銅納米材料的制備及性質(zhì)研究
【圖文】:
氫化鈉(NaBH)、抗壞血酸等在液相中發(fā)生氧化還原反應(yīng),將 Cu2+離子還 Cu 原子,并生長(zhǎng)為不同形貌的納米 Cu。由于納米級(jí)粒子的表面能高,極易團(tuán)聚,為很好地控制其穩(wěn)定性、分散性寸及形貌,通常需要加入表面修飾劑如聚合物、表面活性劑、胺類化合物以酸及其衍生物等對(duì)納米銅的形貌進(jìn)行調(diào)控[49]。.2.1.1 液相化學(xué)還原法制備銅納米線Zeng 等[50]人在堿性溶液中以 Cu(NO3)2為銅的前驅(qū)體,N2H4·H2O 為還原劑二胺(C2H4(NH2)2)為表面修飾劑合成了半徑 90~120nm、長(zhǎng)度為 40~50μm長(zhǎng)納米線,,作者發(fā)現(xiàn)有 Cu(NO3)2、N2H4·H2O、C2H4(NH2)2的比例以及反應(yīng)度都是影響銅納米線形貌的因素,進(jìn)而推動(dòng)了水熱法制備銅納米線方面的。圖 1.1 為 Zeng 等人制備的銅納米線的掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子鏡(TEM)圖片。
作為還原劑,在水為溶劑的條件下室溫?cái)嚢柽^夜,然后在100℃溫度下反應(yīng)6 h,最終得到了平均直徑僅為24+4 nm的銅納米線,使銅納米線的長(zhǎng)徑比上升了一個(gè)層次。圖1.2為Xia等人制備的銅納米線的X射線粉末衍射(XRD)譜圖和SEM與TEM圖片。圖 1.2 銅納米線的 XRD 譜圖以及 SEM 和 TEM 圖片[53]Yan等[54]人以CuCl2作為前驅(qū)體,PVP作為表面修飾劑,N2H4·H2O作為還原劑,在乙醇為溶劑80℃溫度下,通過不斷將前驅(qū)體和表面修飾劑混合液與還原劑同時(shí)抽入反應(yīng)槽進(jìn)行大量合成銅納米線,并將合成的銅納米線制備透明導(dǎo)電膜,為大量生產(chǎn)銅納米材料提供了技術(shù)指導(dǎo)。圖1.3為Yan等人使用的銅納米線制備裝置示意圖。圖 1.3 銅納米線制備裝置示意圖[54]
【學(xué)位授予單位】:浙江理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號(hào)】:TB383.1;O614.121
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2580076
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