為了提高聚吡咯（PPy）的光電性能,通過界面聚合-原位法制備了PPy/Cd S復合薄膜材料,用紅外光譜、X射線衍射、掃描電鏡、熱重分析等方法對產(chǎn)物進行了表征。制備的PPy/Cd S薄膜結(jié)構(gòu)平整,投料比對Cd S納米棒尺度有明顯影響。用紫外吸收、Z-掃描技術(shù)初步研究了PPy/Cd S的非線性光學（NLO）性質(zhì)。PPy/Cd S具有明顯的飽和吸收和非線性負折射。PPy/Cd S（摩爾比10∶1）薄膜的非線性折射率是PPy薄膜的2.4倍,三階非線性極化率是PPy的2.1倍,說明PPy/Cd S薄膜具有良好的三階NLO性能。該復合材料在光限幅等光電領(lǐng)域具有潛在的應用價值。 

【文章來源】：高分子材料科學與工程. 2016,32(04)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
1 實驗部分
    1. 1 實驗試劑與儀器
    1. 2 PPy / Cd S薄膜的制備[7]
2 結(jié)果與討論
    2. 1 FT-IR分析
    2. 2 XRD分析
    2. 3 SEM及元素分析
    2. 4 熱重分析
    2. 5 UV-Vis分析
    2. 6 NLO性能
3 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]聚吡咯/硫化鎘核殼納米線的制備及整流特性[J]. 劉宸.  化學研究. 2012(02)
[2]納米MoS2的制備及其與聚吡咯物復合膜光學性能的研究[J]. 何曉云,鐘淮真,李國強,陳力勤,陳震.  化學世界. 2006(02)

碩士論文
[1]石墨烯/硫化鎘有機玻璃的可控制備及光學非線性研究[D]. 張越.哈爾濱工程大學 2013



本文編號：3203726