襯底溫度對脈沖激光沉積法制備的CuO薄膜性能的影響
發(fā)布時間:2023-10-28 20:03
通過脈沖激光沉積的方法在玻璃襯底上制備CuO薄膜,并研究了襯底溫度對薄膜結構,光學以及電學性能的影響。結果表明:在不同襯底溫度下得到的薄膜均為CuO,并且在紅外區(qū)域,薄膜的透過率均高于65%。溫度升高到300℃,具有較高的結晶質量和紅外光透過率,薄膜的電學性能也隨之變好,出現(xiàn)最低電阻(2.33×102Ωcm),較高的載流子濃度5.28×10161/cm3。最重要的是在500℃時氧化銅實現(xiàn)了由p型向n型的轉變。
【文章頁數(shù)】:4 頁
【文章目錄】:
1 試驗材料與方法
2 結果與討論
2.1 XRD分析
2.2 透射光譜分析
2.3 XPS分析
2.4 Hall分析
3 結論
本文編號:3857685
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1 試驗材料與方法
2 結果與討論
2.1 XRD分析
2.2 透射光譜分析
2.3 XPS分析
2.4 Hall分析
3 結論
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