高質(zhì)量氧化鎵薄膜的生長及氧化鎵日盲光電探測(cè)器陣列的制備
發(fā)布時(shí)間:2021-11-06 13:44
日盲紫外光電探測(cè)器(PD)能夠不受太陽光背景的影響,針對(duì)200到280 nm紫外波段的信號(hào)進(jìn)行探測(cè),在軍事領(lǐng)域和民用監(jiān)測(cè)方面有越來越多的應(yīng)用,例如導(dǎo)彈跟蹤,火災(zāi)探測(cè),臭氧空洞、化學(xué)/生物分析等。對(duì)于半導(dǎo)體合金,高質(zhì)量的外延AlGaN膜由于生長需要較高的溫度而難以制備,鋅礦相的ZnMgO薄膜也難以獲得,而且?guī)兜牟黄ヅ鋵?dǎo)致探測(cè)器不能用于檢測(cè)整個(gè)深紫外區(qū)域。最近,基于單斜晶系氧化鎵(β-Ga2O3)的研究已經(jīng)被廣泛研究,因?yàn)樗哂小?.9 eV的合適帶隙,對(duì)應(yīng)的吸收波長約為253 nm,在紫外區(qū)擁有很高的光電響應(yīng)特性,非常適合用于制備高性能日盲深紫外光電探測(cè)器。本文首次設(shè)計(jì)和制造了16 × 16,8 × 8和4 × 4的高度集成金屬-半導(dǎo)體-金屬(MSM)結(jié)構(gòu)的光電探測(cè)器陣列,為擁有廣泛應(yīng)用前景的高性能探測(cè)器陣列的開發(fā)和應(yīng)用做下一些基礎(chǔ)性工作。主要的研究成果如下:(1)以直徑為兩英寸的c面藍(lán)寶石單晶為襯底,利用磁控濺射法制備出沿著(201)晶面擇優(yōu)生長的β-Ga2O3外延薄膜,生長條件為氬氣環(huán)境1 Pa、襯底溫度750℃,濺射功率80 W,制備的薄膜厚度約為200 nm。(2)設(shè)計(jì)出探測(cè)器...
【文章來源】:北京郵電大學(xué)北京市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:71 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-2?(a)yg-Ga203傳統(tǒng)的晶胞,2種不同位置的Ga用大球表示,3種不同位置的0用不同顏色的??小球標(biāo)出(b)同樣的顏色組合的y5-Ga203的原胞[11】??
其晶胞中包括4個(gè)Ga原子和24個(gè)0原子,Ga原子在晶體結(jié)構(gòu)中有兩種不??同的位置,分別是被〇原子包圍構(gòu)成的正四面體和正八面體,〇則有三種不同的位??置。片Ga203的晶胞和原胞結(jié)構(gòu)如下圖1-2所示,純爐Ga203往往呈現(xiàn)出本征n型半??導(dǎo)體的特征,這是由于在灸Ga203的晶體結(jié)構(gòu)不管哪個(gè)低密勒指數(shù)晶面暴露在外,其??表面都容易形成氧空位缺陷[1()]。??。氣'??:U揚(yáng)。??(b),—:??/丄L參N????'?’一??圖1-2?(a)yg-Ga203傳統(tǒng)的晶胞,2種不同位置的Ga用大球表示,3種不同位置的0用不同顏色的??小球標(biāo)出(b)同樣的顏色組合的y5-Ga203的原胞[11】??2??
日盲紫外探測(cè)器在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)及日常生活等方方面面發(fā)揮著越來越大的作??用[21,22],具有誘人的應(yīng)用前景和巨大的發(fā)展?jié)摿Γ彰ぷ贤夤怆娞綔y(cè)器的相關(guān)應(yīng)用??如圖1-3所示。??在微電子技術(shù)的發(fā)展的進(jìn)程中,光電倍增管和位敏器件已經(jīng)不是紫外探測(cè)領(lǐng)域??常用的器件,由半導(dǎo)體材料制造的第三代器件嶄露鋒芒,基于寬禁帶半導(dǎo)體的日盲??紫外探測(cè)器因其體積小、壽命長和功耗低等優(yōu)點(diǎn),逐步取代真空光電管成為了當(dāng)前??的主流研究方向。目前己經(jīng)能夠通過各單項(xiàng)工藝的比較,優(yōu)化器件制作的工藝流程,??制備出單個(gè)高性能的日盲型紫外探測(cè)器,它們響應(yīng)速度快,光暗電流比高、體重小、??功耗低、量子效率高、便于集成。??紫外探測(cè)器對(duì)紫外輻射具有很高的響應(yīng),日盲紫外探測(cè)器的光譜響應(yīng)區(qū)集中在??中紫外波段(200-280?nm),這要求半導(dǎo)體材料的禁帶寬度大于4.4?eV,盡管GaN、??ZnO、SiC等寬禁帶半導(dǎo)體材料近年來發(fā)展迅速
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]超寬禁帶半導(dǎo)體β-Ga2O3單晶生長突破2英寸[J]. 唐慧麗,何諾天,羅平,郭超,李秋,吳鋒,王慶國,潘星宇,劉波,徐軍. 人工晶體學(xué)報(bào). 2017(12)
[2]ALD氧化鋁薄膜介電性能及其在硅電容器的應(yīng)用[J]. 陳杰,李俊,趙金茹,李幸和,許生根. 電子與封裝. 2013(09)
[3]原子層沉積制備Al2O3薄膜的光學(xué)性能研究[J]. 何俊鵬,章岳光,沈偉東,劉旭,顧培夫. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2010(01)
[4]氧化鎵的制備及其光學(xué)性質(zhì)的研究[J]. 張梅,何鑫,吳坤斌,曾慶光. 廣州化工. 2009(05)
[5]工藝參數(shù)對(duì)直流反應(yīng)磁控濺射ZnO:Al薄膜沉積速率的影響[J]. 鄒上榮,王海燕,耿梅艷,穆慧. 真空. 2009(02)
[6]磁控濺射沉積工藝條件對(duì)薄膜厚度均勻性的影響[J]. 溫培剛,顏悅,張官理,望詠林. 航空材料學(xué)報(bào). 2007(03)
[7]基于導(dǎo)彈羽煙紫外輻射的日盲型探測(cè)器[J]. 李炳軍,江文杰,梁永輝. 航天電子對(duì)抗. 2006(06)
[8]空間用紫外探測(cè)及AlGaN探測(cè)器的研究進(jìn)展[J]. 張燕,龔海梅,白云,陳亮,許金通,湯英文,游達(dá),趙德剛,郭麗偉,李向陽. 激光與紅外. 2006(11)
[9]GaN基紫外探測(cè)器及其研究進(jìn)展[J]. 李向陽,許金通,湯英文,李雪,張燕,龔海梅,趙德剛,楊輝. 紅外與激光工程. 2006(03)
[10]紫外告警技術(shù)綜述[J]. 胡紹華,冷鋒,盧峰. 艦船電子對(duì)抗. 2005(01)
博士論文
[1]Ga2O3外延薄膜生長與電場(chǎng)調(diào)控光電性能研究[D]. 崔尉.北京郵電大學(xué) 2018
[2]Ga2O3異質(zhì)結(jié)及Au納米顆粒復(fù)合增強(qiáng)的日盲紫外探測(cè)器研究[D]. 安躍華.北京郵電大學(xué) 2017
[3]氧化鎵光電探測(cè)與信息存儲(chǔ)器件研究[D]. 郭道友.北京郵電大學(xué) 2016
[4]Ga2O3薄膜的電子束蒸發(fā)制備與摻雜及其性質(zhì)研究[D]. 程軼.大連理工大學(xué) 2013
碩士論文
[1]氧化鎵薄膜的制備及氫退火研究[D]. 牛成軍.大連理工大學(xué) 2016
[2]氧化鎵生長取向和形貌的控制研究[D]. 莊睿.大連理工大學(xué) 2014
[3]L-MBE法制備β-Ga2O3薄膜及其摻雜和光敏特性的研究[D]. 王國鋒.浙江理工大學(xué) 2014
[4]BiFeO3/La0.7Sr0.3MnO3多層薄膜的制備與表征[D]. 姜平.浙江理工大學(xué) 2011
[5]Mn摻雜Ga2O3薄膜的制備、結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能研究[D]. 胡帆.鄭州大學(xué) 2009
[6]用PLD法沉積YBCO超導(dǎo)薄膜的研究[D]. 高菲.北京工業(yè)大學(xué) 2006
本文編號(hào):3479940
【文章來源】:北京郵電大學(xué)北京市 211工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:71 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-2?(a)yg-Ga203傳統(tǒng)的晶胞,2種不同位置的Ga用大球表示,3種不同位置的0用不同顏色的??小球標(biāo)出(b)同樣的顏色組合的y5-Ga203的原胞[11】??
其晶胞中包括4個(gè)Ga原子和24個(gè)0原子,Ga原子在晶體結(jié)構(gòu)中有兩種不??同的位置,分別是被〇原子包圍構(gòu)成的正四面體和正八面體,〇則有三種不同的位??置。片Ga203的晶胞和原胞結(jié)構(gòu)如下圖1-2所示,純爐Ga203往往呈現(xiàn)出本征n型半??導(dǎo)體的特征,這是由于在灸Ga203的晶體結(jié)構(gòu)不管哪個(gè)低密勒指數(shù)晶面暴露在外,其??表面都容易形成氧空位缺陷[1()]。??。氣'??:U揚(yáng)。??(b),—:??/丄L參N????'?’一??圖1-2?(a)yg-Ga203傳統(tǒng)的晶胞,2種不同位置的Ga用大球表示,3種不同位置的0用不同顏色的??小球標(biāo)出(b)同樣的顏色組合的y5-Ga203的原胞[11】??2??
日盲紫外探測(cè)器在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)及日常生活等方方面面發(fā)揮著越來越大的作??用[21,22],具有誘人的應(yīng)用前景和巨大的發(fā)展?jié)摿Γ彰ぷ贤夤怆娞綔y(cè)器的相關(guān)應(yīng)用??如圖1-3所示。??在微電子技術(shù)的發(fā)展的進(jìn)程中,光電倍增管和位敏器件已經(jīng)不是紫外探測(cè)領(lǐng)域??常用的器件,由半導(dǎo)體材料制造的第三代器件嶄露鋒芒,基于寬禁帶半導(dǎo)體的日盲??紫外探測(cè)器因其體積小、壽命長和功耗低等優(yōu)點(diǎn),逐步取代真空光電管成為了當(dāng)前??的主流研究方向。目前己經(jīng)能夠通過各單項(xiàng)工藝的比較,優(yōu)化器件制作的工藝流程,??制備出單個(gè)高性能的日盲型紫外探測(cè)器,它們響應(yīng)速度快,光暗電流比高、體重小、??功耗低、量子效率高、便于集成。??紫外探測(cè)器對(duì)紫外輻射具有很高的響應(yīng),日盲紫外探測(cè)器的光譜響應(yīng)區(qū)集中在??中紫外波段(200-280?nm),這要求半導(dǎo)體材料的禁帶寬度大于4.4?eV,盡管GaN、??ZnO、SiC等寬禁帶半導(dǎo)體材料近年來發(fā)展迅速
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]超寬禁帶半導(dǎo)體β-Ga2O3單晶生長突破2英寸[J]. 唐慧麗,何諾天,羅平,郭超,李秋,吳鋒,王慶國,潘星宇,劉波,徐軍. 人工晶體學(xué)報(bào). 2017(12)
[2]ALD氧化鋁薄膜介電性能及其在硅電容器的應(yīng)用[J]. 陳杰,李俊,趙金茹,李幸和,許生根. 電子與封裝. 2013(09)
[3]原子層沉積制備Al2O3薄膜的光學(xué)性能研究[J]. 何俊鵬,章岳光,沈偉東,劉旭,顧培夫. 光學(xué)學(xué)報(bào). 2010(01)
[4]氧化鎵的制備及其光學(xué)性質(zhì)的研究[J]. 張梅,何鑫,吳坤斌,曾慶光. 廣州化工. 2009(05)
[5]工藝參數(shù)對(duì)直流反應(yīng)磁控濺射ZnO:Al薄膜沉積速率的影響[J]. 鄒上榮,王海燕,耿梅艷,穆慧. 真空. 2009(02)
[6]磁控濺射沉積工藝條件對(duì)薄膜厚度均勻性的影響[J]. 溫培剛,顏悅,張官理,望詠林. 航空材料學(xué)報(bào). 2007(03)
[7]基于導(dǎo)彈羽煙紫外輻射的日盲型探測(cè)器[J]. 李炳軍,江文杰,梁永輝. 航天電子對(duì)抗. 2006(06)
[8]空間用紫外探測(cè)及AlGaN探測(cè)器的研究進(jìn)展[J]. 張燕,龔海梅,白云,陳亮,許金通,湯英文,游達(dá),趙德剛,郭麗偉,李向陽. 激光與紅外. 2006(11)
[9]GaN基紫外探測(cè)器及其研究進(jìn)展[J]. 李向陽,許金通,湯英文,李雪,張燕,龔海梅,趙德剛,楊輝. 紅外與激光工程. 2006(03)
[10]紫外告警技術(shù)綜述[J]. 胡紹華,冷鋒,盧峰. 艦船電子對(duì)抗. 2005(01)
博士論文
[1]Ga2O3外延薄膜生長與電場(chǎng)調(diào)控光電性能研究[D]. 崔尉.北京郵電大學(xué) 2018
[2]Ga2O3異質(zhì)結(jié)及Au納米顆粒復(fù)合增強(qiáng)的日盲紫外探測(cè)器研究[D]. 安躍華.北京郵電大學(xué) 2017
[3]氧化鎵光電探測(cè)與信息存儲(chǔ)器件研究[D]. 郭道友.北京郵電大學(xué) 2016
[4]Ga2O3薄膜的電子束蒸發(fā)制備與摻雜及其性質(zhì)研究[D]. 程軼.大連理工大學(xué) 2013
碩士論文
[1]氧化鎵薄膜的制備及氫退火研究[D]. 牛成軍.大連理工大學(xué) 2016
[2]氧化鎵生長取向和形貌的控制研究[D]. 莊睿.大連理工大學(xué) 2014
[3]L-MBE法制備β-Ga2O3薄膜及其摻雜和光敏特性的研究[D]. 王國鋒.浙江理工大學(xué) 2014
[4]BiFeO3/La0.7Sr0.3MnO3多層薄膜的制備與表征[D]. 姜平.浙江理工大學(xué) 2011
[5]Mn摻雜Ga2O3薄膜的制備、結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能研究[D]. 胡帆.鄭州大學(xué) 2009
[6]用PLD法沉積YBCO超導(dǎo)薄膜的研究[D]. 高菲.北京工業(yè)大學(xué) 2006
本文編號(hào):3479940
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