鈦酸銅鈣/聚偏氟乙烯復(fù)合介質(zhì)的制備及介電性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-07-29 21:01
高介電特性材料在電氣及電子工程領(lǐng)域具有非常廣闊的應(yīng)用前景,例如可用于儲(chǔ)能電容器及嵌入式電容器。在新時(shí)期能源利用領(lǐng)域,儲(chǔ)能器件的輕量化、微型化和特殊用途需求對(duì)材料的介電特性提出更高的要求,希望能獲得兼有高介電常數(shù)、低介質(zhì)損耗、高擊穿場(chǎng)強(qiáng)及易加工等綜合性能良好的介電材料體系。隨著納米復(fù)合技術(shù)的發(fā)展,高介電陶瓷-聚合物類復(fù)合材料引起了越來(lái)越多的關(guān)注。本文圍繞鈦酸銅鈣(CaCu3Ti4O12)無(wú)機(jī)陶瓷填料進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),提升聚偏氟乙烯(PVDF)基復(fù)合介質(zhì)的介電性能及儲(chǔ)能特性。在微/納米CaCu3Ti4O12/PVDF復(fù)合介質(zhì)的研究中,利用溶膠凝膠-燃燒法制備微米級(jí)CaCu3Ti4O12(CCTO)顆粒,水熱合成法制備納米級(jí)CCTO顆粒,微/納米CCTO顆粒均能提高PVDF基復(fù)合材料的相對(duì)介電常數(shù)。通過(guò)化學(xué)鍍鎳法合成微米CCTO@Ni填充相,在溶液涂覆法制備中施加磁場(chǎng)處理獲得高相對(duì)介電常數(shù)的CCTO@...
【文章來(lái)源】:哈爾濱理工大學(xué)黑龍江省
【文章頁(yè)數(shù)】:138 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
CCTO顆粒的制備工藝流程圖
圖 2-2 CCTO@Ni MP 的制備流程圖Fig. 2-2 Flow diagram for the preparation of CCTO@Ni MP首先,按照填料濃度為 20g/L 比例量取一定量的 CCTO 粉體,浸入無(wú)水中超聲清洗 30min 后,再將粉體浸入到粗化液中浸泡 30min,經(jīng)去離子水清洗至中性后完成粗化過(guò)程。其次,將粗化后的粉體浸入到敏化夜中浸min 后,經(jīng)去離子水反復(fù)清洗至中性后完成敏化過(guò)程。然后,將敏化后的浸入到活化夜中浸泡 30min,經(jīng)去離子水反復(fù)清洗至中性后 80℃烘干完成過(guò)程。最后,將活化后的粉體添加到鍍液中,分別鍍鎳 10min、30minmin,水浴控制鍍液溫度 92℃,電動(dòng)攪拌速率為 200r/min,通過(guò)向鍍液中 NaOH 溶液來(lái)控制 PH≈13,經(jīng)抽濾、清洗和烘干后得到鍍鎳的一系列陶瓷,標(biāo)記 CCTO@Ni MP。在預(yù)處理過(guò)程中,被粗化處理的 CCTO 顆粒表面形成許多凹坑或微孔,敏化處理后,敏化劑中的 Sn2+吸附在 CCTO 表面的凹坑或微孔中,形成具原性的催化膜。在活化處理過(guò)程中,活化劑中的 Pb2+與 Sn2+發(fā)生氧化還原,Sn2+將 Pd2+還原成 Pd 顆粒;而金屬 Pd 就是化學(xué)鍍鎳反應(yīng)中的催化劑,使 CCTO 表面形成具有自催化活性的催化中心。在化學(xué)鍍鎳過(guò)程中,水合
第 2 章 微/納米 CCTO 顆粒制備及表面修飾對(duì) PVDF 介電特性的影響2.2 CCTO 顆粒的微結(jié)構(gòu)2.2.1 CCTO 顆粒的微觀形貌為研究不同制備方法對(duì) CCTO 顆粒的形貌的影響,對(duì)溶膠凝膠-燃燒法和水熱合成法制備的 CCTO 顆粒樣品進(jìn)行微觀形貌表征,其 SEM 形貌如圖 2-3所示,其中 2-3(b)圖是在 160℃水熱反應(yīng) 8h,且 700℃燒結(jié) 1h 制備得到的。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]粉末靶射頻磁控濺射非晶Al2O3薄膜的制備與性能研究[J]. 吳法宇,李建偉,齊羿,丁梧桐,樊子銘,周艷文. 金屬學(xué)報(bào). 2016(12)
[2]Al2O3陶瓷化學(xué)鍍Ni-P工藝研究[J]. 郭英奎,李然,王東. 哈爾濱理工大學(xué)學(xué)報(bào). 2014(03)
[3]純Ni包覆ZrO2復(fù)合粉末的制備[J]. 王飛飛,李成威,谷晴晴,陳雪婷,姚丹,馬壯. 粉末冶金技術(shù). 2013(06)
[4]巨介電CCTO及CCTO/聚合物研究[J]. 王亞軍,王芳芳,馮長(zhǎng)根,曾慶軒. 化學(xué)進(jìn)展. 2013(11)
[5]CaCu3Ti4O12高介電材料的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)[J]. 李含,鄒正光,吳一,龍飛. 硅酸鹽通報(bào). 2009(01)
[6]PVDF/PMMA復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)及形態(tài)[J]. 趙薇,苑會(huì)林,王婧,王浩博,朱天戈. 合成樹脂及塑料. 2008(05)
[7]BaTiO3/環(huán)氧高介電常數(shù)復(fù)合材料(英文)[J]. 陳章,馬寒冰,楊寧寧,張麗娟,蔡勇. 材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào). 2007(06)
[8]ZrO2陶瓷表面化學(xué)鍍鎳沉積機(jī)理分析[J]. 張桂敏,張安富,雷家珩. 兵器材料科學(xué)與工程. 2007(01)
[9]水熱法制備納米陶瓷粉體技術(shù)[J]. 苗鴻雁,董敏,丁常勝. 中國(guó)陶瓷. 2004(04)
本文編號(hào):3310050
【文章來(lái)源】:哈爾濱理工大學(xué)黑龍江省
【文章頁(yè)數(shù)】:138 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
CCTO顆粒的制備工藝流程圖
圖 2-2 CCTO@Ni MP 的制備流程圖Fig. 2-2 Flow diagram for the preparation of CCTO@Ni MP首先,按照填料濃度為 20g/L 比例量取一定量的 CCTO 粉體,浸入無(wú)水中超聲清洗 30min 后,再將粉體浸入到粗化液中浸泡 30min,經(jīng)去離子水清洗至中性后完成粗化過(guò)程。其次,將粗化后的粉體浸入到敏化夜中浸min 后,經(jīng)去離子水反復(fù)清洗至中性后完成敏化過(guò)程。然后,將敏化后的浸入到活化夜中浸泡 30min,經(jīng)去離子水反復(fù)清洗至中性后 80℃烘干完成過(guò)程。最后,將活化后的粉體添加到鍍液中,分別鍍鎳 10min、30minmin,水浴控制鍍液溫度 92℃,電動(dòng)攪拌速率為 200r/min,通過(guò)向鍍液中 NaOH 溶液來(lái)控制 PH≈13,經(jīng)抽濾、清洗和烘干后得到鍍鎳的一系列陶瓷,標(biāo)記 CCTO@Ni MP。在預(yù)處理過(guò)程中,被粗化處理的 CCTO 顆粒表面形成許多凹坑或微孔,敏化處理后,敏化劑中的 Sn2+吸附在 CCTO 表面的凹坑或微孔中,形成具原性的催化膜。在活化處理過(guò)程中,活化劑中的 Pb2+與 Sn2+發(fā)生氧化還原,Sn2+將 Pd2+還原成 Pd 顆粒;而金屬 Pd 就是化學(xué)鍍鎳反應(yīng)中的催化劑,使 CCTO 表面形成具有自催化活性的催化中心。在化學(xué)鍍鎳過(guò)程中,水合
第 2 章 微/納米 CCTO 顆粒制備及表面修飾對(duì) PVDF 介電特性的影響2.2 CCTO 顆粒的微結(jié)構(gòu)2.2.1 CCTO 顆粒的微觀形貌為研究不同制備方法對(duì) CCTO 顆粒的形貌的影響,對(duì)溶膠凝膠-燃燒法和水熱合成法制備的 CCTO 顆粒樣品進(jìn)行微觀形貌表征,其 SEM 形貌如圖 2-3所示,其中 2-3(b)圖是在 160℃水熱反應(yīng) 8h,且 700℃燒結(jié) 1h 制備得到的。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]粉末靶射頻磁控濺射非晶Al2O3薄膜的制備與性能研究[J]. 吳法宇,李建偉,齊羿,丁梧桐,樊子銘,周艷文. 金屬學(xué)報(bào). 2016(12)
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[4]巨介電CCTO及CCTO/聚合物研究[J]. 王亞軍,王芳芳,馮長(zhǎng)根,曾慶軒. 化學(xué)進(jìn)展. 2013(11)
[5]CaCu3Ti4O12高介電材料的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)[J]. 李含,鄒正光,吳一,龍飛. 硅酸鹽通報(bào). 2009(01)
[6]PVDF/PMMA復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)及形態(tài)[J]. 趙薇,苑會(huì)林,王婧,王浩博,朱天戈. 合成樹脂及塑料. 2008(05)
[7]BaTiO3/環(huán)氧高介電常數(shù)復(fù)合材料(英文)[J]. 陳章,馬寒冰,楊寧寧,張麗娟,蔡勇. 材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào). 2007(06)
[8]ZrO2陶瓷表面化學(xué)鍍鎳沉積機(jī)理分析[J]. 張桂敏,張安富,雷家珩. 兵器材料科學(xué)與工程. 2007(01)
[9]水熱法制備納米陶瓷粉體技術(shù)[J]. 苗鴻雁,董敏,丁常勝. 中國(guó)陶瓷. 2004(04)
本文編號(hào):3310050
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