發(fā)布時(shí)間：2019-08-11 15:46

【摘要】：光學(xué)功能薄膜廣泛應(yīng)用于光電產(chǎn)業(yè)、國防、環(huán)境科學(xué)等眾多領(lǐng)域,市場前景廣闊。本文針對(duì)窄帶濾光片和高反射膜兩種光學(xué)功能薄膜進(jìn)行了研究,通過對(duì)膜系設(shè)計(jì)以及對(duì)制備工藝的研究與優(yōu)化,取得了一些有價(jià)值的研究成果。本文的主要研究內(nèi)容和成果如下:1.針對(duì)于醫(yī)用窄帶濾光片,基于法布里-鉑羅標(biāo)準(zhǔn)具帶通濾光片的基本結(jié)構(gòu)形式,并輔以TFCalc膜系設(shè)計(jì)軟件,設(shè)計(jì)了符合使用要求(530±20nm@T92%,截止帶透過率小于0.5%)的窄帶濾光片,并采用射頻離子束濺射鍍膜技術(shù)成功制備了符合要求的窄帶濾光片。2.針對(duì)于可見光波段的高反射膜,研究了多個(gè)多層介質(zhì)高反射膜堆疊加使用設(shè)計(jì)高反射膜系,并輔以TFCalc膜系設(shè)計(jì)軟件設(shè)計(jì)了符合使用要求(入射角度24°、R92%)的可見光波段(400~750nm)高反射膜系。利用離子束輔助電子槍熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù),研究了不同Tooling值及不同高折射率材料對(duì)于高反射膜光學(xué)性能的影響,制備出了符合設(shè)計(jì)要求的高反射膜。
【圖文】：

圖 2.1 E 的邊界條件法拉第電磁感應(yīng)定律有：dStBEdls 中 Et1和 Et2分別表示 E 在介質(zhì) 1 和介質(zhì) 2 中的切向分量，，且 d 的值

圖 2.2 垂直入射時(shí)電矢量正方向標(biāo)記 0E 、 0E , 0H , 0H 分別代表 E 和 H 處于入射介質(zhì)之中時(shí)的各個(gè)分量，28）得： 0000HNSE
【學(xué)位授予單位】：青島大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號(hào)】：TB43

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本文編號(hào)：2525376