GaN:Er及相關材料光學性質和結構研究
本文關鍵詞:GaN:Er及相關材料光學性質和結構研究
【摘要】:稀土離子摻雜的GaN材料在光學、電學、磁學方面均有優(yōu)異的特性,成為目前的研究熱點。在所有的稀土離子中,稀土Er離子除了可以在紅外波段發(fā)出1540nm的光,該波長對應于光纖通訊中光損失的最小波段,在綠光波段也存在發(fā)光,商業(yè)應用價值較高,因而稀土Er摻雜的GaN研究最受關注。本文采用離子注入方法制備了一系列Er、Pr、Tm稀土離子注入的GaN薄膜,并研究了稀土離子注入后Ga N薄膜的光學性質以及結構性質。主要內容如下:一、采用離子注入的方法,制備了一系列不同Er離子劑量的GaN薄膜材料,并在不同氣氛、溫度下進行了退火處理。研究了退火溫度和退火氣氛對GaN:Er薄膜發(fā)光性能的影響,并獲得了最為優(yōu)化的離子注入及退火條件。深入研究了GaN:Er陰極熒光中的發(fā)光猝滅現象:當Er離子的注入劑量達到1×10~(15)at/cm~2時,Er離子發(fā)光強度最高;當Er離子注入劑量增加到5×10~(15)at/cm~2時,將出現發(fā)光猝滅現象。二、研究了GaN以及GaN:Er薄膜材料不同溫度以及不同加速電壓下的光學性質。研究發(fā)現:在帶邊峰附近,DAP與D~0X兩種模式之間存在競爭機制,當加速電壓增加,DAP發(fā)光峰發(fā)生藍移。深入分析了溫度變化對GaN:Er薄膜發(fā)光性能的影響,通過計算得出GaN:Er薄膜中自由激子的束縛能為32meV;當溫度低于182K時,~2H11/2能級尚未被熱活化,不出現538nm的發(fā)光峰,但是能觀察到明顯的黃帶發(fā)光;當溫度繼續(xù)升高,黃帶逐漸消失,并發(fā)現~2H_(11/2)與~4S_(3/2)兩激發(fā)態(tài)能級之間存在熱耦合。373K下仍然能觀察到Er離子538nm的發(fā)光,說明GaN:Er材料有希望應用在高溫環(huán)境中。三、在GaN外延膜中分別注入Er、Pr、Tm三種稀土離子,并研究了GaN外延膜在不同注入情況下的陰極熒光現象。研究表明:在GaN中,單注入Er離子可以發(fā)綠光,單注入Pr離子可以觀察到紅光和綠光,單注入Tm離子可以發(fā)藍光和紅外光;若在GaN中注入不同的稀土離子,也可以部分抑制缺陷發(fā)光。四、采用離子注入的方法,在同一GaN外延膜中共注入Pr/Tm,Er/Pr,Er/Tm兩種稀土離子以及Tm/Er/Pr三種稀土離子,并研究了不同溫度下材料的陰極熒光現象。在GaN中共注入兩種稀土離子時,不僅可以實現混合色彩的發(fā)光,而且發(fā)現兩種稀土離子之間會存在能量傳遞。當Er/Pr/Tm三種稀土離子共注入GaN薄膜后,可以實現紅、綠、藍三色發(fā)光。五、對Er、Pr、Tm稀土離子注入后的GaN薄膜進行XRD、Raman表征,研究其結構性質。不同稀土離子Er、Pr、Tm注入GaN外延膜后,對GaN晶體結構的影響基本一致,隨著注入劑量的增加對GaN晶體結構的損傷逐漸增強。為了降低離子注入引入的缺陷密度,進行不同情況退火處理,研究退火前后其中應力、應變、晶體質量的變化,所得的結果與光學性質結果相對應。
【關鍵詞】:氮化鎵 稀土 離子注入 光學性質 結構性質
【學位授予單位】:蘇州科技大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:O484
【目錄】:
- 摘要6-8
- Abstract8-12
- 第一章 緒論12-21
- 1.1 引言12-13
- 1.2 GaN的結構與性質13-14
- 1.3 稀土摻雜GaN14-18
- 1.3.1 稀土元素14-15
- 1.3.2 摻雜方式15-16
- 1.3.3 GaN: Er材料16-18
- 1.4 稀土摻雜GaN材料應用18-20
- 1.4.1 全色顯示19
- 1.4.2 放大器、激光器19-20
- 1.5 本論文主要內容20-21
- 第二章 GaN: Er薄膜常溫下的光學性質及結構性質研究21-34
- 2.1 引言21
- 2.2 實驗方法21-23
- 2.2.1 樣品制備21-22
- 2.2.2 材料表征22-23
- 2.3 光學性質分析23-29
- 2.3.1 退火溫度對發(fā)光性能的影響23-26
- 2.3.2 退火氣氛對發(fā)光性能影響26-27
- 2.3.3 Er離子注入劑量對發(fā)光性能的影響27-29
- 2.4 結構性質分析29-33
- 2.4.1 注入劑量的影響29-30
- 2.4.2 退火溫度的影響30-32
- 2.4.3 注入劑量與退火條件之間的關系32-33
- 2.5 本章小結33-34
- 第三章 GaN: Er薄膜變溫陰極熒光分析34-42
- 3.1 引言34
- 3.2 實驗部分34-35
- 3.3 結果與討論35-41
- 3.3.1 Er離子注入對帶邊發(fā)光的影響35-37
- 3.3.2 不同加速電壓下的發(fā)光性質37-38
- 3.3.3 不同溫度下的發(fā)光性質38-41
- 3.4 本章小結41-42
- 第四章 不同稀土離子共注入GaN薄膜的光學性質及結構性質研究42-61
- 4.1 引言42-43
- 4.2 實驗43
- 4.3 光學性質43-56
- 4.3.1 Pr、Tm單注入43-46
- 4.3.2 共注入Pr、Tm46-49
- 4.3.3 共注入Er、Tm49-50
- 4.3.4 共注入Er、Pr50-52
- 4.3.5 共注入Tm、Er、Pr52-53
- 4.3.6 稀土離子對黃帶發(fā)光的影響53-54
- 4.3.7 稀土離子對DAP發(fā)光的影響54-56
- 4.4 結構性質56-59
- 4.4.1 稀土注入GaN的XRD測試結果56-58
- 4.4.2 稀土注入GaN的Raman測試結果58-59
- 4.5 本章小結59-61
- 第五章 總結與展望61-63
- 參考文獻63-71
- 圖表目錄71-73
- 致謝73-74
- 作者簡歷74-75
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