本文關(guān)鍵詞：光學(xué)相干層析成像用于缺陷檢測(cè)研究

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【摘要】：為了對(duì)薄膜進(jìn)行無損的缺陷檢測(cè),采用了譜域光學(xué)相干層析成像的方法,進(jìn)行了理論分析和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,分別獲得了質(zhì)量完好和存在缺陷兩種薄膜樣品的一維深度和二維層析圖像。由二維層析圖像可以對(duì)薄膜的缺陷位置進(jìn)行精確定位,并且可以對(duì)缺陷尺寸進(jìn)行測(cè)量。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,譜域光學(xué)相干層析成像技術(shù)可以為無損缺陷檢測(cè)提供有效的技術(shù)手段。
【作者單位】： 渭南師范學(xué)院物理與電氣工程學(xué)院;陜西省X射線檢測(cè)與應(yīng)用研究開發(fā)中心;
【關(guān)鍵詞】： 測(cè)量與計(jì)量 光學(xué)相干層析成像 薄膜 缺陷檢測(cè)
【基金】：陜西省教育廳科研計(jì)劃項(xiàng)目(15JK1252,15JK1380) 陜西省軍民融合研究基金項(xiàng)目(15JMR12) 渭南師范學(xué)院科研計(jì)劃項(xiàng)目(14YKS009,15ZRRC08);渭南師范學(xué)院特色學(xué)科建設(shè)項(xiàng)目(14TSXK07)
【分類號(hào)】：TP391.41;O484.41
【正文快照】： 薄膜生長(zhǎng)或沉積過程中由于受到基片表面的污漬、基片固有缺陷等因素的影響,極易造成薄膜表面和內(nèi)部結(jié)構(gòu)的質(zhì)量缺陷。根據(jù)檢測(cè)原理的不同,薄膜的缺陷檢測(cè)方法主要分為渦流探測(cè)、超聲波檢測(cè)和磁場(chǎng)探測(cè)等。由于被測(cè)薄膜性質(zhì)的不同,傳統(tǒng)檢測(cè)方法的測(cè)量精度和應(yīng)用領(lǐng)域受到不同程度

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

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本文編號(hào)：858052