用于溶液工藝發(fā)光二極管的金屬氧化物界面層研究
發(fā)布時(shí)間:2021-04-09 20:14
本論文圍繞金屬氧化物界面層在溶液工藝發(fā)光二極管器件(LED)中的應(yīng)用展開(kāi)研究,旨在理解溶液工藝氧化物界面層的性質(zhì)和LED性能之間的關(guān)系,開(kāi)發(fā)性質(zhì)滿(mǎn)足溶液工藝LED器件需求的氧化物界面層材料。針對(duì)氧化鋅(ZnO)膠體納米晶電子注入層和氧化鎳(NiOx)空穴注入層在溶液工藝LED應(yīng)用中存在的問(wèn)題,分別在納米晶合成和界面層薄膜后處理階段對(duì)它們的性質(zhì)進(jìn)行調(diào)控,并研究了調(diào)控前后界面層薄膜性質(zhì)對(duì)LED性能的影響。在電子注入層方面,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的控制,實(shí)現(xiàn)了對(duì)ZnO納米晶的銦(In3+)摻雜,合成出了 In3+摻雜的ZnO納米晶(IZO),發(fā)現(xiàn)In3+摻雜能提高ZnO納米晶的自由電子濃度。隨后,經(jīng)過(guò)配體交換和成膜工藝的優(yōu)化制備了高質(zhì)量的IZO納米晶薄膜,并實(shí)現(xiàn)In3+摻雜調(diào)控ZnO納米晶薄膜的表面功函數(shù)。將IZO薄膜作為電子注入層,應(yīng)用于溶液工藝有機(jī)發(fā)光二極管器件中。研究結(jié)果顯示:IZO納米晶能將器件的開(kāi)啟電壓降低0.5V,效率提高一倍多。基于掃描開(kāi)爾文探針顯微鏡的研究結(jié)果,我們發(fā)現(xiàn)器件性能的提高是因?yàn)?In3+摻雜對(duì)薄膜表面功函數(shù)的調(diào)控作用降低了器件中電子注入的勢(shì)壘。在空穴注入層方面,針對(duì)溶...
【文章來(lái)源】:浙江大學(xué)浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:148 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖2.2噴墨打印工藝制備的高分辨率(a)?OLED像素點(diǎn)[16]和(b)量子點(diǎn)圖案[19】
inverted?structure.??根據(jù)發(fā)光材料的種類(lèi)和性質(zhì)差異,溶液工藝LED器件的具體結(jié)構(gòu)多種多樣。??但是,概括起來(lái),溶液工藝LED器件的典型結(jié)構(gòu)有正型和反型兩種結(jié)構(gòu)(圖2.3)。??不管是正型結(jié)構(gòu)還是反型結(jié)構(gòu),發(fā)光層和陰極之間一般都有電子傳輸層(ETL),??發(fā)光層和陽(yáng)極之間一般都有空穴傳輸層(HTL),而且電子傳輸層和空穴傳輸層??都可能不止一層,有可能是多種材料組成的多層結(jié)構(gòu)。多層結(jié)構(gòu)的界面層一般是??為了形成階梯式的能級(jí)結(jié)構(gòu),減小電子或空穴的注入勢(shì)壟|U51,也可能是為了在??發(fā)光層和電子/空穴傳輸層之間插入空穴/電子阻擋層[26_271。??在正型和反型兩種結(jié)構(gòu)中,光都是從透明電極一側(cè)出來(lái),常用的透明電極一??般為銦錫氧(ITO)或氟錫氧(FTO)電極。在正型結(jié)構(gòu)中,1T0或FTO做陽(yáng)極,??陰極材料一般為Ca、Mg、A1或Ag等功函數(shù)低的金屬。但由于Ca和Mg化學(xué)??穩(wěn)定性差,易與空氣中的氧和水汽反應(yīng),在引入合適的電子傳輸層后,陰極通常??可以采用Al、Ag或金屬合金等更為穩(wěn)定的金屬[25]。為了增大陽(yáng)極材料的功函數(shù)
的發(fā)光中心既可能是連續(xù)的鈣鈦礦晶體薄膜,也可能是有機(jī)分子半導(dǎo)體和膠體量??子點(diǎn)單晶,但是在不考慮不同發(fā)光中心內(nèi)部激子行為差異的情況下,溶液工藝??LED所涉及的基元物理過(guò)程類(lèi)似。如圖2.4所示,溶液工藝LED在外加電場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)??下工作時(shí)所涉及的基元物理過(guò)程包括(1)電子和空穴分別從陰極和陽(yáng)極注入??到載流子傳輸/注入層的導(dǎo)帶(或最低未占分子軌道,LUMO)和價(jià)帶(或最高占??據(jù)分子軌道,HOMO)能級(jí),(2)電子和空穴在載流子傳輸/注入層內(nèi)的傳輸,(3)??電子和空穴分別從載流子傳輸/注入層注入到發(fā)光層的導(dǎo)帶(或LUMO)和價(jià)帶??(或HOMO)能級(jí),(4)注入的載流子在發(fā)光中心內(nèi)形成激子,(5)激子在發(fā)光??中心內(nèi)輻射復(fù)合釋放出光子,(6)光子發(fā)射出器件。上述每一個(gè)基元物理過(guò)程幾??乎都會(huì)受到界面層性質(zhì)的影響,并最終影響LED器件的性能。??EQE是衡量LED器件光電轉(zhuǎn)換效率的最核心指標(biāo),它的高低由上述六個(gè)基元??6??
本文編號(hào):3128246
【文章來(lái)源】:浙江大學(xué)浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:148 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖2.2噴墨打印工藝制備的高分辨率(a)?OLED像素點(diǎn)[16]和(b)量子點(diǎn)圖案[19】
inverted?structure.??根據(jù)發(fā)光材料的種類(lèi)和性質(zhì)差異,溶液工藝LED器件的具體結(jié)構(gòu)多種多樣。??但是,概括起來(lái),溶液工藝LED器件的典型結(jié)構(gòu)有正型和反型兩種結(jié)構(gòu)(圖2.3)。??不管是正型結(jié)構(gòu)還是反型結(jié)構(gòu),發(fā)光層和陰極之間一般都有電子傳輸層(ETL),??發(fā)光層和陽(yáng)極之間一般都有空穴傳輸層(HTL),而且電子傳輸層和空穴傳輸層??都可能不止一層,有可能是多種材料組成的多層結(jié)構(gòu)。多層結(jié)構(gòu)的界面層一般是??為了形成階梯式的能級(jí)結(jié)構(gòu),減小電子或空穴的注入勢(shì)壟|U51,也可能是為了在??發(fā)光層和電子/空穴傳輸層之間插入空穴/電子阻擋層[26_271。??在正型和反型兩種結(jié)構(gòu)中,光都是從透明電極一側(cè)出來(lái),常用的透明電極一??般為銦錫氧(ITO)或氟錫氧(FTO)電極。在正型結(jié)構(gòu)中,1T0或FTO做陽(yáng)極,??陰極材料一般為Ca、Mg、A1或Ag等功函數(shù)低的金屬。但由于Ca和Mg化學(xué)??穩(wěn)定性差,易與空氣中的氧和水汽反應(yīng),在引入合適的電子傳輸層后,陰極通常??可以采用Al、Ag或金屬合金等更為穩(wěn)定的金屬[25]。為了增大陽(yáng)極材料的功函數(shù)
的發(fā)光中心既可能是連續(xù)的鈣鈦礦晶體薄膜,也可能是有機(jī)分子半導(dǎo)體和膠體量??子點(diǎn)單晶,但是在不考慮不同發(fā)光中心內(nèi)部激子行為差異的情況下,溶液工藝??LED所涉及的基元物理過(guò)程類(lèi)似。如圖2.4所示,溶液工藝LED在外加電場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)??下工作時(shí)所涉及的基元物理過(guò)程包括(1)電子和空穴分別從陰極和陽(yáng)極注入??到載流子傳輸/注入層的導(dǎo)帶(或最低未占分子軌道,LUMO)和價(jià)帶(或最高占??據(jù)分子軌道,HOMO)能級(jí),(2)電子和空穴在載流子傳輸/注入層內(nèi)的傳輸,(3)??電子和空穴分別從載流子傳輸/注入層注入到發(fā)光層的導(dǎo)帶(或LUMO)和價(jià)帶??(或HOMO)能級(jí),(4)注入的載流子在發(fā)光中心內(nèi)形成激子,(5)激子在發(fā)光??中心內(nèi)輻射復(fù)合釋放出光子,(6)光子發(fā)射出器件。上述每一個(gè)基元物理過(guò)程幾??乎都會(huì)受到界面層性質(zhì)的影響,并最終影響LED器件的性能。??EQE是衡量LED器件光電轉(zhuǎn)換效率的最核心指標(biāo),它的高低由上述六個(gè)基元??6??
本文編號(hào):3128246
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