本文關(guān)鍵詞：基于連續(xù)彎液面構(gòu)筑的有序陣列模板復(fù)制模塑制備圖案化聚合物薄膜

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【摘要】：基于咖啡環(huán)理論,利用微米尺度限制下的彎液面溶劑散逸過程獲得表面微結(jié)構(gòu)可控的有序陣列,以此為母模板制備聚二甲基硅氧烷(PDMS)彈性印章,通過復(fù)制模塑過程實現(xiàn)陣列結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移.利用廣義YoungLaplace方程建立的理論模型分析彎液面聚合物沉積黏連過程,推導(dǎo)出條紋沉積頻率與聚合物分子量、基底滑動速率和溶液濃度的關(guān)系,理論計算結(jié)果與實驗現(xiàn)象一致.
【作者單位】： 東北電力大學化學工程學院;哈爾濱工業(yè)大學市政環(huán)境工程學院;
【關(guān)鍵詞】： 彎液面 有序陣列 母模板 復(fù)制模塑技術(shù) 圖案化聚合物薄膜
【基金】：國家自然科學基金(批準號:51003010) 吉林省科技發(fā)展計劃項目(批準號:20140101090JC)資助~~
【分類號】：O631.3;TB383.2
【正文快照】： 具有特殊功能的微觀圖案化聚合物薄膜受到越來越多的關(guān)注,并在微反應(yīng)器、生物傳感器、微電子器件、光學器件及生物界面等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用[1~6].聚合物薄膜微觀圖案化技術(shù)主要包括光刻技術(shù)、自組裝技術(shù)、軟刻蝕技術(shù)和納米壓印技術(shù)等[7~10].傳統(tǒng)光刻技術(shù)是目前為止應(yīng)用最可靠和最基

【參考文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 劉欣;沈崢;吳大朋;王琪;秦建華;林炳承;;光刻蝕法制備水凝膠微圖案及其應(yīng)用[J];高等學�；瘜W學報;2008年02期

【相似文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 魏飛;張強;騫偉中;徐光輝;項榮;溫倩;王W，

本文編號：742550