本文關(guān)鍵詞： CrMoAlN梯度薄膜 磁控濺射 微觀結(jié)構(gòu) 高溫氧化　出處：《中國有色金屬學(xué)報》2017年07期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：采用非平衡磁控濺射離子鍍技術(shù)在M2工具鋼和單晶Si表面沉積CrMoAlN梯度薄膜,并在靜態(tài)空氣中進行600、700、800、900℃的高溫氧化實驗。采用XRD、SEM、XPS、納米壓痕和劃痕實驗等研究,結(jié)果表明:CrMoAlN薄膜呈現(xiàn)與CrN相似的面心立方結(jié)構(gòu),主要以CrN、AlN和γ-Mo_2N形態(tài)存在。經(jīng)800℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜基本保持常溫時的晶體結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能。隨著氧化溫度繼續(xù)升高,薄膜表層的MoO3加速揮發(fā),破壞由Cr_2O_3和Al_2O_3組成的致密氧化層,薄膜表面出現(xiàn)細小孔隙,薄膜氧化程度加劇。經(jīng)900℃氧化2 h后,CrMoAlN薄膜的力學(xué)性能和膜/基結(jié)合強度均出現(xiàn)明顯下降。
[Abstract]:CrMoAlN gradient films were deposited on the surface of M2 tool steel and single crystal Si by unbalanced magnetron sputtering ion plating technique, and the high temperature oxidation experiments were carried out at 600,700,800,900 鈩，

本文編號：1509296