本文關(guān)鍵詞：單層柱狀結(jié)構(gòu)薄膜體散射的理論研究

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【摘要】：電子束蒸發(fā)的單層光學(xué)薄膜具有明顯的柱狀結(jié)構(gòu),薄膜內(nèi)部折射率的變化較大,由此引起的體散射現(xiàn)象也較明顯�；谝浑A電磁微擾理論,建立了單層光學(xué)薄膜的體散射理論模型,分析了膜層厚度、入射光偏振態(tài)、柱狀結(jié)構(gòu)因子、非均質(zhì)性對(duì)體散射的影響。研究了純柱狀結(jié)構(gòu)下,電子束蒸發(fā)的單層二氧化鉿(Hf O2)薄膜體散射的角分布散射值(ARS)隨著膜層厚度的變化規(guī)律,結(jié)果表明純柱狀結(jié)構(gòu)Hf O2薄膜體散射的ARS量級(jí)與表面散射完全非相關(guān)模型的ARS值相近,并且在特定的膜厚范圍內(nèi),體散射的ARS值隨著膜厚的增大而增大。對(duì)于非均質(zhì)性薄膜,當(dāng)非均質(zhì)性一定時(shí),體散射的ARS值隨著膜厚的增大而增大;當(dāng)膜層厚度一定時(shí),體散射的ARS值隨著非均質(zhì)性絕對(duì)值的增大而減小。
【作者單位】： 同濟(jì)大學(xué)先進(jìn)微結(jié)構(gòu)材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;光馳科技(上海)有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 薄膜 體散射 一階微擾理論 柱狀結(jié)構(gòu)因子 非均質(zhì)性
【基金】：國家自然科學(xué)基金(U1430130,61235011) 中央高校基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： 1引言光學(xué)薄膜的散射現(xiàn)象已經(jīng)引起了廣泛的研究,主要原因是散射引起的損耗會(huì)影響光學(xué)薄膜的性能,其次是通過光散射研究可以非接觸、非破壞性地分析薄膜的微結(jié)構(gòu)信息[1]。薄膜散射可分為體散射和表面散射。表面散射主要來自薄膜界面的微觀粗糙結(jié)構(gòu),而體散射主要起源于薄膜內(nèi)部

【相似文獻(xiàn)】

中國重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫 前1條

1 張本愛;杜祥琬;;三體散射問題的一種解法探討[A];第五次核物理會(huì)議資料匯編（下冊(cè)）[C];1982年

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本文編號(hào)：720938