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聚合物表面納米蛾眼結(jié)構(gòu)的紫外壓印制備工藝及抗反射性能

發(fā)布時間:2020-03-07 01:46
【摘要】:利用滾對平板(RTP)紫外納米壓印工藝在聚合物薄膜表面成功制備出大面積蛾眼納米結(jié)構(gòu)。通過原子力顯微鏡觀測,可以看出蛾眼納米結(jié)構(gòu)在聚合物表面排布比較規(guī)整,呈乳狀凸起陣列排布。蛾眼結(jié)構(gòu)波峰高度復(fù)制率可以達(dá)到95.2%,表面微結(jié)構(gòu)填充完整,復(fù)制效果良好。與單層鍍膜(AR-coating)抗反射材料相比,抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)反射率測試結(jié)果在可見光波段(380~760nm)反射率平均降到3%。視角在110°左右可見光平均反射率為7%。

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本文編號:2585271

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