AlN壓電薄膜及AlN/FeNi異質(zhì)結(jié)的制備和性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-01-10 02:35
氮化鋁(A1N)薄膜材料作為一種被廣泛研究的Ⅲ-Ⅴ族化合物,因其具有良好的壓電性、良好的熱穩(wěn)定性和較高的機(jī)電耦合系數(shù)等優(yōu)點(diǎn),使其在磁記錄、傳感技術(shù)和高頻聲波諧振器等微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)被廣泛研究和應(yīng)用。A1N壓電薄膜對(duì)于制備工藝參數(shù)非常敏感,因此高質(zhì)量的A1N壓電薄膜的制備并沒(méi)有成熟的標(biāo)準(zhǔn)工藝參數(shù)。我們嘗試?yán)媒Y(jié)合了磁控濺射和反應(yīng)濺射優(yōu)點(diǎn)的反應(yīng)磁控濺射來(lái)實(shí)現(xiàn)室溫下快速生長(zhǎng)出高質(zhì)量的A1N壓電薄膜。利用反磁電耦合效應(yīng),高質(zhì)量的A1N壓電薄膜在電壓的作用下產(chǎn)生形變可以調(diào)控磁性層的磁矩的取向,可實(shí)現(xiàn)對(duì)信息低功耗和非揮發(fā)的記錄和存儲(chǔ)。本文主要研究了高質(zhì)量C軸擇優(yōu)取向A1N壓電薄膜的制備和AlN/FeNi異質(zhì)結(jié)的界面性質(zhì)以及電場(chǎng)調(diào)控AlN/FeNi異質(zhì)結(jié)的磁矩翻轉(zhuǎn),主要包括以下兩點(diǎn):首先在高真空下利用反應(yīng)磁控濺射在corning玻璃上制備出C軸取向的A1N薄膜,隨后利用自旋波共振技術(shù)研究了壓電/鐵磁AlN/FeNi和FeNi/AIN異質(zhì)結(jié)的界面特性。當(dāng)在樣品面內(nèi)加磁場(chǎng)時(shí),共振波譜上除了觀察到正常的鐵磁共振吸收峰外,還觀察到表面自旋波共振。在低溫下觀察到了高階自旋波,而且當(dāng)外加磁場(chǎng)轉(zhuǎn)離樣品的垂直...
【文章來(lái)源】:蘭州大學(xué)甘肅省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1物質(zhì)磁性的來(lái)源??
峰變?nèi)醯默F(xiàn)象。??據(jù)此,下一步固定結(jié)晶性較好的瓣射功率200?W,氣體流量不變的條件下,??改變瓣射氣壓繼續(xù)制備A1N壓電薄膜。薄膜的X射線衍射圖譜如下圖3.3?(b)??所示。由圖可W看出,當(dāng)瓣射氣壓為0.6化時(shí),樣品呈現(xiàn)出較好的(002)取向,??但依然有很弱的(103)衍射峰出現(xiàn)。當(dāng)進(jìn)一步提高漉射氣壓為0.8?Pa和1.0?Pa??時(shí),(002)衍射峰會(huì)變?nèi),半高寬變大,并且?huì)伴隨者許多其他雜峰的出現(xiàn)。??相對(duì)于0.4?Pa時(shí)制備的樣品,0.6化時(shí)樣品表現(xiàn)出(002)的擇優(yōu)取向,這是起??因于氣壓增大后離子的平均自由程減小也就是說(shuō)合成的A1N分子不再具有??非常高的能量足W破壞己沉積在襯底上的(002)取向的A1N薄膜,X射線衍射??圖上就表現(xiàn)出更強(qiáng)的(002)衍射峰,同時(shí)(103)峰變?nèi)。繼續(xù)増加繊射氣壓,??單位區(qū)域內(nèi)粒子的數(shù)量會(huì)非常大,相互碰撞的概率增大,電離的氮離子和被其轟??擊出的鉛原子tU及二者相互結(jié)合的A1N分子的能量都會(huì)降低,那么沉積在襯底??上時(shí)由于能量較低不能遷移到能量較低的區(qū)域
?A?rfl?r??圖4.1?MOKE測(cè)量的示意圖??MOKE測(cè)量的樣品示意圖如圖4.1所示,我們?cè)谥苽洚愘|(zhì)結(jié)之前先在玻璃襯??底上瓣射5?nm的Cu作為下電極,然后在制備完成異質(zhì)結(jié)后在FeNi上瓣射10?nm??的金屬電極Ta作為上電極。XRD的測(cè)量結(jié)果表明AIN的擇優(yōu)取向依然是C軸??取向,而且制備的異質(zhì)結(jié)依然具有四重磁各向異性。那么我們定義樣品的下面為??正極后在A1N的(002)方向即垂直膜面方向施加不同的電壓,A1N壓電層會(huì)在??電壓的作用下產(chǎn)生形變,根據(jù)電磁調(diào)控的第H種方式-應(yīng)力調(diào)控磁矩翻轉(zhuǎn),形變??的磁致伸縮薄膜FeNi會(huì)發(fā)生磁矩的翻轉(zhuǎn)。圖4.2為測(cè)量的MOKE磁滯回線。由??測(cè)量的結(jié)果可W看出,當(dāng)電場(chǎng)為0V時(shí),磯矩待在一個(gè)易軸方向,磁滯回線呈現(xiàn)??矩形的形狀。電場(chǎng)為2.5?MV/cm時(shí)磁滯回線幾乎沒(méi)有任何的變化,然后加大電場(chǎng),??磁滯回線還是呈現(xiàn)矩形的形狀。隨后施加負(fù)電壓時(shí)可レッ看出回線的形狀是一樣??的。而且各個(gè)不同電壓下測(cè)得的回線的矯頑力He隨著電場(chǎng)的變化也是幾乎沒(méi)有??變化,如圖4.3所示。??-42-??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]直流磁控濺射制備AlN薄膜的結(jié)構(gòu)和表面粗糙度[J]. 鄒文祥,賴珍荃,劉文興. 光子學(xué)報(bào). 2011(01)
[2]磁阻隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(MRAM)的原理與研究進(jìn)展[J]. 吳曉薇,郭子政. 信息記錄材料. 2009(02)
[3]高密度磁記錄介質(zhì)的穩(wěn)定性問(wèn)題及研究進(jìn)展[J]. 郭子政. 信息記錄材料. 2009(01)
[4]多鐵性磁電復(fù)合薄膜[J]. 何泓材,林元華,南策文. 科學(xué)通報(bào). 2008(10)
[5]直流磁控反應(yīng)濺射制備(002)擇優(yōu)取向AlN薄膜[J]. 王質(zhì)武,劉文,楊清斗,衛(wèi)靜婷. 人工晶體學(xué)報(bào). 2006(05)
[6]信息存儲(chǔ)技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展[J]. 張立. 信息記錄材料. 2006(05)
[7]直流磁控反應(yīng)濺射制備硅基AlN薄膜[J]. 于毅,趙宏錦,高占友,任天令,劉理天. 壓電與聲光. 2005(01)
[8]磁記錄技術(shù)的新發(fā)展[J]. 孫維平. 信息記錄材料. 2004(01)
本文編號(hào):2967888
【文章來(lái)源】:蘭州大學(xué)甘肅省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1物質(zhì)磁性的來(lái)源??
峰變?nèi)醯默F(xiàn)象。??據(jù)此,下一步固定結(jié)晶性較好的瓣射功率200?W,氣體流量不變的條件下,??改變瓣射氣壓繼續(xù)制備A1N壓電薄膜。薄膜的X射線衍射圖譜如下圖3.3?(b)??所示。由圖可W看出,當(dāng)瓣射氣壓為0.6化時(shí),樣品呈現(xiàn)出較好的(002)取向,??但依然有很弱的(103)衍射峰出現(xiàn)。當(dāng)進(jìn)一步提高漉射氣壓為0.8?Pa和1.0?Pa??時(shí),(002)衍射峰會(huì)變?nèi),半高寬變大,并且?huì)伴隨者許多其他雜峰的出現(xiàn)。??相對(duì)于0.4?Pa時(shí)制備的樣品,0.6化時(shí)樣品表現(xiàn)出(002)的擇優(yōu)取向,這是起??因于氣壓增大后離子的平均自由程減小也就是說(shuō)合成的A1N分子不再具有??非常高的能量足W破壞己沉積在襯底上的(002)取向的A1N薄膜,X射線衍射??圖上就表現(xiàn)出更強(qiáng)的(002)衍射峰,同時(shí)(103)峰變?nèi)。繼續(xù)増加繊射氣壓,??單位區(qū)域內(nèi)粒子的數(shù)量會(huì)非常大,相互碰撞的概率增大,電離的氮離子和被其轟??擊出的鉛原子tU及二者相互結(jié)合的A1N分子的能量都會(huì)降低,那么沉積在襯底??上時(shí)由于能量較低不能遷移到能量較低的區(qū)域
?A?rfl?r??圖4.1?MOKE測(cè)量的示意圖??MOKE測(cè)量的樣品示意圖如圖4.1所示,我們?cè)谥苽洚愘|(zhì)結(jié)之前先在玻璃襯??底上瓣射5?nm的Cu作為下電極,然后在制備完成異質(zhì)結(jié)后在FeNi上瓣射10?nm??的金屬電極Ta作為上電極。XRD的測(cè)量結(jié)果表明AIN的擇優(yōu)取向依然是C軸??取向,而且制備的異質(zhì)結(jié)依然具有四重磁各向異性。那么我們定義樣品的下面為??正極后在A1N的(002)方向即垂直膜面方向施加不同的電壓,A1N壓電層會(huì)在??電壓的作用下產(chǎn)生形變,根據(jù)電磁調(diào)控的第H種方式-應(yīng)力調(diào)控磁矩翻轉(zhuǎn),形變??的磁致伸縮薄膜FeNi會(huì)發(fā)生磁矩的翻轉(zhuǎn)。圖4.2為測(cè)量的MOKE磁滯回線。由??測(cè)量的結(jié)果可W看出,當(dāng)電場(chǎng)為0V時(shí),磯矩待在一個(gè)易軸方向,磁滯回線呈現(xiàn)??矩形的形狀。電場(chǎng)為2.5?MV/cm時(shí)磁滯回線幾乎沒(méi)有任何的變化,然后加大電場(chǎng),??磁滯回線還是呈現(xiàn)矩形的形狀。隨后施加負(fù)電壓時(shí)可レッ看出回線的形狀是一樣??的。而且各個(gè)不同電壓下測(cè)得的回線的矯頑力He隨著電場(chǎng)的變化也是幾乎沒(méi)有??變化,如圖4.3所示。??-42-??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]直流磁控濺射制備AlN薄膜的結(jié)構(gòu)和表面粗糙度[J]. 鄒文祥,賴珍荃,劉文興. 光子學(xué)報(bào). 2011(01)
[2]磁阻隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(MRAM)的原理與研究進(jìn)展[J]. 吳曉薇,郭子政. 信息記錄材料. 2009(02)
[3]高密度磁記錄介質(zhì)的穩(wěn)定性問(wèn)題及研究進(jìn)展[J]. 郭子政. 信息記錄材料. 2009(01)
[4]多鐵性磁電復(fù)合薄膜[J]. 何泓材,林元華,南策文. 科學(xué)通報(bào). 2008(10)
[5]直流磁控反應(yīng)濺射制備(002)擇優(yōu)取向AlN薄膜[J]. 王質(zhì)武,劉文,楊清斗,衛(wèi)靜婷. 人工晶體學(xué)報(bào). 2006(05)
[6]信息存儲(chǔ)技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展[J]. 張立. 信息記錄材料. 2006(05)
[7]直流磁控反應(yīng)濺射制備硅基AlN薄膜[J]. 于毅,趙宏錦,高占友,任天令,劉理天. 壓電與聲光. 2005(01)
[8]磁記錄技術(shù)的新發(fā)展[J]. 孫維平. 信息記錄材料. 2004(01)
本文編號(hào):2967888
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