提出了一種基于反射法的化學機械拋光（CMP）在線終點判定方法。首先通過改進的單純形混合遺傳算法（GA）,對SiO₂薄膜的膜厚與折射率進行了擬合,再以200～1 200 nm波段內(nèi)反射率平均值作為特征值,得到了不同膜厚條件下的反射率平均值參照表。以實時反射率與預設(shè)膜厚反射率的差方和、特征值大小及其變化趨勢這2個條件作為CMP終點判定條件。實驗結(jié)果表明:混合算法擬合膜厚平均相對誤差小于0.21%,折射率平均相對誤差小于1.07%;特征值計算速度快,滿足在線動態(tài)拋光的時間要求。 

【文章來源】：計量學報. 2020,41(10)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：7 頁

【部分圖文】：

薄膜的反射與透射圖

不同膜厚下反射率隨波長的變化關(guān)系圖

式中:a=n1-1;b=n1+1;c=n1-n2;d=n1+n2;e=n1-n22;f=n1+n22;g=64n2(n1-1)2n4;x=e-αd，α是吸收系數(shù)，α=4!k/λ。在某一波段范圍內(nèi)，2個連續(xù)奇極值點所對應的波長分別為λ1、λ3，可得到:

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3213235