?Structure??逢.嫌個4C??經微搜"flc*??W?.'.u、???-??I?Uniform?film??\?Struelur??\??混合生長??圖1.3薄膜的三種生長模型[78]??Fig.?1.3?Three?models?of?thin?film?growth1781??當基底表面粗糙度很大時,基底對沉積材料的潤濕性較差,薄膜以島狀模型??生長。具體來說,漉射粒子在基底表面形成晶核后,由于濺射粒子與基底結合力??弱于濺射粒子之間的結合力,晶核在三維方向上的生長速率不一樣。與基底平行??方向的生長速率小于垂直方向的生長速率,隨著晶核接受外來濺射原子不斷長大,??孤立小島形成。孤立島狀可以在基底繼續(xù)長大,直至相鄰小島相互接觸形成通路,??迷津構造生成,最終形成連續(xù)薄膜。??當基底表面粗糙度很小時,基底對沉積材料的潤濕性較好時,薄膜以層狀模??型生長。具體來說
第二章實驗方案及研究方法??使用的LaB6微米粉末是以La203粉末和B4C粉末為原料采用的[<^94]。La203粉末純度為99.999wt%,平均粒徑10um,購買有限公司。B4C粉末純度為95wt%,粒徑1-lOum,購買于牡丹有限公司。在固相反應中,B4C還原La203,再經酸洗處理可得,即獲得本課題中用于燒結制備LaB6靶材的原材料。下圖為實XRD圖。從圖中可以看出,LaBft微米粉末的純度很高,為結晶?
【參考文獻】:
期刊論文
[1]大面積六硼化鑭薄膜陰極制備及性能[J]. 劉曾怡,林祖?zhèn)?王小菊,曹貴川,祁康成. 強激光與粒子束. 2011(04)
[2]CaB6電子結構及光學性質的第一性原理計算[J]. 肖立華,伏云昌,蘇玉長,張鵬飛,彭平. 原子與分子物理學報. 2011(01)
[3]適用于PDP的透明六硼化鑭薄膜性能研究[J]. 劉曾怡,林祖?zhèn)?王小菊,鄧維偉,權祥. 電子器件. 2011(01)
[4]磁控濺射法中影響薄膜生長的因素及作用機理研究[J]. 郝正同,謝泉,楊子義. 貴州大學學報(自然科學版). 2010(01)
[5]Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power[J]. 徐靜,閔光輝,胡立杰,趙曉華,于化順. Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2009(04)
[6]磁控濺射法沉積SiNx非晶薄膜的生長機制及結構分析[J]. 鄔洋,衣立新,王申偉,杜玙璠,黃圣,冀國蕊,王永生. 光譜學與光譜分析. 2009(05)
[7]六硼化鈣納米粉末的吸收光譜研究(英文)[J]. 梁麗梅,張琳,閔光輝. 山東大學學報(工學版). 2009(01)
[8]六硼化鑭薄膜場致發(fā)射的特性[J]. 朱炳金,陳澤祥,張強,王小菊,于濤. 發(fā)光學報. 2008(03)
[9]六硼化鑭薄膜的制備及發(fā)射特性的研究[J]. 朱炳金,陳澤祥,張強. 真空電子技術. 2007(05)
[10]Multiwavelets domain singular value features for image texture classification[J]. RAMAKRISHNAN S.,SELVAN S.. Journal of Zhejiang University(Science A:An International Applied Physics & Engineering Journal). 2007(04)
博士論文
[1]PET基柔性太陽能電池薄膜電極的制備及其光電轉換性能的研究[D]. 王薇.山東大學 2014
[2]單晶硅基LaB6薄膜的磁控濺射制備工藝及生長機制[D]. 趙曉華.山東大學 2011
[3]磁控濺射SiO2基LaB6薄膜的制備工藝及性能[D]. 徐靜.山東大學 2009
碩士論文
[1]CaB6薄膜的制備工藝和磁學性能研究[D]. 劉林佳.山東大學 2017
[2]磁控濺射Ca1-xLaxB6薄膜的制備工藝及磁學性能研究[D]. 劉慧慧.山東大學 2016
[3]有機織物基LaB6薄膜的制備工藝及其性能研究[D]. 吳艷.山東大學 2015
[4]PET基透明柔性LaB6薄膜的制備及其光學性能研究[D]. 陳德方.山東大學 2015
[5]SiO2基體上直流磁控濺射LaB6/ITO復合薄膜的性能研究[D]. 汪丹.山東大學 2011
[6]LaB6光學性質的第一性原理計算及實驗研究[D]. 肖立華.昆明理工大學 2010
[7]磁控濺射薄膜生長的計算機模擬研究[D]. 戴傳瑋.復旦大學 2009
[8]LaB6納米粉末及其復合薄膜的制備工藝及性能研究[D]. 梁麗梅.山東大學 2009
本文編號:3611615
【文章來源】:山東大學山東省211工程院校985工程院校教育部直屬院校
【文章頁數】:83 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.2磁控派射制備原理圖[73]??Fig.l?.2?Principles?of?magnetron?sputtering^1??
成和連續(xù)薄膜形成[78]。Manz[78]等人在大量實驗的基礎上,通過對系統(tǒng)熱力學分??析以及動力學計算,將薄膜生長歸納為三種模式:層狀生長、島狀生長和層島狀??生長。薄膜的生長模型與基底對沉積材料的潤濕性有密切關系[79]。圖1.3是薄膜??的三種生長模型圖。??I?Structure??逢.嫌個4C??經微搜"flc*??W?.'.u、???-??I?Uniform?film??\?Struelur??\??混合生長??圖1.3薄膜的三種生長模型[78]??Fig.?1.3?Three?models?of?thin?film?growth1781??當基底表面粗糙度很大時,基底對沉積材料的潤濕性較差,薄膜以島狀模型??生長。具體來說,漉射粒子在基底表面形成晶核后,由于濺射粒子與基底結合力??弱于濺射粒子之間的結合力,晶核在三維方向上的生長速率不一樣。與基底平行??方向的生長速率小于垂直方向的生長速率,隨著晶核接受外來濺射原子不斷長大,??孤立小島形成。孤立島狀可以在基底繼續(xù)長大,直至相鄰小島相互接觸形成通路,??迷津構造生成,最終形成連續(xù)薄膜。??當基底表面粗糙度很小時,基底對沉積材料的潤濕性較好時,薄膜以層狀模??型生長。具體來說
第二章實驗方案及研究方法??使用的LaB6微米粉末是以La203粉末和B4C粉末為原料采用的[<^94]。La203粉末純度為99.999wt%,平均粒徑10um,購買有限公司。B4C粉末純度為95wt%,粒徑1-lOum,購買于牡丹有限公司。在固相反應中,B4C還原La203,再經酸洗處理可得,即獲得本課題中用于燒結制備LaB6靶材的原材料。下圖為實XRD圖。從圖中可以看出,LaBft微米粉末的純度很高,為結晶?
【參考文獻】:
期刊論文
[1]大面積六硼化鑭薄膜陰極制備及性能[J]. 劉曾怡,林祖?zhèn)?王小菊,曹貴川,祁康成. 強激光與粒子束. 2011(04)
[2]CaB6電子結構及光學性質的第一性原理計算[J]. 肖立華,伏云昌,蘇玉長,張鵬飛,彭平. 原子與分子物理學報. 2011(01)
[3]適用于PDP的透明六硼化鑭薄膜性能研究[J]. 劉曾怡,林祖?zhèn)?王小菊,鄧維偉,權祥. 電子器件. 2011(01)
[4]磁控濺射法中影響薄膜生長的因素及作用機理研究[J]. 郝正同,謝泉,楊子義. 貴州大學學報(自然科學版). 2010(01)
[5]Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power[J]. 徐靜,閔光輝,胡立杰,趙曉華,于化順. Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2009(04)
[6]磁控濺射法沉積SiNx非晶薄膜的生長機制及結構分析[J]. 鄔洋,衣立新,王申偉,杜玙璠,黃圣,冀國蕊,王永生. 光譜學與光譜分析. 2009(05)
[7]六硼化鈣納米粉末的吸收光譜研究(英文)[J]. 梁麗梅,張琳,閔光輝. 山東大學學報(工學版). 2009(01)
[8]六硼化鑭薄膜場致發(fā)射的特性[J]. 朱炳金,陳澤祥,張強,王小菊,于濤. 發(fā)光學報. 2008(03)
[9]六硼化鑭薄膜的制備及發(fā)射特性的研究[J]. 朱炳金,陳澤祥,張強. 真空電子技術. 2007(05)
[10]Multiwavelets domain singular value features for image texture classification[J]. RAMAKRISHNAN S.,SELVAN S.. Journal of Zhejiang University(Science A:An International Applied Physics & Engineering Journal). 2007(04)
博士論文
[1]PET基柔性太陽能電池薄膜電極的制備及其光電轉換性能的研究[D]. 王薇.山東大學 2014
[2]單晶硅基LaB6薄膜的磁控濺射制備工藝及生長機制[D]. 趙曉華.山東大學 2011
[3]磁控濺射SiO2基LaB6薄膜的制備工藝及性能[D]. 徐靜.山東大學 2009
碩士論文
[1]CaB6薄膜的制備工藝和磁學性能研究[D]. 劉林佳.山東大學 2017
[2]磁控濺射Ca1-xLaxB6薄膜的制備工藝及磁學性能研究[D]. 劉慧慧.山東大學 2016
[3]有機織物基LaB6薄膜的制備工藝及其性能研究[D]. 吳艷.山東大學 2015
[4]PET基透明柔性LaB6薄膜的制備及其光學性能研究[D]. 陳德方.山東大學 2015
[5]SiO2基體上直流磁控濺射LaB6/ITO復合薄膜的性能研究[D]. 汪丹.山東大學 2011
[6]LaB6光學性質的第一性原理計算及實驗研究[D]. 肖立華.昆明理工大學 2010
[7]磁控濺射薄膜生長的計算機模擬研究[D]. 戴傳瑋.復旦大學 2009
[8]LaB6納米粉末及其復合薄膜的制備工藝及性能研究[D]. 梁麗梅.山東大學 2009
本文編號:3611615
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