采用電沉積技術(shù)在純銅片上制備了鈷-鎢合金薄膜,并研究了鈷-鎢合金薄膜的磁性能與其厚度、結(jié)構(gòu)及表面形貌等的關(guān)系。結(jié)果表明:鈷鎢電沉積屬于誘導(dǎo)共沉積,鎢在鈷表面氫原子的催化作用下與鈷發(fā)生共沉積。鈷-鎢合金薄膜的厚度約為6μm,屬于Co₃W四面體結(jié)構(gòu),其表面由典型瘤狀顆粒構(gòu)成。鈷-鎢合金薄膜垂直方向的磁性能優(yōu)于平行方向的磁性能,最大矯頑力為74.42 kA/m。 

【文章來源】：電鍍與環(huán)保. 2020,40(01)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：3 頁

【文章目錄】：
0 前言
1 實驗
    1.1 鍍液配方及工藝條件
    1.2 實驗方法
    1.3 性能測試
2 結(jié)果與討論
    2.1 鈷和鎢的循環(huán)伏安曲線
    2.2 鈷-鎢合金薄膜的厚度
    2.3 鈷-鎢合金薄膜的結(jié)構(gòu)
    2.4 鈷-鎢合金薄膜的磁性能測試
3 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3173150