近期集成電路領(lǐng)域值得關(guān)注的幾個(gè)動(dòng)向
本文選題:中國(guó)集成電路 + 產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整 ; 參考:《集成電路應(yīng)用》2015年12期
【摘要】:魏少軍教授在2015北京微電子國(guó)際研討會(huì)上以《近期集成電路領(lǐng)域值得關(guān)注的幾個(gè)動(dòng)向》為題發(fā)表演講,內(nèi)容包括集成電路進(jìn)入成熟期,摩爾定律半導(dǎo)體工藝持續(xù)發(fā)展,系統(tǒng)整機(jī)開(kāi)始重新關(guān)注芯片,全球集成電路進(jìn)入新一輪調(diào)整。本文是魏少軍教授此次演講的實(shí)錄。
[Abstract]:Professor Wei Shaojun delivered a speech at the 2015 Beijing International Symposium on Microelectronics entitled "several recent Trends in the Field of Integrated Circuits", which included the maturing stage of integrated circuits and the continuous development of Moore's Law semiconductor technology. The whole system began to focus on the chip, the global integrated circuit into a new round of adjustment. This article is the actual record of Professor Wei Shaojun's speech.
【作者單位】: 中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì);
【分類(lèi)號(hào)】:F426.63
【相似文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前10條
1 PAUL KEMPF ,佳木;無(wú)線產(chǎn)品半導(dǎo)體工藝的選擇[J];今日電子;2005年06期
2 楊洪林;半導(dǎo)體工藝中的光加熱[J];半導(dǎo)體技術(shù);1987年05期
3 何德湛,閔靖,,曾慶光;半導(dǎo)體工藝線上的C-t檢測(cè)及其應(yīng)用[J];半導(dǎo)體技術(shù);1994年03期
4 ;半導(dǎo)體工藝技術(shù)[J];微電子學(xué);1994年05期
5 顏燕;半導(dǎo)體工藝技術(shù)與半導(dǎo)體設(shè)備的關(guān)系[J];微電子技術(shù);2002年03期
6 李世興;;0.4~0.25μm時(shí)代的半導(dǎo)體工藝技術(shù)[J];電子與封裝;2002年05期
7 陳忠民;回顧半導(dǎo)體工藝前行的腳步[J];個(gè)人電腦;2005年10期
8 齊領(lǐng);恩云飛;;半導(dǎo)體工藝新發(fā)展概述[J];電子產(chǎn)品可靠性與環(huán)境試驗(yàn);2008年03期
9 王彩琳;;“半導(dǎo)體工藝原理”教學(xué)方法的改革[J];電氣電子教學(xué)學(xué)報(bào);2011年01期
10 吳允弘;1983年國(guó)際半導(dǎo)體工藝與生產(chǎn)展覽會(huì)[J];固體電子學(xué)研究與進(jìn)展;1984年01期
相關(guān)會(huì)議論文 前1條
1 端木慶鐸;田景全;姜德龍;李野;盧耀華;富麗晨;;用半導(dǎo)體工藝制作硅微通道板[A];第一屆全國(guó)納米技術(shù)與應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2000年
相關(guān)重要報(bào)紙文章 前8條
1 宋丁儀 DigiTimes;半導(dǎo)體工藝周期性變革 造就新贏家[N];電子資訊時(shí)報(bào);2007年
2 薩支唐口述 詩(shī)文整理;半導(dǎo)體工藝進(jìn)入納米時(shí)代遭遇基本物理學(xué)極限[N];電子資訊時(shí)報(bào);2004年
3 宋丁儀;半導(dǎo)體工藝微縮 EDA與時(shí)俱進(jìn)[N];電子資訊時(shí)報(bào);2007年
4 ;國(guó)內(nèi)FPGA如何因地制宜[N];中國(guó)電子報(bào);2013年
5 宋丁儀 DigiTimes;SoI會(huì)成主流嗎?[N];電子資訊時(shí)報(bào);2007年
6 葉甜春;90/65/45納米半導(dǎo)體工藝——IT產(chǎn)業(yè)新的起跑線[N];計(jì)算機(jī)世界;2003年
7 ;增值服務(wù)通向雙贏[N];中國(guó)電子報(bào);2008年
8 劉永;SoC與SiP共存態(tài)勢(shì)日趨明顯[N];電子資訊時(shí)報(bào);2008年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前3條
1 蔡霆;有關(guān)半導(dǎo)體工藝中離子注入能量的研究[D];復(fù)旦大學(xué);2009年
2 劉劍峰;紅外與太赫茲波衍射器件的設(shè)計(jì)與制作[D];華中科技大學(xué);2012年
3 呂祥飛;淺溝道隔離層小球狀缺陷的改善研究[D];上海交通大學(xué);2009年
本文編號(hào):2081483
本文鏈接:http://sikaile.net/jingjilunwen/gongyejingjilunwen/2081483.html