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碳納米管摻雜的分子印跡聚合物制備與評(píng)價(jià)

發(fā)布時(shí)間:2020-06-06 15:08
【摘要】:分子印跡技術(shù)(molecular imprinting technology)是近年來(lái)出現(xiàn)的通過(guò)人工合成的具有專一識(shí)別位點(diǎn)聚合物的技術(shù)。分子印跡聚合物有特異的識(shí)別能力,就如抗原對(duì)抗體、酶對(duì)底物一樣,分子印跡聚合物對(duì)印跡分子有具專一的識(shí)別性能。與生物實(shí)體相比,分子印跡聚合物具有親和性高、選擇性高、抗惡劣環(huán)境能力強(qiáng)、穩(wěn)定性好、使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)得到了科學(xué)人員的重視。為優(yōu)化其自身特性,可制備新型的分子印跡復(fù)合材料。碳納米管是一種具有特殊結(jié)構(gòu)的材料,其兩端基本上都封口,具有較大的長(zhǎng)徑比,具備許多獨(dú)特的性質(zhì)。碳納米管的表面通常具有一些不飽和鍵,并且表面積比較大。利用其特性可作為儲(chǔ)能材料。碳納米管具有高模量和高強(qiáng)度,將其與他工程材料為基體制成復(fù)合材料,良好的強(qiáng)度、彈性、抗疲勞性及各向同性。碳納米管因其穩(wěn)定的理化性質(zhì),是一種常用填充材料。將碳納米管加入到分子印跡聚合物的制備過(guò)程中,由于碳納米管具有較大比表面積,使印跡聚合物識(shí)別位點(diǎn)的暴露,利于制備過(guò)程中模板的洗脫,提高印跡位點(diǎn)的數(shù)目;碳納米管具有較大空穴,使識(shí)別位點(diǎn)數(shù)目增多分布更加均勻,有效吸附面積增大,對(duì)模板分子的識(shí)別能力增強(qiáng),提高其印跡效能。這種基于碳納米管摻雜的分子印跡聚合物因其化學(xué)穩(wěn)定性安全無(wú)害性而使其能夠應(yīng)用于藥物傳遞系統(tǒng),可作為一種新型的緩控釋復(fù)合材料。目前將碳納米管加入到分子印跡聚合物的制備過(guò)程中,是一種新的研究熱點(diǎn),這種復(fù)合材料可有效結(jié)合碳納米管和分子印跡聚合物的優(yōu)點(diǎn)。這種新型分子印跡聚合物作為藥物載體,聚合物與模板分子通過(guò)氫鍵作用結(jié)合到一起,可有效減慢藥物擴(kuò)散速度,改善其緩控釋性能。這種具有緩控作用的復(fù)合材料作為藥物載體,通過(guò)釋放程序改變藥物釋放體系,這種材料能夠使藥物靶向作用于病灶,在一定時(shí)間內(nèi)使藥物緩慢釋放或零級(jí)釋放,使藥物有平穩(wěn)的血藥濃度。將分子印跡聚合物作為藥物載體,可通過(guò)擴(kuò)散過(guò)程來(lái)控制藥物釋放,這種新型的藥物釋放體系,由于聚合物與模板分子通過(guò)氫鍵作用結(jié)合到一起,使兩者的結(jié)合力增加,減慢藥物釋放速度,因此為分子印跡聚合物作為藥物載體提供可能。在本論文的工作中,制備了一種摻雜碳納米管的分子印跡聚合物,以MAA為功能單體,EDMA為交聯(lián)劑,9-VA輔助單體,制備卡培他濱分子印跡聚合物,通過(guò)吸附實(shí)驗(yàn)評(píng)價(jià)印跡聚合物的印跡效能,再以藥物釋放實(shí)驗(yàn)探究分子印跡聚合物的緩控性能。與CNT/NIPs藥物釋放時(shí)間(1.3 h)相比,CNT/MIPs可穩(wěn)定釋放藥物4 h,說(shuō)明摻雜碳納米管的分子印跡聚合物對(duì)卡培他濱的釋放有一定緩控效果。本論文同時(shí)對(duì)比了新型無(wú)機(jī)納米材料POSS對(duì)分子印跡聚合物識(shí)別性能的影響;同時(shí)在傳統(tǒng)分子印跡聚合物的制備中加入大分子擁擠試劑PMMA和PS,比較不同摻雜種類分子印跡聚合物的選擇性能。結(jié)果表明,用無(wú)機(jī)納米材料POSS替換合成體系中的碳納米管,在該制備體系中,POSS不能有效提高POSS/MIPs的選擇性。在大分子擁擠環(huán)境下制備的PS/MIPs和PMMA/MIPs不能有效提高分子印跡聚合物的選擇性,這可能因?yàn)榇蠓肿訐頂D試劑只能提高特定印跡材料的選擇性能。
【圖文】:

分子印跡聚合物,制備原理


蠱淠芄蛔ㄒ恍允侗鵡0。?1 分子印跡聚合物制備原理圖1.2 分子印跡聚合物制備方法現(xiàn)階段分子印跡聚合物的制備方法有多種,根據(jù)制備過(guò)程中反應(yīng)物的物理狀態(tài),可以分為沉淀聚合法、懸浮聚合法和微乳液聚合法;根據(jù)聚合物合成引發(fā)的方法有原位電聚合法;此外,還有本體聚合法、原位聚合法、表面印跡聚

曲線,分子印跡聚合物,藥物釋放,大分子


分子印跡聚合物制備最早的方法,相比其它制過(guò)程較為簡(jiǎn)單,只需將單體、交聯(lián)劑等反應(yīng)物的作用下即得到塊狀的聚合物[21-22]。此時(shí)要發(fā)揮,就需要進(jìn)行粉碎和研磨,使聚合物成為均勻質(zhì)洗脫,才能得到具有良好識(shí)別性能的分子印聚合物的損失,使聚合物的產(chǎn)率過(guò)低[23];同時(shí)空穴的空間結(jié)構(gòu),導(dǎo)致識(shí)別位點(diǎn)的親和能力下充分,會(huì)導(dǎo)致印跡位點(diǎn)包埋在聚合物內(nèi)部,不附量降低。Tang[24]等在大分子擁擠環(huán)境下,,采用跡聚合物,將制備的分子印跡材料作為氨魯米控制藥物釋放,其釋放曲線復(fù)合零級(jí)釋放模型 20 h,如圖 2,實(shí)驗(yàn)結(jié)構(gòu)表明,在大分子擁擠環(huán)的識(shí)別性能,增強(qiáng)其與模板的作用力。
【學(xué)位授予單位】:天津醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TB383.1;O631.3

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào):2699862


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