本文關(guān)鍵詞：退火處理對(duì)MgO薄膜性能的影響

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【摘要】：采用磁控濺射法在石英襯底上制備了MgO薄膜并分別在不同溫度下進(jìn)行退火處理。利用X射線衍射儀(XRD)和掃描電子顯微鏡(SEM)研究了MgO薄膜的結(jié)構(gòu)和表面形貌隨退火溫度的變化,發(fā)現(xiàn)退火可以改善薄膜的結(jié)晶質(zhì)量,即隨著退火溫度的升高,晶粒尺寸逐漸增大,結(jié)晶性能更佳,表面更加平整。此外,通過(guò)紫外-可見(jiàn)光分光光度計(jì)研究了MgO薄膜光學(xué)特性的變化,發(fā)現(xiàn)隨著薄膜退火溫度的升高,可見(jiàn)光透射率下降,光學(xué)帶隙值逐漸減小。
【作者單位】： 南京郵電大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院;南京大學(xué)(蘇州)高新技術(shù)研究院;南京郵電大學(xué)理學(xué)院先進(jìn)功能陶瓷研究中心;
【關(guān)鍵詞】： MgO薄膜 退火處理 光學(xué)特性 磁控濺射
【基金】：江蘇省自然科學(xué)基金青年基金(BK20130376,BK20130855) 國(guó)家自然科學(xué)基金(51172110,11405089) 江蘇省高校自然科學(xué)研究資助項(xiàng)目(13KJB140012) 蘇州市科技局納米技術(shù)專項(xiàng)基金(ZXG201444) 江蘇省“六大人才高峰”高層次人才項(xiàng)目(2014-XCL-015) 南郵校級(jí)科研項(xiàng)目(NY214131)
【分類號(hào)】：TB383.2;TQ132.2
【正文快照】： 0引言MgO晶體為巖鹽結(jié)構(gòu),是一種面心立方晶體,具有許多優(yōu)良性質(zhì)。其晶格常數(shù)和某些鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的材料十分相近,且熱穩(wěn)定性好,絕緣性強(qiáng),適合作為高溫超導(dǎo)氧化物[1]、鐵電材料[2]和高磁阻材料[3]的緩沖層使用。同時(shí),MgO薄膜因其二次電子發(fā)射系數(shù)高、抗濺射能力強(qiáng)[4]以及光透性好

【相似文獻(xiàn)】

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中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

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本文編號(hào)：714841