本文關(guān)鍵詞：襯底材料對Ti膜形貌及結(jié)構(gòu)的影響

  更多相關(guān)文章： 襯底 儲氫薄膜 電子束熱蒸發(fā) 形核 薄膜生長

【摘要】：使用電子束蒸發(fā)法在拋光Mo、石英和單晶硅襯底上沉積Ti薄膜,并用SPM、XRD及SEM對襯底及薄膜的表面形貌和微觀結(jié)構(gòu)進行了分析。結(jié)果表明:Ti膜的表面形貌和微觀結(jié)構(gòu)受襯底材料影響較大。拋光Mo襯底上的Ti膜表面有微小起伏,斷面處發(fā)現(xiàn)Ti膜先在襯底形核,后以柱狀顆粒的形式豎直向上生長;拋光石英襯底上的Ti膜表面平整,顆粒與界面清晰可見,在界面處有一層等軸晶;粗糙度最低的單晶硅基片上沉積的Ti膜表面反而最粗糙,通過XRD分析發(fā)現(xiàn)有TiSi_2的峰存在。
【作者單位】： 中國工程物理研究院;
【關(guān)鍵詞】： 襯底 儲氫薄膜 電子束熱蒸發(fā) 形核 薄膜生長
【基金】：中國工程物理研究院科學(xué)技術(shù)發(fā)展基金項目(2011B0103015)
【分類號】：TB383.2
【正文快照】： 固態(tài)薄膜以其獨特的性質(zhì)和功能受到人們越來越多的重視,影響膜結(jié)構(gòu)的因素有沉積方式[1]、襯底結(jié)構(gòu)、襯底溫度[2]以及沉積速率[3]等。Ti薄膜具有良好的儲氫性能[4],抗氫脆性能力強,材料豐度高成本較低廉,作為儲氫材料廣泛用于工業(yè)生產(chǎn)。同時Ti的氫同位素效應(yīng)也使其成為核工業(yè)中

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本文編號：993686