鈣鈦礦型鈷氧化物超薄膜的制備及性能研究
發(fā)布時(shí)間:2022-08-23 18:27
鈣鈦礦型復(fù)合氧化物擁有獨(dú)特的晶體結(jié)構(gòu)和電子相,可以應(yīng)用于傳感器、固態(tài)電阻器、光電探測(cè)器等功能性半導(dǎo)體器件中。鈷氧化物薄膜材料的物理特性與基片的不匹配度、薄膜厚度等界面應(yīng)力因素引起的晶格畸變有很大的關(guān)系,因此本文制備了不同基底、厚度的系列鈷氧化物超薄膜樣品,對(duì)樣品的基本結(jié)構(gòu)、輸運(yùn)特性及光誘導(dǎo)電阻變化特性進(jìn)行了研究,主要結(jié)論如下:(1)通過(guò)脈沖激光沉積法制備了厚度約為20nm的La0.7Sr003Co03/LaA103(100)、La00.7Sr0.3CoO3/LaAlO3(110)、La0.7Sr003CoO3/LaAlO3(111)、La0.7Sr0.3CoO3/Si(100)、La0.7Sr003CoO3/NdGaO3(100),厚度為 lOnm、50nm的La0.7Sr0.3CoO3/LaAlO3(100)超薄膜樣品。XRD衍射圖譜表明薄膜樣品均單相外延生長(zhǎng);室溫下的磁性測(cè)試表明:La0.7Sr0.3CoO3/LaAlO3(100)、La007Sr03CoO3/LaAlO3(110)、La0.77Sr0.3CoO3/LaAlO3(111)、La007Sr003CoO3/Si(100...
【文章頁(yè)數(shù)】:69 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
1 緒論
1.1 引言
1.2 鈣鈦礦鈷氧化物的物理特性
1.2.1 晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 電子結(jié)構(gòu)
1.3 La_(1-x)Sr_xCoO_3薄膜輸運(yùn)及磁特性
1.4 鈷氧化物電子間交換作用
1.4.1 雙交換作用
1.4.2 超交換作用
1.5 鈣鈦礦型氧化物超薄膜研究進(jìn)展與現(xiàn)狀
1.6 本論文的選題依據(jù)、研究?jī)?nèi)容
1.6.1 選題依據(jù)
1.6.2 研究?jī)?nèi)容
1.7 本章小結(jié)
2 超薄膜的制備及性能表征技術(shù)
2.1 引言
2.2 靶材的制備
2.2.1 固相反應(yīng)法
2.2.2 溶膠凝膠法
2.3 薄膜制備工藝及基本原理
2.3.1 脈沖激光法
2.3.2 激光分子束外延技術(shù)
2.4 薄膜樣品的表征技術(shù)及原理
2.4.1 樣品的形貌分析原理
2.4.2 靶材及樣品的結(jié)構(gòu)分析原理
2.5 磁性測(cè)量
2.6 樣品低溫輸運(yùn)及光電特性測(cè)量
2.7 本章小結(jié)
3 LaAlO_3 (100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備及性能研究
3.1 引言
3.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
3.2.1 La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3靶材
3.2.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
3.3 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
3.3.1 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
3.3.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
3.3.3 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
3.4 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
3.5 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
3.6 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
3.7 本章小結(jié)
4 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的性能研究
4.1 引言
4.2 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
4.3 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
4.3.1 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
4.3.2 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
4.3.3 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
4.4 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
4.5 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
4.6 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
4.7 本章小結(jié)
5 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的性能研究
5.1 引言
5.2 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
5.3 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
5.3.1 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
5.3.2 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
5.3.3 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
5.4 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
5.5 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
5.6 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
5.7 本章小結(jié)
6 總結(jié)與展望
6.1 總結(jié)
6.2 展望
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]國(guó)內(nèi)外硅半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及發(fā)展[J]. 陳興章. 上海有色金屬. 2013(03)
[2]MgB2超薄膜的制備和性質(zhì)研究[J]. 孫玄,黃煦,王亞洲,馮慶榮. 物理學(xué)報(bào). 2011(08)
[3]采用Sol-gel法制備梯度復(fù)合熱釋電薄膜[J]. 董兵海,王世敏,許祖勛,吳會(huì)光. 材料導(dǎo)報(bào). 2006(03)
[4]脈沖激光沉積(PLD)原理及其應(yīng)用[J]. 唐亞陸,杜澤民. 桂林電子工業(yè)學(xué)院學(xué)報(bào). 2006(01)
[5]脈沖激光沉積技術(shù)在磁性薄膜制備中的應(yīng)用[J]. 鄧聯(lián)文,江建軍,何華輝. 材料導(dǎo)報(bào). 2003(02)
[6]納米薄膜材料的研究進(jìn)展[J]. 邱成軍,曹茂盛,朱靜,楊慧靜. 材料科學(xué)與工程. 2001(04)
博士論文
[1]La0.8Sr0.2MnO3超薄膜界面性質(zhì)和低溫絕緣相的研究[D]. 馮雅晴.中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院物理研究所) 2017
[2]BiFeO3薄膜的應(yīng)變調(diào)控與超薄膜生長(zhǎng)[D]. 馮玉.中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院物理研究所) 2017
碩士論文
[1]ZnO異質(zhì)結(jié)的制備以及電性能研究[D]. 張祎.西安科技大學(xué) 2018
[2]摻雜稀土鈣鈦礦鈷氧化物的制備及物性研究[D]. 古澳.西安科技大學(xué) 2015
[3]鈣鈦礦鈷氧化物制備及其電致電阻性能研究[D]. 李霞.上海師范大學(xué) 2013
[4]ZnO光學(xué)薄膜隨機(jī)表面的形貌分析與光散射特性研究[D]. 李永強(qiáng).南京理工大學(xué) 2010
本文編號(hào):3678263
【文章頁(yè)數(shù)】:69 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
1 緒論
1.1 引言
1.2 鈣鈦礦鈷氧化物的物理特性
1.2.1 晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 電子結(jié)構(gòu)
1.3 La_(1-x)Sr_xCoO_3薄膜輸運(yùn)及磁特性
1.4 鈷氧化物電子間交換作用
1.4.1 雙交換作用
1.4.2 超交換作用
1.5 鈣鈦礦型氧化物超薄膜研究進(jìn)展與現(xiàn)狀
1.6 本論文的選題依據(jù)、研究?jī)?nèi)容
1.6.1 選題依據(jù)
1.6.2 研究?jī)?nèi)容
1.7 本章小結(jié)
2 超薄膜的制備及性能表征技術(shù)
2.1 引言
2.2 靶材的制備
2.2.1 固相反應(yīng)法
2.2.2 溶膠凝膠法
2.3 薄膜制備工藝及基本原理
2.3.1 脈沖激光法
2.3.2 激光分子束外延技術(shù)
2.4 薄膜樣品的表征技術(shù)及原理
2.4.1 樣品的形貌分析原理
2.4.2 靶材及樣品的結(jié)構(gòu)分析原理
2.5 磁性測(cè)量
2.6 樣品低溫輸運(yùn)及光電特性測(cè)量
2.7 本章小結(jié)
3 LaAlO_3 (100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備及性能研究
3.1 引言
3.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
3.2.1 La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3靶材
3.2.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
3.3 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
3.3.1 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
3.3.2 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
3.3.3 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
3.4 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
3.5 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
3.6 LaAlO_3(100)、(110)、(111)基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
3.7 本章小結(jié)
4 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的性能研究
4.1 引言
4.2 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
4.3 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
4.3.1 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
4.3.2 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
4.3.3 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
4.4 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
4.5 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
4.6 不同厚度La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
4.7 本章小結(jié)
5 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的性能研究
5.1 引言
5.2 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的制備
5.3 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的基本性能測(cè)試
5.3.1 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的表面形貌
5.3.2 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的XRD圖譜
5.3.3 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的磁性測(cè)試
5.4 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的輸運(yùn)特性
5.5 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的光誘導(dǎo)特性
5.6 NdGaO_3、Si、LaAlO_3基片上La_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3超薄膜的瞬態(tài)光開關(guān)效應(yīng)
5.7 本章小結(jié)
6 總結(jié)與展望
6.1 總結(jié)
6.2 展望
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]國(guó)內(nèi)外硅半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及發(fā)展[J]. 陳興章. 上海有色金屬. 2013(03)
[2]MgB2超薄膜的制備和性質(zhì)研究[J]. 孫玄,黃煦,王亞洲,馮慶榮. 物理學(xué)報(bào). 2011(08)
[3]采用Sol-gel法制備梯度復(fù)合熱釋電薄膜[J]. 董兵海,王世敏,許祖勛,吳會(huì)光. 材料導(dǎo)報(bào). 2006(03)
[4]脈沖激光沉積(PLD)原理及其應(yīng)用[J]. 唐亞陸,杜澤民. 桂林電子工業(yè)學(xué)院學(xué)報(bào). 2006(01)
[5]脈沖激光沉積技術(shù)在磁性薄膜制備中的應(yīng)用[J]. 鄧聯(lián)文,江建軍,何華輝. 材料導(dǎo)報(bào). 2003(02)
[6]納米薄膜材料的研究進(jìn)展[J]. 邱成軍,曹茂盛,朱靜,楊慧靜. 材料科學(xué)與工程. 2001(04)
博士論文
[1]La0.8Sr0.2MnO3超薄膜界面性質(zhì)和低溫絕緣相的研究[D]. 馮雅晴.中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院物理研究所) 2017
[2]BiFeO3薄膜的應(yīng)變調(diào)控與超薄膜生長(zhǎng)[D]. 馮玉.中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院物理研究所) 2017
碩士論文
[1]ZnO異質(zhì)結(jié)的制備以及電性能研究[D]. 張祎.西安科技大學(xué) 2018
[2]摻雜稀土鈣鈦礦鈷氧化物的制備及物性研究[D]. 古澳.西安科技大學(xué) 2015
[3]鈣鈦礦鈷氧化物制備及其電致電阻性能研究[D]. 李霞.上海師范大學(xué) 2013
[4]ZnO光學(xué)薄膜隨機(jī)表面的形貌分析與光散射特性研究[D]. 李永強(qiáng).南京理工大學(xué) 2010
本文編號(hào):3678263
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