本文關(guān)鍵詞： ELID溝道成形磨削 氧化膜 磨削力 表面粗糙度　出處：《宇航材料工藝》2017年04期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：針對(duì)ELID溝道成形磨削特點(diǎn),研究了磨削過(guò)程中氧化膜的特性及其影響作用。探討分析了氧化膜的電流表征、氧化膜在溝道成形磨削中的狀態(tài)變化以及氧化膜狀態(tài)對(duì)磨削力和表面粗糙度的影響。實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,電解電流從1 A增長(zhǎng)到4 A,氧化膜厚度從35.33!m減小到11.07!m,法向磨削力從7.06 N增長(zhǎng)到36.12 N,切向磨削力從1.62 N增長(zhǎng)到4.47 N;垂直于磨削方向的表面粗糙度由0.256!m增長(zhǎng)到0.355!m,平行于磨削方向的表面粗糙度由8 nm增長(zhǎng)到13 nm。結(jié)果表明,氧化膜越厚,磨削力和表面粗糙度越小;氧化膜越薄,磨削力和表面粗糙度越大。
[Abstract]:According to the characteristics of ELID channel forming grinding, the characteristics of oxide film and its influence on grinding process are studied, and the current characterization of oxide film is discussed. The influence of oxide film state on grinding force and surface roughness. The electrolytic current increased from 1 A to 4 A and the thickness of oxide film increased from 35.33 to 4A. M reduced to 11.07! M, normal grinding force increased from 7.06 N to 36.12 N, tangential grinding force increased from 1.62 N to 4.47 N, surface roughness perpendicular to grinding direction increased from 0.256! M to 0.355! The results show that the thicker the oxide film is, the smaller the grinding force and surface roughness are, and the thinner the oxide film is, the greater the grinding force and surface roughness are.
【作者單位】： 天津大學(xué)機(jī)構(gòu)理論與裝備設(shè)計(jì)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：天津市自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目“基于工件陰極的軸承外圈溝道ELID成形磨削機(jī)理”(15JCZDJC39500)
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： 0引言近年來(lái)隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,硬質(zhì)合金、工程陶瓷、淬火鋼及光學(xué)玻璃等硬脆材料被廣泛應(yīng)用于航空航天、儀器儀表、機(jī)械、電子等領(lǐng)域。然而由于硬脆材料的高硬度和高脆性,采用傳統(tǒng)成形磨削加工十分困難[1-2]。將ELID技術(shù)應(yīng)用于硬脆材料成形磨削加工,可以很好地解決磨削過(guò)程

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3 丁凱;傅玉燦;蘇宏華;徐九華;宮小北;;C/SiC復(fù)合材料組織對(duì)磨削力與加工表面質(zhì)量的影響[J];中國(guó)機(jī)械工程;2013年14期

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本文編號(hào)：1453780