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二硫化鎢薄膜的可控制備及其表面增強(qiáng)拉曼研究

發(fā)布時(shí)間:2021-01-27 20:10
  近年來(lái),二維類(lèi)石墨烯材料由于其優(yōu)異的光、電、力學(xué)等性質(zhì)吸引了大量工作者的廣泛研究。單層的二維過(guò)渡金屬硫族化合物(TMDs)材料具有石墨烯所不具備的直接帶隙,在諸多領(lǐng)域均有較大的應(yīng)用潛質(zhì),相比于其他的二維TMDs材料,WS2具備密度和分子量較高,自旋軌道耦合強(qiáng),且具有雙極性電子輸運(yùn)特性等優(yōu)勢(shì),得到了廣泛的應(yīng)用。但是可控地合成WS2仍然面臨著巨大的挑戰(zhàn),本文利用化學(xué)氣相沉積法可控地制備出大面積、高質(zhì)量的WS2薄膜,分析了不同生長(zhǎng)參數(shù)對(duì)WS2薄膜形貌的影響,探索了其生長(zhǎng)機(jī)制,并研究了WS2薄膜對(duì)R6G分子的拉曼增強(qiáng)效果,研究的內(nèi)容主要包括以下幾個(gè)方面:首先,通過(guò)傳統(tǒng)的低壓化學(xué)氣相沉積法,在SiO2(300nm)/Si襯底上成功制備出WS2薄膜,分析出三種生長(zhǎng)參數(shù)(S引入時(shí)間,WO3前驅(qū)體溫度和生長(zhǎng)溫度)對(duì)生長(zhǎng)所得到的產(chǎn)物以及產(chǎn)物形貌的影響,發(fā)現(xiàn)生長(zhǎng)所得到的產(chǎn)物以及產(chǎn)物的形貌高度依賴(lài)于S前驅(qū)體濃度、W前驅(qū)體濃度和W原子與... 

【文章來(lái)源】:南京郵電大學(xué)江蘇省

【文章頁(yè)數(shù)】:62 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【圖文】:

二硫化鎢薄膜的可控制備及其表面增強(qiáng)拉曼研究


基于石墨烯結(jié)構(gòu)的富勒烯、碳納米管和石墨[2]

晶體結(jié)構(gòu),三維結(jié)構(gòu),原子,六方晶格


(a)WS2結(jié)構(gòu)典型三維結(jié)構(gòu)示意圖(b)WS2面內(nèi)晶體結(jié)構(gòu)(c)WS2面外晶體結(jié)構(gòu)

二硫化鎢,晶體結(jié)構(gòu)


圖 1.3 二硫化鎢的三種晶體結(jié)構(gòu)種堆垛方式,其中最常見(jiàn)的三種晶體結(jié)構(gòu)2H 和 3R 這兩種晶體結(jié)構(gòu)是天然存在的出半導(dǎo)體行為。這三種晶體結(jié)構(gòu)分別屬于構(gòu);2H 屬于三方晶系,為六方配位結(jié)構(gòu)R 屬于斜方對(duì)稱(chēng)晶系,為菱形對(duì)稱(chēng)結(jié)構(gòu),C 的方式堆垛。值得一提地是,單層二硫兩種排列方式。在 1T 這種排序方式中方柱面體配位,排序方式 1H 是單層 WS構(gòu)示,塊狀二硫化鎢表現(xiàn)為間接半導(dǎo)體特性


本文編號(hào):3003654

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