【摘要】：原子層沉積(ALD)是一種獨(dú)特的薄膜沉積方法,能夠?qū)崿F(xiàn)完美的臺(tái)階復(fù)形和大面積均勻沉積,為薄膜成分和厚度提供原子級(jí)控制。本文將ALD的優(yōu)點(diǎn)與納米光子學(xué)聯(lián)系起來(lái),總結(jié)了ALD膜層在幾種硅波導(dǎo)新結(jié)構(gòu)中的性能優(yōu)化作用,綜述了近年來(lái)利用ALD制備納米光子波導(dǎo)器件的一些研究成果。
[Abstract]:Atomic layer deposition (ALD) is a unique thin film deposition method, which can achieve perfect step complex and large area uniform deposition, and provide atomic level control for film composition and thickness. In this paper, the advantages of ALD are combined with nano-photonics, and the performance optimization of ALD film in several new silicon waveguide structures is summarized. Some recent research results on the fabrication of nanoscale photonic waveguide devices using ALD are summarized.
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所;
【分類號(hào)】：O484

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本文編號(hào)：2214139