鈰鑭合金薄膜的分子束外延制備及其相變與電輸運(yùn)研究
發(fā)布時(shí)間:2021-04-23 20:03
含f電子的鑭系和錒系元素是元素周期表中最復(fù)雜的成員,它們常表現(xiàn)出奇異的物理特性。其中最簡單而具代表性的就是金屬Ce的γ-α相變,該相變不僅晶體結(jié)構(gòu)保持面心立方(fcc)不變,而且伴隨有約15%的體積塌縮和磁性變化。多年來,大量理論和實(shí)驗(yàn)研究都致力于理解這一奇特相變的微觀機(jī)制,其結(jié)果表明該相變與Ce的4f電子的局域-巡游雙重特性及其與傳導(dǎo)電子的雜化有關(guān)。Ce的外層電子結(jié)構(gòu)為4f15d16s2,其中4f電子的能級與價(jià)帶的5d和6s電子能級的能量接近,導(dǎo)致4f電子性質(zhì)對外界環(huán)境相當(dāng)敏感,造就了其局域-巡游雙重特性和Ce的復(fù)雜物性。La的外層電子結(jié)構(gòu)為5d16s2,不含4f電子,且可以與Ce以任意配比形成合金,以此調(diào)節(jié)其4f電子的性質(zhì),改變Ce的相變行為。Ce的γ-α相變存在顯著的相變遲滯,即γ→α相變的起始溫度(Ms=-100K)遠(yuǎn)低于α→γ相變的起始溫度(As=~170K),而α-Ce的電阻率顯著大于y-Ce的電阻率,因此Ce的γ-α相變將在其2到300 K的電阻率-溫度(ρ-T)...
【文章來源】:中國工程物理研究院北京市
【文章頁數(shù)】:51 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究背景
1.2 金屬Ce的結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
1.2.1 Ce的相圖與各相晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 Ce的相變及其物理模型
1.2.3 Ce的電輸運(yùn)性質(zhì)
1.3 單晶Ce薄膜的制備及其電子結(jié)構(gòu)研究現(xiàn)狀
1.3.1 單晶Ce薄膜MBE制備與晶體結(jié)構(gòu)表征
1.3.2 室溫下Ce/W(110)單晶薄膜的能帶結(jié)構(gòu)及可能的表面態(tài)
1.3.3 Ce/W(110)單層膜中4f電子與傳導(dǎo)電子的雜化
1.4 研究意義與內(nèi)容
1.4.1 鈰鑭合金薄膜的研究意義
1.4.2 主要研究內(nèi)容
1.5 本章小節(jié)
第二章 鈰鑭合金薄膜的制備及晶體表征
2.1 引言
2.2 鈰鑭合金薄膜的制備
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的MBE生長"> 2.2.1 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的MBE生長
2.2.2 Graphene/6H-SiC襯底的制備
2.2.3 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)單晶薄膜的MBE生長
2.3 鈰鑭合金薄膜的晶體表征
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的XRD表征"> 2.3.1 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的XRD表征
2.3.2 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(LR)單晶薄膜的RHEED及VTXRD表征
2.3.3 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(HR)薄膜的RHEED及XRD表征
第三章 鈰鑭合金薄膜的電輸運(yùn)測量與相變
3.1 引言
3.2 測量方法
2O3(11-20)及Ce0.967La0.033/Al2O3(11-20)薄膜的循環(huán)變溫輸運(yùn)測量與相變"> 3.3 Ce/Al2O3(11-20)及Ce0.967La0.033/Al2O3(11-20)薄膜的循環(huán)變溫輸運(yùn)測量與相變
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變"> 3.4 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變
3.5 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(HR)單晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變
第四章 總結(jié)與展望
參考文獻(xiàn)
致謝
附錄
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]金屬Ce的電子結(jié)構(gòu)與γ-α相變機(jī)制:理論模型的發(fā)展及借助角分辨光電子能譜的實(shí)驗(yàn)研究進(jìn)展[J]. 段煜,羅學(xué)兵,張?jiān)?張文,馮衛(wèi),郝群慶,羅麗珠,劉琴,陳秋云,譚世勇,朱燮剛,賴新春. 材料導(dǎo)報(bào). 2019(19)
本文編號:3155951
【文章來源】:中國工程物理研究院北京市
【文章頁數(shù)】:51 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 研究背景
1.2 金屬Ce的結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
1.2.1 Ce的相圖與各相晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 Ce的相變及其物理模型
1.2.3 Ce的電輸運(yùn)性質(zhì)
1.3 單晶Ce薄膜的制備及其電子結(jié)構(gòu)研究現(xiàn)狀
1.3.1 單晶Ce薄膜MBE制備與晶體結(jié)構(gòu)表征
1.3.2 室溫下Ce/W(110)單晶薄膜的能帶結(jié)構(gòu)及可能的表面態(tài)
1.3.3 Ce/W(110)單層膜中4f電子與傳導(dǎo)電子的雜化
1.4 研究意義與內(nèi)容
1.4.1 鈰鑭合金薄膜的研究意義
1.4.2 主要研究內(nèi)容
1.5 本章小節(jié)
第二章 鈰鑭合金薄膜的制備及晶體表征
2.1 引言
2.2 鈰鑭合金薄膜的制備
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的MBE生長"> 2.2.1 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的MBE生長
2.2.2 Graphene/6H-SiC襯底的制備
2.2.3 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)單晶薄膜的MBE生長
2.3 鈰鑭合金薄膜的晶體表征
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的XRD表征"> 2.3.1 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的XRD表征
2.3.2 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(LR)單晶薄膜的RHEED及VTXRD表征
2.3.3 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(HR)薄膜的RHEED及XRD表征
第三章 鈰鑭合金薄膜的電輸運(yùn)測量與相變
3.1 引言
3.2 測量方法
2O3(11-20)及Ce0.967La0.033/Al2O3(11-20)薄膜的循環(huán)變溫輸運(yùn)測量與相變"> 3.3 Ce/Al2O3(11-20)及Ce0.967La0.033/Al2O3(11-20)薄膜的循環(huán)變溫輸運(yùn)測量與相變
xLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變"> 3.4 CexLa1-x/Al2O3(11-20)多晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變
3.5 Ce/Graphene/6H-SiC(0001)(HR)單晶薄膜的輸運(yùn)測量與相變
第四章 總結(jié)與展望
參考文獻(xiàn)
致謝
附錄
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]金屬Ce的電子結(jié)構(gòu)與γ-α相變機(jī)制:理論模型的發(fā)展及借助角分辨光電子能譜的實(shí)驗(yàn)研究進(jìn)展[J]. 段煜,羅學(xué)兵,張?jiān)?張文,馮衛(wèi),郝群慶,羅麗珠,劉琴,陳秋云,譚世勇,朱燮剛,賴新春. 材料導(dǎo)報(bào). 2019(19)
本文編號:3155951
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