本文關(guān)鍵詞：柔性太陽(yáng)能高反射材料的制備關(guān)鍵技術(shù)與性能研究　出處：《華南理工大學(xué)》2016年碩士論文　論文類型：學(xué)位論文

  更多相關(guān)文章： MEVVA離子注入 磁過濾陰極弧沉積 磁控濺射 高反射材料 性能研究

【摘要】：太陽(yáng)能作為一種新型清潔能源,具有綠色環(huán)保不污染環(huán)境、能量高、范圍遍及全球等優(yōu)點(diǎn)。特別是在當(dāng)前世界各國(guó)面臨能源日益緊缺的情況下,人們已把太陽(yáng)能作為現(xiàn)代主要新能源之一。因此,利用太陽(yáng)能實(shí)現(xiàn)人類歷史上的能源變革,已成為今后能源開發(fā)的主要趨勢(shì)之一。太陽(yáng)能光熱發(fā)電是太陽(yáng)能利用主流方式之一,但其效率受制于核心部件聚光系統(tǒng),具有優(yōu)異可成型性和高反射率的柔性高反射薄膜材料是解決這一問題的較好方法。本文利用MEVVA離子注入對(duì)聚碳酸酯(PC)表面進(jìn)行銅離子注入改性,以提高反射膜與基材的結(jié)合強(qiáng)度和相關(guān)性能,對(duì)離子改性前后的PC表面化學(xué)組成、力學(xué)性能以及潤(rùn)濕性能進(jìn)行了研究。在注入改性的基礎(chǔ)上,利用磁過濾陰極真空弧技術(shù)(FCVAD)在其表面鍍制一層金屬鋁反射膜,探討了工藝參數(shù)弧流、負(fù)壓、占空比、沉積庫(kù)倫數(shù)對(duì)膜層反射率的影響,確定鋁膜的最佳工藝參數(shù)和厚度。并在此基礎(chǔ)上,用磁控濺射在鋁膜表面鍍制二氧化硅(SiO2)保護(hù)層,探索該保護(hù)層的最佳厚度以及厚度對(duì)材料反射率的影響。最后對(duì)柔性高反射材料的耐老化和耐摩擦等綜合性能進(jìn)行了研究。結(jié)果表明:改性后的PC材料表面硬度、潤(rùn)濕性等都有不同程度的提高,表面粗糙度減小,改性后的PC表面化學(xué)組成發(fā)生了明顯變化。鋁膜的反射性能主要與制備工藝參數(shù)有關(guān),其對(duì)反射性能的影響主要是影響鋁膜的空間結(jié)構(gòu)、致密度和成膜粒子大小。其中最佳制備參數(shù)為:弧流=100 A,負(fù)壓=400 V,占空比=10%,沉積庫(kù)倫數(shù)=1.2×104mc,此時(shí)鋁膜厚度為75 nm。SiO2保護(hù)層的最佳厚度為160 nm,此時(shí)該柔性反射材料的可見光反射率和太陽(yáng)光反射率分別為88.07%和89.32%,并具有良好的膜基結(jié)合力、耐摩擦和耐老化等性能。最后,采用FCVAD和磁控濺射兩種薄膜制備技術(shù)在玻璃基材上制得厚度分別為75nm和165nm Glass/Al高反射薄膜,研究了薄膜的反射率、表面形貌、耐摩擦和耐老化等性能。結(jié)果表明:在雙方工藝都優(yōu)化的條件下,FCVAD技術(shù)制備的鋁膜性能要優(yōu)于磁控濺射制備同厚度的鋁膜。
【學(xué)位授予單位】：華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TB34

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本文編號(hào)：1325731