本文關(guān)鍵詞：濺射氣壓對(duì)磁控濺射Mo背電極層形貌與結(jié)構(gòu)的影響

  更多相關(guān)文章： 磁控濺射 CIGS Mo背電極 濺射氣壓 形貌結(jié)構(gòu)

【摘要】：采用直流磁控濺射法在濺射氣壓為0.1~1.0Pa下制備了金屬M(fèi)o膜。用掃描電子顯微鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)對(duì)單層Mo膜的表面、斷面形貌和粗糙度進(jìn)行了分析與表征;用X射線衍射(XRD)研究了氣壓對(duì)Mo膜晶粒尺寸和薄膜應(yīng)力應(yīng)變的影響;用SEM觀察了雙層和三層Mo背電極層的表面形貌。結(jié)果表明,濺射氣壓升高,表面顆粒由細(xì)長(zhǎng)變得圓潤(rùn),均方根粗糙度升高,其值介于1.32~4.81nm之間;Mo膜的晶粒尺寸隨氣壓的升高而降低,其值介于27.2~11.7nm之間;濺射氣壓為0.2Pa和0.3Pa時(shí)制備的Mo膜顯現(xiàn)為張應(yīng)力;將雙層Mo背電極表面制備0.7Pa的Mo層后,表面更加圓潤(rùn),孔隙增多。
【作者單位】： 北京低碳清潔能源研究所;北京市納米結(jié)構(gòu)薄膜太陽能電池工程技術(shù)研究中心;
【關(guān)鍵詞】： 磁控濺射 CIGS Mo背電極 濺射氣壓 形貌結(jié)構(gòu)
【分類號(hào)】：TB383.2;O646.54
【正文快照】： (1 National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy,Beijing 102211;2 Beijing Engineering Research Center ofNano-Structured Thin-Film Solar Cell,Beijing 102211)宋斌斌:男,1982年生,博士,高級(jí)工程師,主要研究方向?yàn)楣δ鼙∧げ牧系闹苽渑c表征E-mail:songbinbin@nic

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本文編號(hào)：860244