發(fā)布時間：2020-12-06 21:53

　　本論文選用具有穩(wěn)定玻璃形成能力的Cu₅₀Zr₅₀二元非晶合金作為研究對象,利用磁控濺射法在石英玻璃基底上制備了非晶合金薄膜,通過X射線衍射（XRD）、掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）、原子力顯微鏡（AFM）等分析測試手段表征了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的微觀結(jié)構(gòu)及表面形貌,通過橢圓偏振儀、紫外-可見分光光度計測試了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的折射率、消光系數(shù)、透射率及吸收率等光學(xué)性能,通過四探針法測試了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的載流子遷移率、電阻率及霍爾系數(shù)等電學(xué)性能,探究了不同磁控濺射時間下Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜微觀結(jié)構(gòu)及光電性能的變化,并對部分樣品在略低于玻璃轉(zhuǎn)變溫度附近進(jìn)行不同溫度的退火處理,研究了退火處理對Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的微觀結(jié)構(gòu)及光電性能的影響。采用XRD及TEM研究了不... 

【文章來源】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)黑龍江省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：70 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

磁控濺射原理圖

哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文ki[26]等人采用高純度合金靶材通過磁控濺射的方法在氧化5Cu5非晶合金薄膜，并同樣在薄膜表面觀察到了尺寸均利用 SEM、AFM、TEM 等分析測試手段研究了薄膜表面特征，發(fā)現(xiàn)納米玻璃由層次化的納米柱結(jié)構(gòu)和玻璃結(jié)合區(qū)量較高，尺寸約為 8nm 左右，其生長主要取決于曲率驅(qū)結(jié)合區(qū) Ti 含量較高，原子密度較小，Ti 元素在界面處的影響。

的力學(xué)性能Cu30Al10Ni10大塊非晶上沉積 Zr 基非晶合金薄剪切帶演化情況，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，沉積了非晶合疲勞極限提高了近 33%，有限元模擬(FEM)成和擴展具有明顯的延緩效應(yīng)，對球形壓痕力再分配可以阻止大塊非晶合金襯底中局部上濺射沉積了厚度為 200-900nm 的 ZrNi 非晶性能與薄膜厚度之間的聯(lián)系，結(jié)果顯示，非為負(fù)相關(guān)規(guī)律，除厚度 400nm 情況外，合金加覆蓋層時，在很薄的非晶合金薄膜中也觀金薄膜斷裂機制主要是由限制塑性區(qū)擴展的射技術(shù)制備不同成分的 Fe-Nb-B 非晶合金薄薄膜性能之間的關(guān)系，結(jié)果表明，B 元素是決，圖 1-3 為 Fe-Nb-B 非晶合金薄膜隨成分變化晶合金相比，F(xiàn)e-Nb-B 非晶合金薄膜強度降

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]微機電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)及發(fā)展趨勢[J]. 王亞珍,朱文堅.  機械設(shè)計與研究. 2004(01)



本文編號：2902087