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厚度對TiN薄膜力學(xué)性能的影響

發(fā)布時(shí)間:2017-10-18 21:48

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【摘要】:采用電弧離子鍍方法制備了不同厚度TiN薄膜,并對其硬度、結(jié)合力、殘余應(yīng)力、摩擦磨損特性等力學(xué)性能進(jìn)行了系統(tǒng)性研究,以揭示硬質(zhì)薄膜厚度對其力學(xué)性能的影響規(guī)律。結(jié)果表明,隨著厚度增加,薄膜表面大顆粒增加,膜基界面剪切力增大,薄膜硬度逐漸增加,結(jié)合力逐漸下降,摩擦系數(shù)略有下降;而薄膜應(yīng)力沿層深分布趨勢基本一致,都呈鐘罩形分布;磨損率隨薄膜厚度變化不大,即薄膜越厚越耐磨。
【作者單位】: 華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院深圳現(xiàn)代設(shè)計(jì)與制造技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;廣東正德材料表面科技有限公司華南理工大學(xué)中山材料表面工程與薄膜技術(shù)創(chuàng)新研發(fā)中心;
【關(guān)鍵詞】硬質(zhì)薄膜 力學(xué)性能 薄膜厚度 TiN 殘余應(yīng)力
【基金】:國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(No.51401128) 深圳市科技計(jì)劃項(xiàng)目(No.JCYJ20140508155916426) 中山市科技計(jì)劃與創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)項(xiàng)目
【分類號】:TB383.2
【正文快照】: Ti N硬質(zhì)薄膜因其具有優(yōu)異的物理及化學(xué)性能,是目前工業(yè)上研究和應(yīng)用最為廣泛的薄膜材料之一[1-3]。電弧離子鍍技術(shù)是制備Ti N薄膜的主要方法之一,它具有離化率高、沉積速率快、粒子能量大、成膜附著力高等優(yōu)點(diǎn);但由于靶材表面在蒸發(fā)離化時(shí)容易產(chǎn)生大顆粒,這會(huì)導(dǎo)致薄膜形成很

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