發(fā)布時間：2018-06-14 14:42

  本文選題：碳氧化硅薄膜 + 等離子增強化學氣相沉積　； 參考：《南京大學學報(自然科學)》2017年03期

【摘要】：采用甚高頻等離子增強化學氣相沉積技術,以SiH_4,CH_4和O_2作為反應氣源,在150℃下制備非晶碳氧化硅薄膜,并對薄膜進行不同條件下快速熱退火處理,研究快速熱退火處理對其結構和發(fā)光特性的影響.實驗表明,原始沉積薄膜在可見光全波段展現(xiàn)較強的光致發(fā)光特性,經(jīng)過快速熱退火處理后,其發(fā)光強度顯著增強.薄膜在700℃經(jīng)過快速熱退火10s后,相比于原始沉積薄膜,其發(fā)光強度增強6倍,肉眼可見強的藍綠光光發(fā)射.光熒光譜(PL)分析表明,薄膜的發(fā)光峰位不隨激發(fā)波長的改變而發(fā)生明顯變化.通過結合拉曼(Raman)光譜及傅里葉紅外吸收(FTIR)光譜對薄膜的微結構及鍵合結構分析,分析了不同退火溫度和退火時間對其藍綠光發(fā)射增強機制的影響.
[Abstract]:The effect of annealing temperature and annealing time on the emission enhancement mechanism of blue - green light was studied by means of Raman spectroscopy and FTIR spectroscopy .
【作者單位】： 韓山師范學院材料科學與工程學院;
【基金】：國家自然科學基金(61274140,61306003) 廣東省自然科學基金(2015A030313871) 廣東高校優(yōu)秀青年創(chuàng)新人才培養(yǎng)計劃(YQ2015112)
【分類號】：O484

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本文編號：2017743