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高保真印刷防偽設(shè)計中的微鏡陣列技術(shù)

發(fā)布時間:2017-10-06 15:41

  本文關(guān)鍵詞:高保真印刷防偽設(shè)計中的微鏡陣列技術(shù)


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【摘要】:快速的經(jīng)濟和科學(xué)技術(shù)發(fā)展,商品市場日漸繁榮,同時,假冒產(chǎn)品普遍存在,一旦流入市場必定會給人民帶來極大經(jīng)濟損失,嚴(yán)重影響社會秩序。因此,必須提高產(chǎn)品的防偽特性,使其難以被偽造。微鏡陣列成像技術(shù)是一種新型光學(xué)成像防偽技術(shù),此技術(shù)通過直接浮雕或在線印刷產(chǎn)生微鏡陣列結(jié)構(gòu),利用光的定向反射設(shè)計形成具有特定光變效果的圖像。現(xiàn)有構(gòu)成微鏡陣列成像技術(shù)的微鏡像元曲面結(jié)構(gòu)適合于進(jìn)行四種或以下顏色值的編碼,本文以高保真印刷品的高于四種顏色值為調(diào)節(jié)參數(shù),建立新曲面結(jié)構(gòu)的微鏡像元模型。根據(jù)余弦或余弦積組成的微鏡模型能滿足防偽光變圖像亮度與穩(wěn)定性要求,本文采用兩個余弦函數(shù)的積建立了雙余弦曲面結(jié)構(gòu)微鏡像元模型,對模型的模擬分析表明,所建立的rgbs Q微鏡像元模型,顏色值RGB不僅可用作編碼色,也可以作為結(jié)構(gòu)防偽設(shè)計和方向防偽參數(shù),模型不僅受(r,g,b,s)值調(diào)節(jié),也受Q值控制。所建立的模型可對五種顏色進(jìn)行編碼,適用于高保真印刷品防偽設(shè)計。利用正弦和余弦函數(shù)的冪級數(shù)展開方法和簡諧函數(shù)的線性疊加原理,建立了兩個八參數(shù)曲面結(jié)構(gòu)光變防偽微鏡像元模型。模擬分析表明,隨著c r Smyk gb參數(shù)的改變,微鏡像元結(jié)構(gòu)的表面精細(xì)程度、微結(jié)構(gòu)高度和防偽信息的顯示角度等特征均有變化,形成具有不同反射特性的微鏡像元,呈現(xiàn)出豐富的光學(xué)變化效果。本文建立的微鏡像元模型所形成的微鏡陣列具有明顯的深度特性,能夠利用高保真印刷品的多種顏色信息對微鏡像元表面形狀以及傾斜角度和方向進(jìn)行調(diào)節(jié),防偽編碼方式多變且不易被人掌握,所形成的光變圖像難以被復(fù)制,在普通光照下,通過肉眼就能快速識別,增強了防偽的可靠性和獨特性。可采用印刷方式進(jìn)行生產(chǎn),光變圖像制造成本大幅降低,同時為高保真印刷品的防偽設(shè)計提供了新的參考和理論依據(jù)。
【關(guān)鍵詞】:微鏡像元模型 防偽光變圖像 微鏡陣列 高保真印刷
【學(xué)位授予單位】:江南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:TP391.41;TB481
【目錄】:
  • 摘要3-4
  • Abstract4-7
  • 第一章 緒論7-16
  • 1.1 研究背景及意義7-8
  • 1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀8-14
  • 1.2.1 國外研究現(xiàn)狀8-13
  • 1.2.2 國內(nèi)研究現(xiàn)狀13-14
  • 1.3 本文研究內(nèi)容14-15
  • 1.4 論文結(jié)構(gòu)15-16
  • 第二章 微鏡像元成像原理與研究進(jìn)展16-24
  • 2.1 微鏡像元反射光線方程16-19
  • 2.2 微鏡像元成像方程19-20
  • 2.3 微鏡像元模型研究進(jìn)展20-22
  • 2.3.1 RGB印刷微鏡模型21
  • 2.3.2 CMYK印刷微鏡模型21-22
  • 2.4 本章小結(jié)22-24
  • 第三章 微鏡陣列光變圖像24-30
  • 3.1 掩模的設(shè)計24-25
  • 3.2 雙通道光變圖像25-28
  • 3.3 光學(xué)效果28-29
  • 3.4 本章小結(jié)29-30
  • 第四章 微鏡像元模型和防偽標(biāo)識30-42
  • 4.1 雙余弦曲面結(jié)構(gòu)微鏡像元模型30-35
  • 4.1.1 微鏡像元模擬與分析31-33
  • 4.1.2 微鏡陣列防偽標(biāo)識模擬與分析33-35
  • 4.2 高次級數(shù)曲面結(jié)構(gòu)微鏡像元模型35-40
  • 4.2.1 六次冪微鏡像元模型35-36
  • 4.2.2 四次冪微鏡像元模型36-37
  • 4.2.3 微鏡像元模擬與分析37-39
  • 4.2.4 微鏡陣列防偽標(biāo)識模擬與分析39-40
  • 4.3 防偽標(biāo)識制造流程40-41
  • 4.4 本章小結(jié)41-42
  • 第五章 結(jié)論與展望42-44
  • 5.1 主要結(jié)論42-43
  • 5.2 展望43-44
  • 致謝44-45
  • 參考文獻(xiàn)45-47
  • 附錄: 作者在攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表的論文47

【參考文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 邢明;羅亞明;;食品納米包裝與防偽技術(shù)綜合應(yīng)用的探究[J];包裝工程;2007年05期

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3 劉真;周倩;朱明;;高保真多色分色模型中間色的設(shè)置[J];包裝工程;2011年15期

4 田敏雄;沈慶宏;曹鳳蓮;都思丹;;基于圖像空間變換和插值運算的投影儀梯形校正法[J];電子測量技術(shù);2007年03期

5 王曉利,趙達(dá)尊,張靜方,朱軍,劉瑩;二次再現(xiàn)全息圖[J];光學(xué)技術(shù);2002年04期

6 陳林森,解劍峰,陸志偉,沈雁,邵潔,汪振華,胡元;具有存儲功能的衍射圖像光刻系統(tǒng)的研制[J];光學(xué)學(xué)報;2005年03期

7 孫劉杰;莊松林;;雙隨機相位加密同軸傅里葉全息水印防偽技術(shù)[J];光學(xué)學(xué)報;2007年04期

8 周小紅;陳林森;邵潔;魏國軍;;消色散光變圖像的二元光學(xué)設(shè)計與制作方法[J];光子學(xué)報;2006年11期

9 唐鋮;張逸新;吳光遠(yuǎn);;CMYK防偽印刷微鏡陣列[J];光學(xué)技術(shù);2012年05期

10 張為國;董小春;杜春雷;;微透鏡列陣成像光刻技術(shù)[J];紅外與激光工程;2010年03期

中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 唐鋮;印刷防偽設(shè)計中的微鏡陣列研究[D];江南大學(xué);2013年



本文編號:983593

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