本文選題：電磁屏蔽 + 金屬網(wǎng)柵　； 參考：《長春理工大學(xué)》2017年碩士論文

【摘要】：目前空間電磁環(huán)境日趨復(fù)雜化,為滿足光學(xué)器件透可見/紅外波段屏蔽電磁波的要求,本文研究在PET柔性基底上制作金屬網(wǎng)柵電磁屏蔽膜。通過分析網(wǎng)柵參數(shù)對其電磁屏蔽效率及透過率的影響,優(yōu)化設(shè)計網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)。針對PET基底的柔性特點(diǎn)及其熱穩(wěn)定性,經(jīng)試驗(yàn)研究優(yōu)化光刻工藝中的各工序參數(shù)并解決參數(shù)間的匹配問題,從而得到所需的圖形結(jié)構(gòu)。對比了熱蒸發(fā)和磁控濺射法制備金屬膜的牢固性和膜層質(zhì)量,采用磁控濺射法制備電磁屏蔽膜,通過優(yōu)化濺射功率、濺射氣壓等參數(shù)使膜/基結(jié)合更牢固。最后在PET基底上得到線寬為9μm,周期為160μm的金屬網(wǎng)柵電磁屏蔽膜,其在400~2000nm波段的透過率為73%;在2~18GHz頻段的電磁屏蔽效率為15dB以上。
[Abstract]:At present, the space electromagnetic environment is becoming more and more complicated. In order to meet the requirements of optical devices to screen electromagnetic waves in the visible / infrared band, this paper studies the fabrication of metal grid electromagnetic shielding films on PET flexible substrates. By analyzing the influence of grid parameters on the electromagnetic shielding efficiency and transmittance, the grid structure is optimized. According to the flexibility and thermal stability of PET substrate, the process parameters in lithography process are optimized and the matching problem between parameters is solved. The stability and film quality of metal films prepared by thermal evaporation and magnetron sputtering were compared. The electromagnetic shielding films were prepared by magnetron sputtering. The film / substrate bonding was strengthened by optimizing sputtering power, sputtering pressure and other parameters. Finally, a metal grid electromagnetic shielding film with a linewidth of 9 渭 m and a period of 160 渭 m was obtained on the PET substrate, with a transmittance of 73 in the 400~2000nm band and an electromagnetic shielding efficiency of more than 15dB in the 2~18GHz band.
【學(xué)位授予單位】：長春理工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2017
【分類號】：TB383.2;O441.4

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號：1830867