機(jī)刻光柵鋁薄膜納觀沉積模擬分析及其刻劃研究
【學(xué)位單位】:長春理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TG146.21;TB383.2
【部分圖文】:
一個(gè)環(huán)節(jié)的深入研究與改善,對(duì)逐步提高機(jī)刻光柵質(zhì)量具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。光柵毛坯通常由三部分組成:玻璃基底、中間鍍鉻層和鋁薄膜。中間極薄鍍鉻的存在主要是為了增加薄膜與基底的吸附力,同時(shí)由于機(jī)刻光柵刻槽深,考慮到基效應(yīng)與鍍鉻層的存在,即形成了玻璃—鉻—鋁膜的“三明治”式膜坯結(jié)構(gòu),使光柵械刻劃過程的研究變得更加復(fù)雜。
一個(gè)環(huán)節(jié)的深入研究與改善,對(duì)逐步提高機(jī)刻光柵質(zhì)量具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。光柵毛坯通常由三部分組成:玻璃基底、中間鍍鉻層和鋁薄膜。中間極薄鍍鉻的存在主要是為了增加薄膜與基底的吸附力,同時(shí)由于機(jī)刻光柵刻槽深,考慮到基效應(yīng)與鍍鉻層的存在,即形成了玻璃—鉻—鋁膜的“三明治”式膜坯結(jié)構(gòu),使光柵械刻劃過程的研究變得更加復(fù)雜。
刻光柵是由金剛石刀具在鋁薄膜上刻劃出大量呈周期性排列的凹槽而成,鋁備是光柵機(jī)械刻劃工藝流程的第一步,鋁薄膜鍍制過程形成的微觀組織結(jié)構(gòu)身的力學(xué)屬性,影響刻劃成槽質(zhì)量和光學(xué)反射特性,因此有必要了解鍍制過膜的生長機(jī)理。膜的制備方法及特點(diǎn)膜可以由很多種方法制備,通常將其分為氣相沉積、液相沉積、固相沉積三其中以氣相沉積為主。通過物理和化學(xué)方法可以實(shí)現(xiàn)氣相沉積[27-29]。常用的有:真空蒸鍍、離子鍍膜、濺射鍍制、分子束外延、電弧等離子體鍍等。常氣相沉積方法有熱化學(xué)氣相沉積、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣熱絲化學(xué)氣相沉積、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積和化學(xué)束外延等。理氣相沉積技術(shù)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、航空航天、機(jī)械、電子、建筑等眾多薄膜,該技術(shù)具有耗材少、工藝過程簡單、無污染、成膜均勻致密的特點(diǎn)。機(jī)刻膜采用物理氣相沉積技術(shù)中的真空蒸鍍方法獲得,真空蒸鍍?cè)韴D如圖 2.1
【參考文獻(xiàn)】
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