脈沖偏壓占空比對(duì)磁控濺射制備ITO薄膜光電性能的影響
發(fā)布時(shí)間:2022-02-20 08:16
作為應(yīng)用最為廣泛的ITO透明導(dǎo)電薄膜一直是材料和電子領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)之一。實(shí)驗(yàn)利用磁控濺射方法制備了不同脈沖偏壓占空比的ITO薄膜。采用X射線衍射儀(XRD)、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)、紫外-可見光分光光度計(jì)和霍爾效應(yīng)測(cè)量?jī)x分別對(duì)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、表面形貌和光電特性進(jìn)行了測(cè)試分析。結(jié)果表明:占空比變化對(duì)ITO薄膜性能有著顯著的影響。薄膜存在(211)(222)和(440)三個(gè)衍射峰,擇優(yōu)取向隨著占空比的改變而改變,而且不同的占空比導(dǎo)致薄膜的晶粒尺寸發(fā)生了明顯的變化。另外,隨著占空比增加,薄膜的透過率和電阻率呈現(xiàn)非線性變化的趨勢(shì),薄膜在560納米波段有97%的高透過率。當(dāng)占空比為20%時(shí),薄膜具有最低電阻率(2.70×10-4Ω·cm)和最高可見光平均透過率(89.58%),此時(shí)薄膜的光電性能相對(duì)最佳。
【文章來源】:科技智囊. 2020,(08)
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的XRD圖譜
圖1 不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的XRD圖譜圖2是不同脈沖偏壓占空比條件下,ITO薄膜的透過率曲線。不同偏壓占空比的ITO薄膜透過率變化不大,在整個(gè)可見光波段均表現(xiàn)出高于75%的透過率。其中10%、15%、30%占空比條件下制備的薄膜光學(xué)特性近似相同,而在20%占空比的條件下,薄膜透過率的峰值發(fā)生了偏移,透過率曲線整體向長(zhǎng)波長(zhǎng)方向發(fā)生移動(dòng)(紅移),這與薄膜的厚度發(fā)生變化有關(guān)。
圖3顯示了不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的電阻率變化?梢钥闯,電阻率變化并不是隨著占空比的增加出現(xiàn)線性變化,而是隨著占空比增加,電阻率先降低、然后升高、最后又降低。在10%的占空比條件下,ITO薄膜的電阻率達(dá)到了實(shí)驗(yàn)樣本的最大值3.52×10-4Ω·cm,而當(dāng)占空比為20%時(shí),薄膜的電阻率達(dá)到最低,最低電阻率為2.70×10-4Ω·cm,此時(shí)薄膜導(dǎo)電性能最佳。為了進(jìn)一步了解薄膜的電學(xué)性質(zhì)變化,對(duì)薄膜的霍爾遷移率和載流子濃度進(jìn)行了測(cè)試。圖4為ITO薄膜的霍爾遷移率與脈沖偏壓占空比的關(guān)系。從圖中可以看出,在占空比從10%增大到30%的過程中,薄膜霍爾遷移率的變化規(guī)律不同于電阻率,呈現(xiàn)先降低、后升高、繼續(xù)升高、再降低的趨勢(shì)。在15%脈沖偏壓占空比的條件下,薄膜的霍爾遷移率相對(duì)最低,20%的遷移率次之。而相對(duì)最高的遷移率出現(xiàn)在占空比為25%的條件下。圖5為不同脈沖偏壓占空比下,ITO薄膜載流子濃度的變化。和圖4對(duì)比發(fā)現(xiàn),薄膜的載流子濃度和霍耳遷移率隨占空比變化的趨勢(shì)正好相反。正是在載流子濃度和載流子遷移率的共同作用下,導(dǎo)致薄膜電阻率呈現(xiàn)如圖3所示的變化趨勢(shì)。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]占空比對(duì)磁控濺射純Cr鍍層微觀組織結(jié)構(gòu)的影響[J]. 李洪濤,蔣百靈,曹政. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2010(02)
[2]ITO薄膜的微結(jié)構(gòu)表征及其組分特性[J]. 蔡琪,曹春斌,江錫順,宋學(xué)萍,孫兆奇. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2007(03)
[3]直流磁控濺射陶瓷靶制備ITO薄膜及性能研究[J]. 夏冬林,楊晟,王樹林,趙修建. 人工晶體學(xué)報(bào). 2006(02)
[4]氨氣和氮?dú)鈿夥障聼崽幚韺?duì)ITO薄膜光電性能的影響[J]. 楊盟,刁訓(xùn)剛,劉海鷹,王天民. 稀有金屬材料與工程. 2005(10)
[5]SnO2/ITO復(fù)合透明導(dǎo)電膜研究[J]. 宿昌厚,龐大文,張治國(guó). 半導(dǎo)體學(xué)報(bào). 1991(11)
本文編號(hào):3634638
【文章來源】:科技智囊. 2020,(08)
【文章頁數(shù)】:4 頁
【部分圖文】:
不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的XRD圖譜
圖1 不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的XRD圖譜圖2是不同脈沖偏壓占空比條件下,ITO薄膜的透過率曲線。不同偏壓占空比的ITO薄膜透過率變化不大,在整個(gè)可見光波段均表現(xiàn)出高于75%的透過率。其中10%、15%、30%占空比條件下制備的薄膜光學(xué)特性近似相同,而在20%占空比的條件下,薄膜透過率的峰值發(fā)生了偏移,透過率曲線整體向長(zhǎng)波長(zhǎng)方向發(fā)生移動(dòng)(紅移),這與薄膜的厚度發(fā)生變化有關(guān)。
圖3顯示了不同脈沖偏壓占空比下ITO薄膜的電阻率變化?梢钥闯,電阻率變化并不是隨著占空比的增加出現(xiàn)線性變化,而是隨著占空比增加,電阻率先降低、然后升高、最后又降低。在10%的占空比條件下,ITO薄膜的電阻率達(dá)到了實(shí)驗(yàn)樣本的最大值3.52×10-4Ω·cm,而當(dāng)占空比為20%時(shí),薄膜的電阻率達(dá)到最低,最低電阻率為2.70×10-4Ω·cm,此時(shí)薄膜導(dǎo)電性能最佳。為了進(jìn)一步了解薄膜的電學(xué)性質(zhì)變化,對(duì)薄膜的霍爾遷移率和載流子濃度進(jìn)行了測(cè)試。圖4為ITO薄膜的霍爾遷移率與脈沖偏壓占空比的關(guān)系。從圖中可以看出,在占空比從10%增大到30%的過程中,薄膜霍爾遷移率的變化規(guī)律不同于電阻率,呈現(xiàn)先降低、后升高、繼續(xù)升高、再降低的趨勢(shì)。在15%脈沖偏壓占空比的條件下,薄膜的霍爾遷移率相對(duì)最低,20%的遷移率次之。而相對(duì)最高的遷移率出現(xiàn)在占空比為25%的條件下。圖5為不同脈沖偏壓占空比下,ITO薄膜載流子濃度的變化。和圖4對(duì)比發(fā)現(xiàn),薄膜的載流子濃度和霍耳遷移率隨占空比變化的趨勢(shì)正好相反。正是在載流子濃度和載流子遷移率的共同作用下,導(dǎo)致薄膜電阻率呈現(xiàn)如圖3所示的變化趨勢(shì)。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]占空比對(duì)磁控濺射純Cr鍍層微觀組織結(jié)構(gòu)的影響[J]. 李洪濤,蔣百靈,曹政. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2010(02)
[2]ITO薄膜的微結(jié)構(gòu)表征及其組分特性[J]. 蔡琪,曹春斌,江錫順,宋學(xué)萍,孫兆奇. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2007(03)
[3]直流磁控濺射陶瓷靶制備ITO薄膜及性能研究[J]. 夏冬林,楊晟,王樹林,趙修建. 人工晶體學(xué)報(bào). 2006(02)
[4]氨氣和氮?dú)鈿夥障聼崽幚韺?duì)ITO薄膜光電性能的影響[J]. 楊盟,刁訓(xùn)剛,劉海鷹,王天民. 稀有金屬材料與工程. 2005(10)
[5]SnO2/ITO復(fù)合透明導(dǎo)電膜研究[J]. 宿昌厚,龐大文,張治國(guó). 半導(dǎo)體學(xué)報(bào). 1991(11)
本文編號(hào):3634638
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