超寬帶隙Ga 2 O 3 和BN薄膜生長及阻變特性的研究
發(fā)布時間:2021-06-18 15:39
本論文圍繞超寬帶隙半導(dǎo)體材料Ga2O3和BN的制備及阻變特性展開了研究工作。超寬帶隙半導(dǎo)體材料因其大的禁帶寬度,高的電子遷移率以及大的擊穿場強,不僅成為制備高功率電力電子器件的理想材料,也成為制備深紫外波段光電器件的理想材料。此外,超寬帶隙半導(dǎo)體材料具有的高擊穿場強和高抗輻照特性,可以用于制備超薄結(jié)構(gòu)低功耗的新型高性能耐輻照阻性存儲器件。論文從材料的化學(xué)氣相沉積生長原理、材料特性表征以及阻變存儲器的制備表征等方面進行了研究工作,主要分為以下幾個方面:(1)利用MOCVD方法,在具有立方晶體結(jié)構(gòu)的GaAs(100)襯底上生長了具有單斜晶體結(jié)構(gòu)的β-Ga2O3薄膜,研究了生長壓力對β-Ga2O3薄膜擇優(yōu)取向、生長速率以及表面形貌等方面的影響;(2)在具有六方晶體結(jié)構(gòu)的GaN以及6H-SiC襯底上生長了六方晶體結(jié)構(gòu)的ε-Ga2O3薄膜,詳細(xì)表征了 ε-Ga2O3薄膜的晶體結(jié)構(gòu),并研究了亞穩(wěn)相ε-Ga2O3在高溫退火過程中的相變效應(yīng),研究了 ε-Ga203的熱穩(wěn)定性;(3)基于壓力調(diào)控的成核控制理論,在Al2O3襯底上實現(xiàn)了單一相ε-和β-Ga2O3薄膜的可控生長,研究了壓力調(diào)控在Ga2O3薄...
【文章來源】:大連理工大學(xué)遼寧省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:179 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?2014年諾貝爾物理學(xué)獎??Fig.?1.1?The?2014?Nobel?Prize?in?physics??
P=103.38°??其中,研究最廣泛的是在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下具有最穩(wěn)定晶體結(jié)構(gòu)的P-Ga203[28]。p-Ga203??為單斜晶體結(jié)構(gòu),對稱性較低。其晶體結(jié)構(gòu)如圖1.2所示。p-Ga203良好的物理和化學(xué)??穩(wěn)定性以及其優(yōu)異的光電特性,使其在近些年廣受關(guān)注。值得注意的是,單斜晶體結(jié)構(gòu)??使其在異質(zhì)外延生長過程中無晶格匹配的外延襯底,當(dāng)前通用的外延襯底為六方或者立??方結(jié)構(gòu),導(dǎo)致P-Ga203在外延生長中存在較大晶格失配。幸運的是P-Ga203可以通過高??-4-??
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【參考文獻】:
期刊論文
[1]我國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迎來5G機遇[J]. 朱邵歆. 高科技與產(chǎn)業(yè)化. 2017(10)
[2]Graphene resistive random memory — the promising memory device in next generation[J]. 王雪峰,趙海明,楊軼,任天令. Chinese Physics B. 2017(03)
[3]中國半導(dǎo)體存儲行業(yè)的未來發(fā)展路線[J]. 蔣朝暉,李鋒. 集成電路應(yīng)用. 2017(02)
[4]大數(shù)據(jù)分析的硬件與系統(tǒng)支持綜述[J]. 孫仕亮,陳俊宇. 小型微型計算機系統(tǒng). 2017(01)
[5]我國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)狀況分析[J]. 朱邵歆. 集成電路應(yīng)用. 2017(01)
[6]阻變存儲器發(fā)展現(xiàn)狀[J]. 劉森,劉琦. 國防科技. 2016(06)
[7]阻變存儲器研究進展[J]. 龍世兵,劉琦,呂杭炳,劉明. 中國科學(xué):物理學(xué) 力學(xué) 天文學(xué). 2016(10)
[8]Resistive switching characteristic and uniformity of low-power HfOx-based resistive random access memory with the BN insertion layer[J]. 蘇帥,鑒肖川,王芳,韓葉梅,田雨仙,王曉旸,張宏智,張楷亮. Chinese Physics B. 2016(10)
[9]非易失半導(dǎo)體存儲器技術(shù)[J]. 劉明. 光學(xué)與光電技術(shù). 2016(05)
[10]基于低溫化學(xué)氣相沉積法的碳化硅纖維表面氮化硼涂層制備及表征[J]. 王馳,孫妮娟,張娟,張大海. 科學(xué)通報. 2016(22)
博士論文
[1]碳基阻變存儲器導(dǎo)電通道調(diào)控及其機理研究[D]. 趙曉寧.東北師范大學(xué) 2016
[2]氧化物異質(zhì)結(jié)在阻變存儲器中的應(yīng)用[D]. 徐澤東.北京科技大學(xué) 2015
[3]三族氮化物極化工程在光電器件和隧穿器件的應(yīng)用[D]. 張克雄.大連理工大學(xué) 2014
[4]Ⅲ族氮化物紫光和近紫外LED的制備與研究[D]. 王東盛.大連理工大學(xué) 2014
[5]Beta-氧化鎵異質(zhì)外延薄膜的制備及特性研究[D]. 弭偉.山東大學(xué) 2014
[6]金屬/SiC半導(dǎo)體接觸的SiC表面等離子體改性研究[D]. 黃玲琴.大連理工大學(xué) 2013
[7]寬禁帶半導(dǎo)體材料的電子結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究[D]. 郭猛.山東大學(xué) 2012
[8]基于二元金屬氧化物阻變存儲器的研究[D]. 李穎弢.蘭州大學(xué) 2011
[9]立方氮化硼基多晶材料的制備與功能特性研究[D]. 王鵬飛.天津大學(xué) 2010
碩士論文
[1]射頻LDMOS功率晶體管的特性研究[D]. 梁坤元.電子科技大學(xué) 2016
[2]立方氮化硼晶體摻雜工藝及特性研究[D]. 李鑫璐.吉林大學(xué) 2014
[3]前驅(qū)物法低溫合成六方氮化硼[D]. 馮艷春.大連理工大學(xué) 2012
[4]六方氮化硼材料的制備及性能研究[D]. 高瑞.山東大學(xué) 2010
本文編號:3236929
【文章來源】:大連理工大學(xué)遼寧省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:179 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?2014年諾貝爾物理學(xué)獎??Fig.?1.1?The?2014?Nobel?Prize?in?physics??
P=103.38°??其中,研究最廣泛的是在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下具有最穩(wěn)定晶體結(jié)構(gòu)的P-Ga203[28]。p-Ga203??為單斜晶體結(jié)構(gòu),對稱性較低。其晶體結(jié)構(gòu)如圖1.2所示。p-Ga203良好的物理和化學(xué)??穩(wěn)定性以及其優(yōu)異的光電特性,使其在近些年廣受關(guān)注。值得注意的是,單斜晶體結(jié)構(gòu)??使其在異質(zhì)外延生長過程中無晶格匹配的外延襯底,當(dāng)前通用的外延襯底為六方或者立??方結(jié)構(gòu),導(dǎo)致P-Ga203在外延生長中存在較大晶格失配。幸運的是P-Ga203可以通過高??-4-??
b?Q?°?90=??圖1.2?(3-Ga203晶體結(jié)構(gòu)示意圖[37]??Fig.?1.2?Diagram?of?p-Ga2〇3?crystal?sturcture??基于其優(yōu)異的光電特性,當(dāng)前對P-Ga203的研宄主要集中在兩個方面,其一是日盲??區(qū)探測器件;其二是高功率場效應(yīng)晶體管。日盲探測方面,P-Ga203因為其特殊的禁帶??寬度4.9?eV,對應(yīng)的波長為250?nm正好位于太陽光譜日盲區(qū),被認(rèn)為是制備日盲區(qū)探??測器的理想材料。太陽光譜的日盲區(qū),是由于大氣層對太陽光譜的吸收產(chǎn)生了光譜真空??區(qū),在200?nm到280?nm波長范圍內(nèi),地表無法探測到來自太陽輻射產(chǎn)生的該波段內(nèi)的??光輻射,因此該波段內(nèi)的光探測在民用和軍事領(lǐng)域中有著十分重要的作用。例如導(dǎo)彈發(fā)??射預(yù)警,火災(zāi)預(yù)警以及環(huán)境監(jiān)測等[3842]。2011年,Suzuki等人[43],利用(3-Ga203單晶??作為襯底制備了基于Au/p-Ga203肖特基接觸的日盲區(qū)探測器
【參考文獻】:
期刊論文
[1]我國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迎來5G機遇[J]. 朱邵歆. 高科技與產(chǎn)業(yè)化. 2017(10)
[2]Graphene resistive random memory — the promising memory device in next generation[J]. 王雪峰,趙海明,楊軼,任天令. Chinese Physics B. 2017(03)
[3]中國半導(dǎo)體存儲行業(yè)的未來發(fā)展路線[J]. 蔣朝暉,李鋒. 集成電路應(yīng)用. 2017(02)
[4]大數(shù)據(jù)分析的硬件與系統(tǒng)支持綜述[J]. 孫仕亮,陳俊宇. 小型微型計算機系統(tǒng). 2017(01)
[5]我國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)狀況分析[J]. 朱邵歆. 集成電路應(yīng)用. 2017(01)
[6]阻變存儲器發(fā)展現(xiàn)狀[J]. 劉森,劉琦. 國防科技. 2016(06)
[7]阻變存儲器研究進展[J]. 龍世兵,劉琦,呂杭炳,劉明. 中國科學(xué):物理學(xué) 力學(xué) 天文學(xué). 2016(10)
[8]Resistive switching characteristic and uniformity of low-power HfOx-based resistive random access memory with the BN insertion layer[J]. 蘇帥,鑒肖川,王芳,韓葉梅,田雨仙,王曉旸,張宏智,張楷亮. Chinese Physics B. 2016(10)
[9]非易失半導(dǎo)體存儲器技術(shù)[J]. 劉明. 光學(xué)與光電技術(shù). 2016(05)
[10]基于低溫化學(xué)氣相沉積法的碳化硅纖維表面氮化硼涂層制備及表征[J]. 王馳,孫妮娟,張娟,張大海. 科學(xué)通報. 2016(22)
博士論文
[1]碳基阻變存儲器導(dǎo)電通道調(diào)控及其機理研究[D]. 趙曉寧.東北師范大學(xué) 2016
[2]氧化物異質(zhì)結(jié)在阻變存儲器中的應(yīng)用[D]. 徐澤東.北京科技大學(xué) 2015
[3]三族氮化物極化工程在光電器件和隧穿器件的應(yīng)用[D]. 張克雄.大連理工大學(xué) 2014
[4]Ⅲ族氮化物紫光和近紫外LED的制備與研究[D]. 王東盛.大連理工大學(xué) 2014
[5]Beta-氧化鎵異質(zhì)外延薄膜的制備及特性研究[D]. 弭偉.山東大學(xué) 2014
[6]金屬/SiC半導(dǎo)體接觸的SiC表面等離子體改性研究[D]. 黃玲琴.大連理工大學(xué) 2013
[7]寬禁帶半導(dǎo)體材料的電子結(jié)構(gòu)與性質(zhì)研究[D]. 郭猛.山東大學(xué) 2012
[8]基于二元金屬氧化物阻變存儲器的研究[D]. 李穎弢.蘭州大學(xué) 2011
[9]立方氮化硼基多晶材料的制備與功能特性研究[D]. 王鵬飛.天津大學(xué) 2010
碩士論文
[1]射頻LDMOS功率晶體管的特性研究[D]. 梁坤元.電子科技大學(xué) 2016
[2]立方氮化硼晶體摻雜工藝及特性研究[D]. 李鑫璐.吉林大學(xué) 2014
[3]前驅(qū)物法低溫合成六方氮化硼[D]. 馮艷春.大連理工大學(xué) 2012
[4]六方氮化硼材料的制備及性能研究[D]. 高瑞.山東大學(xué) 2010
本文編號:3236929
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