近年來(lái),鐵磁性薄膜的電輸運(yùn)性質(zhì)備受人們的青睞。平面霍爾效應(yīng)源于自旋軌道耦合作用,是磁電阻的橫向效應(yīng),在磁傳感器、磁隨機(jī)存儲(chǔ)器和邏輯器件等新型自旋電子學(xué)器件中有巨大的應(yīng)用前景。同時(shí),平面霍爾效應(yīng)對(duì)磁矩的變化十分靈敏,可以作為表征磁疇釘扎、磁化翻轉(zhuǎn)和磁各向異性等磁學(xué)現(xiàn)象的一種研究手段。因此,研究鐵磁性薄膜的平面霍爾效應(yīng)具有一定的實(shí)際應(yīng)用潛力和學(xué)術(shù)價(jià)值。本論文通過(guò)磁控濺射沉積了 Fe80Ni20-O薄膜。我們系統(tǒng)研究了薄膜的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)、靜態(tài)磁學(xué)性質(zhì)和電輸運(yùn)特性,探究了調(diào)控薄膜的磁各向異性的方法、測(cè)量了薄膜的平面霍爾效應(yīng)以及表征面內(nèi)磁化過(guò)程,主要研究?jī)?nèi)容如下:（1）我們通過(guò)傾斜濺射方法,在僅旋轉(zhuǎn)基片且無(wú)誘導(dǎo)磁場(chǎng)的條件下制備了一系列不同薄膜厚度和不同傾斜濺射角度的Fe80Ni200-O薄膜。研究結(jié)果表明Fe80Ni20-O薄膜具有面內(nèi)單軸磁各向異性,且薄膜磁各向異性在0～100 Oe范圍內(nèi)自由可控。隨薄膜厚度的增加,薄膜的單軸磁各向異性場(chǎng)逐漸增加,但矯頑力呈現(xiàn)先減小后增加再減小的規(guī)律。隨薄膜傾斜濺射角度的增加,薄膜的單軸磁各向異性場(chǎng)逐漸增加,矯頑力也逐漸增加。（2）系統(tǒng)研究了外加磁場(chǎng)和電... 

【文章來(lái)源】：廈門大學(xué)福建省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：98 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖１．１不同的疇壁結(jié)構(gòu)（ａ）布洛赫疇壁（ｂ）奈爾疇壁［８］??Ｆｉｇ?１．１?Ｔｈｅ?ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ?ｏｆ?ｄｏｍａｉｎ?ｗａｌｌ?（ａ）?ｉｓ?Ｂｌｏｃｈ?ｄｏｍａｉｎ?ｗａｌｌ?ａｎｄ?（ｂ）?ｉｓ?Ｎｅｅｌ??

圖１．３平面霍爾效應(yīng)測(cè)量的示意圖??Ｆｉｇ?１．３?Ｔｈｅ?ｓｃｈｅｍａｔｉｃ?ｄｉａｇｒａｍ?ｏｆ?ｐｌａｎａｒ?Ｈａｌｌ?ｅｆｆｅｃｔ?ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ??的縱向電場(chǎng)強(qiáng)度為??￡＾１?＝?ｅ丨丨?ｓｉｎ?０?＋?ｅ丄?ｃｏｓ?０?（１－１６＝ｐ丨丨ｊ／丨丨ｓｉｎ?０?＋?ｐ丄義ｌ?ｃｏｓ?０??＝ｊｐ八?１?＋－＾—ｃｏｓ２?０）。??的橫向電場(chǎng)強(qiáng)度為??Ａｙ?＝?ｓｉｎ?０?—?ｃｏｓ０?（１－１７＝Ｐｉｉ７?ｓｉｎ?９?ｃｏｓ?６?—?ｐ±ｊ?ｓｉｎ?６?ｃｏｓ?９??＝）（ｐ丨丨一?ｐ丄）ｓｉｎ?０?ｃｏｓ?０?０??電阻、平面霍爾效應(yīng)分別為縱向電阻率和橫向電阻率，即??

圖１．４本論文的研究思路??Ｆｉｇ?１．４?Ｔｈｅ?ｒｅｓｅａｒｃｈ?ａｐｐｒｏａｃｈ?ｏｆ?ｔｈｉｓ?ｐａｐｅｒ??１．６．３主要內(nèi)容??基于ＰＨＥ在實(shí)際應(yīng)用和磁學(xué)理論的研宄進(jìn)展，本論文的主要內(nèi)容是通過(guò)本??實(shí)驗(yàn)室的磁控濺射設(shè)備，派射沉積具有面內(nèi)單軸磁各向異性的Ｆｅ８〇Ｎｉ２〇－０薄膜，??并通過(guò)ＰＨＥ去表征ＦｅｓｏＮｂｏ－Ｏ薄膜的整個(gè)面內(nèi)磁化過(guò)程。具體內(nèi)容如下：??１、通過(guò)傾斜濺射的方法調(diào)控Ｆｅ８（）Ｎｉ２（）－０薄膜的面內(nèi)磁各向異性場(chǎng)，利用ＶＳＭ??測(cè)量ＦｅｓｏＮｂｏ－Ｏ薄膜靜態(tài)磁學(xué)特性的表征，系統(tǒng)研宄了薄膜厚度、傾斜溉射角度??等因素對(duì)Ｆｅ８〇Ｎｉ２〇－０薄膜的面內(nèi)磁各向異性場(chǎng)的影響。??２、對(duì)ＦｅｓｏＮｂｏ－Ｏ薄膜進(jìn)行圖案化處理，在ＰＰＭＳ中測(cè)量薄膜樣品的電輸運(yùn)??，

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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碩士論文
[1]磁性顆粒膜的高頻軟磁性及顆粒間相互作用[D]. 陳忠強(qiáng).蘭州大學(xué) 2008



本文編號(hào)：3057096