本文選題：氮化硅 + 納米孔�。� 參考：《東南大學學報(自然科學版)》2017年02期

【摘要】：通過對影響聚焦離子束濺射氮化硅納米孔的濺射時間和離子束束流2個主要參數(shù)的研究,優(yōu)化了聚焦離子束濺射納米孔加工工藝.提出了利用聚焦離子束對氮化硅薄膜進行減薄后再濺射納米孔的加工工藝.采用該加工工藝不僅可以減小納米孔的直徑和厚度,還可以減小納米孔的錐度.最后利用氮化硅納米孔研究了不同孔徑的納米孔對48 kbλ-DNA過孔姿態(tài)的影響,結(jié)果表明,孔徑較大時,DNA分子過孔存在多種過孔姿態(tài),孔徑越小,DNA分子越容易被拉直過孔.同時針對DNA過孔時引起的阻塞電流,提出了簡易的計算模型.
[Abstract]:Based on the study of the sputtering time and ion beam current of silicon nitride nanopores in focused ion beam sputtering, the fabrication process of focused ion beam sputtering nano-pore was optimized.The fabrication process of silicon nitride thin films by focusing ion beam and then sputtering nano-pores was put forward.This process can not only reduce the diameter and thickness of nano-pore, but also reduce the taper of nano-pore.Finally, the effects of different pore size on the perpore attitude of 48kb 位 -DNA were studied by using silicon nitride nano-pore. The results show that there are many kinds of pore postures when the pore size is larger, and the smaller the pore size is, the easier it is to straighten out the pore size of DNA molecule.At the same time, a simple calculation model is proposed for the blocking current caused by DNA passing through the hole.
【作者單位】： 東南大學微納生物醫(yī)療器械設(shè)計與制造實驗室;重慶三峽學院機械工程學院;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(51375089,51375092)
【分類號】：TB383.1

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本文編號：1731549