本文關(guān)鍵詞：靶材成分對(duì)磁控濺射PTFE超疏水薄膜的影響　出處：《表面技術(shù)》2017年09期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 磁控濺射 聚四氟乙烯 薄膜 靶材 透光率 超疏水

【摘要】：目的了解靶材成分對(duì)磁控濺射PTFE薄膜性能的影響,以提升PTFE薄膜疏水性能。方法采用射頻磁控濺射技術(shù),在玻璃基片上一步制備了透明超疏水聚四氟乙烯薄膜,并研究了不同PTFE靶材對(duì)薄膜的影響。利用X射線光電子能譜儀(XPS)、接觸角測(cè)試儀(Drop Meter)、紫外-可見分光光度計(jì)(UV-Vis)分別對(duì)靶材和薄膜的性能進(jìn)行研究。結(jié)果兩靶材的氟碳官能團(tuán)含量有明顯差異,且靶材1含有CF2O,靶材2中不含。靶材的成分影響了PTFE的濺射率,靶材1的濺射率為靶材2的2倍。相同濺射時(shí)間下,靶材不同的薄膜厚度不同,從而表現(xiàn)出不同的靜態(tài)水接觸角。薄膜的疏水性能與薄膜厚度呈現(xiàn)指數(shù)關(guān)系,最終穩(wěn)定在170°水接觸角平臺(tái)。同時(shí),濺射過程中,F離子刻蝕到玻璃基底而引入了Na F,但薄膜中Na F和氟碳基團(tuán)的含量與靶材成分相關(guān)。薄膜中Na F的存在,提升了薄膜的F/C比,降低了薄膜表面能,提升了其疏水性能,但降低了薄膜的可見光透過率。結(jié)論一步制備透明超疏水聚四氟乙烯薄膜的技術(shù)具有廣泛應(yīng)用前景,了解靶材成分對(duì)薄膜性能的影響具有重要指導(dǎo)意義。
[Abstract]:Objective to investigate the effect of target composition on the properties of PTFE films prepared by magnetron sputtering in order to improve the hydrophobic properties of PTFE films. Transparent super-hydrophobic PTFE films were prepared on glass substrates, and the effects of different PTFE targets on the films were investigated. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was used. Contact angle tester drop Meter. Ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-Vis) was used to study the properties of target and film respectively. Results the content of fluorocarbon functional groups in the two targets was significantly different and target 1 contained CF2O. The composition of target material affects the sputtering rate of PTFE, and the sputtering rate of target 1 is 2 times as high as that of target 2. At the same sputtering time, different film thickness of target is different. The hydrophobicity of the film is exponentially related to the thickness of the film, and it is stabilized in the 170 擄water contact angle platform. At the same time, during the sputtering process. F ion etched into glass substrate and introduced Na F, but the content of Na F and fluorocarbon groups in the film was related to the target composition. The presence of Na F in the film enhanced the F / C ratio of the film. The surface energy and hydrophobicity of the films were reduced, but the visible light transmittance of the films was decreased. Conclusion the technology of one-step preparation of transparent super-hydrophobic PTFE thin films has a wide application prospect. It is important to understand the effect of target composition on film properties.
【作者單位】： 重慶大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51377177)~~
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： Received:2017-03-25;Revised:2017-04-25film thickness varied with target provided with the same sputtering time,thus exhibiting different static water contact angles.Film hydrophobicity exhibited an exponential relationship with film thickness,and finally

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 王莊林;;薄膜科技:人類未來的“生活之鑰”[J];發(fā)明與創(chuàng)新(綜合版);2009年01期

2 崔彩娥,繆強(qiáng),潘俊德;薄膜與基體間的附著力測(cè)試[J];電子工藝技術(shù);2005年05期

3 張恒光;楊福馨;盧葉;;熱能觸發(fā)式變色薄膜研制和性能的研究[J];包裝工程;2013年11期

4 但迪迪;張德銀;李坤;謝太斌;李金華;;不同下電極對(duì)Sol-Gel LiTaO_3薄膜性能的影響[J];江蘇工業(yè)學(xué)院學(xué)報(bào);2008年01期

5 王輝;梁紅櫻;張欣苑;趙海波;文季秋;;TiN-TiN/CrN-CrN薄膜的制備及應(yīng)用研究[J];工具技術(shù);2009年10期

6 安其;王紅雪;陳素君;;用于制備ZnO薄膜的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積設(shè)備的研制[J];真空;2010年06期

7 李海敏;郭紅力;李雪冬;劉果;肖定全;朱建國(guó);;不同退火方式對(duì)0.7BiFeO_3-0.3PbTiO_3薄膜的鐵電性能及漏電流的影響[J];無機(jī)材料學(xué)報(bào);2011年10期

8 喻志農(nóng);相龍鋒;李玉瓊;薛唯;;SiO_2緩沖層對(duì)柔性ITO薄膜特性的影響[J];稀有金屬材料與工程;2009年03期

9 閻有花;劉迎春;方玲;盧志超;周少雄;李正邦;;硫分壓對(duì)光吸收層CuInS_2薄膜性能的影響[J];稀有金屬材料與工程;2009年05期

10 孫義明,周建剛,彭少賢,酈華興,胡玉琴;薄膜用聚乙烯醇改性的研究現(xiàn)狀及進(jìn)展[J];包裝工程;2004年03期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 ;論文展示 七、薄膜與厚膜制備技術(shù)與科學(xué)[A];第十四屆全國(guó)高技術(shù)陶瓷學(xué)術(shù)年會(huì)摘要集[C];2006年

2 文峰;黃楠;孫鴻;劉艷文;;直流磁過濾弧源沉積合成不同N分壓下的C:N薄膜性能研究[A];第五屆全國(guó)表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2004年

3 吳艷萍;冷永祥;黃楠;白彬;張鵬程;;基體偏壓對(duì)CrN_x薄膜性能影響研究[A];TFC'07全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年

4 王錦標(biāo);杜一帥;楊蘋;黃楠;;退火對(duì)于氧化鈦薄膜表面化學(xué)態(tài)和表面能的影響[A];2010中國(guó)·重慶第七屆表面工程技術(shù)學(xué)術(shù)論壇暨展覽會(huì)論文集[C];2010年

5 楊小飛;方亮;殷波;;退火處理對(duì)溶膠-凝膠法制備AZO薄膜性能的影響[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

6 彭香藝;劉偉;吳瓊;蔡瑜琨;莫曉亮;陳國(guó)榮;;噴霧熱解法制備CuInS_2薄膜[A];第八屆華東三省一市真空學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2013年

7 曹麗冉;陳新亮;薛俊明;張德坤;孫建;趙穎;耿新華;;氧分壓對(duì)低溫制備In_2O_3:Sn薄膜性能的影響[A];第十屆中國(guó)太陽能光伏會(huì)議論文集：迎接光伏發(fā)電新時(shí)代[C];2008年

8 丁曉峰;韓東麟;張弓;莊大明;;硒化溫度對(duì)CuInSe_2薄膜性能的影響[A];TFC'05全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2005年

9 沈臘珍;胡明;吳曉恩;古美良;劉業(yè);;電磁屏蔽導(dǎo)電聚吡咯薄膜的研究[A];2006年全國(guó)功能材料學(xué)術(shù)年會(huì)專輯（Ⅲ）[C];2006年

10 王利霞;李建平;何秀麗;高曉光;;用于微測(cè)輻射熱計(jì)的二氧化釩薄膜的制備[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)第六屆全國(guó)會(huì)員代表大會(huì)暨學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2004年

相關(guān)博士學(xué)位論文 前5條

1 郝常山;磁控濺射ZnO:Al(H)薄膜中的缺陷對(duì)電學(xué)性能和光學(xué)性能的影響機(jī)制研究[D];中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué);2013年

2 孫智勇;層狀無機(jī)超分子材料取向薄膜的組裝及性能研究[D];北京化工大學(xué);2012年

3 王佃剛;脈沖激光沉積羥基磷灰石/生物玻璃復(fù)合薄膜的研究[D];山東大學(xué);2009年

4 徐任信;壓電陶瓷/聚合物復(fù)合材料薄膜的極化與性能研究[D];武漢理工大學(xué);2005年

5 李汝冠;低損耗BZN/BST介電薄膜及微波變?nèi)莨芗夹g(shù)研究[D];電子科技大學(xué);2013年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條

1 高鳳全;TiO_2薄膜的制備、改性及其光催化性能研究[D];南京理工大學(xué);2015年

2 趙騎;柔性透光自清潔薄膜的制備及性能研究[D];蘭州大學(xué);2015年

3 盧鑫;SrMnO_3薄膜的制備及物性研究[D];蘇州大學(xué);2015年

4 吳冷西;Ni-Ti-Hf高溫形狀記憶合金薄膜的制備與表征[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

5 王苗;基于穩(wěn)定固溶體團(tuán)簇模型的無擴(kuò)散阻擋層Cu-Ni-M三元薄膜[D];大連理工大學(xué);2015年

6 邵茜;擴(kuò)散工藝制備TiNi薄膜和Ti/Ni擴(kuò)散偶及Ti-Ni系互擴(kuò)散行為的研究[D];上海交通大學(xué);2015年

7 陳紅麗;銅鋅錫硫硒薄膜的硒化工藝及其光電性能研究[D];河南大學(xué);2015年

8 韓皓;共濺射法制備Cu_2ZnSnS_4薄膜相組成及微觀組織結(jié)構(gòu)優(yōu)化[D];北京有色金屬研究總院;2016年

9 張玉蕾;NBT基無鉛薄膜的壓電和儲(chǔ)能性能[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2016年

10 丁帥;BTO薄膜的制備及其調(diào)制器應(yīng)用的基礎(chǔ)研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2016年

，

本文編號(hào)：1416001