本文選題：低壓等離子噴涂 + 鉬靶材　； 參考：《粉末冶金技術(shù)》2017年04期

【摘要】：采用低壓等離子噴涂成形技術(shù)制備了片狀及回轉(zhuǎn)體鉬靶材,研究了鉬靶材孔隙率、氧含量、微觀結(jié)構(gòu)、顯微硬度及拉伸強度等性能,開展了片狀鉬靶材的磁控濺射鍍膜研究。研究結(jié)果表明:低壓等離子噴涂成形鉬靶材為典型的定向凝固柱狀晶層片結(jié)構(gòu),層片界面結(jié)合緊密,孔隙率約1.1%、氧質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.18%,顯微硬度為HV0.025 361.8,抗拉強度達(dá)到373.2 MPa,各項指標(biāo)均明顯優(yōu)于大氣等離子噴涂成形鉬制品。低壓等離子噴涂成形片狀鉬靶材可磁控濺射沉積出平整、致密、連續(xù)的鉬薄膜,鍍膜厚度約700 nm,X射線衍射譜線表明鉬薄膜為體心立方結(jié)構(gòu),沿(110)方向擇優(yōu)生長。磁控濺射離子的均勻轟擊導(dǎo)致鉬靶材表面快速濺射及均勻減薄,濺射表面及截面較為平整光滑,濺射凹坑均為納米級。
[Abstract]:Sheet and rotary molybdenum targets were prepared by low pressure plasma spraying. The porosity, oxygen content, microstructure, microhardness and tensile strength of molybdenum targets were studied. The results show that the molybdenum target formed by low pressure plasma spraying is a typical directionally solidified columnar lamellar structure, and the interface of the laminates is close. The porosity is about 1.1%, the oxygen content is 0.18, the microhardness is HV0.025 361.8, the tensile strength is up to 373.2 MPA, and each index is obviously superior to that of the molybdenum products formed by atmospheric plasma spraying. The molybdenum films formed by low pressure plasma spraying can be deposited by magnetron sputtering. The thickness of the films is about 700 nm ~ (-1) X ray diffraction (XRD), which indicates that the molybdenum films are body-centered cubic structure and the preferred growth direction is along the direction of (110). The surface of molybdenum target is rapidly sputtering and thinning due to the uniform bombardment of magnetron sputtering ions. The sputtering surface and section are smooth and smooth. The sputtering pits are nano-sized.
【作者單位】： 湖南科技大學(xué)高溫耐磨材料及制備技術(shù)湖南省國防科技重點實驗室;湖南科技大學(xué)難加工材料高效精密加工技術(shù)湖南省重點實驗室;湖南省冶金材料研究院先進(jìn)涂層技術(shù)研究所;中南大學(xué)粉末冶金國家重點實驗室;華南理工大學(xué)國家金屬材料近凈成形工程技術(shù)研究中心;廣東省材料與加工研究所廣東省金屬強韌化技術(shù)與應(yīng)用重點實驗室;
【基金】：湖南省自然科學(xué)湘潭聯(lián)合基金資助項目(2016JJ5029) 湖南省軍民融合產(chǎn)業(yè)發(fā)展專項資金資助項目(B116J1) 中國博士后科學(xué)基金第53批面上資助項目(2013M531804);中國博士后科學(xué)基金第7批特別資助項目(2014T70784) 武漢理工大學(xué)材料復(fù)合新技術(shù)國家重點實驗室開放基金資助項目(2015-KF-14) 華中科技大學(xué)材料成形與模具技術(shù)國家重點實驗室開放基金資助項目(P2016-20) 中南大學(xué)粉末冶金國家重點實驗室開放基金資助項目(2014-SKL-13) 華南理工大學(xué)國家金屬材料近凈成形工程技術(shù)研究中心開放基金資助項目(2016003) 廣東省金屬強韌化技術(shù)與應(yīng)用重點實驗室開放基金資助項目(GKL201610) 湖南省教育廳科學(xué)研究一般項目資助項目(13C314)
【分類號】：TB383.2;TG146.412

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 張國君;馬杰;安耿;孫院軍;;靶材熱處理溫度對磁控濺射Mo薄膜組織和性能的影響[J];中國鉬業(yè);2014年06期

2 劉仁智;;鉬板軋制及熱處理工藝對濺射薄膜微觀組織及性能的影響[J];材料導(dǎo)報;2014年22期

3 張國君;馬杰;安耿;孫院軍;;熱處理溫度對鉬靶材微觀組織和性能的影響[J];中國鉬業(yè);2014年05期

4 劉仁智;王快社;孫院軍;;鉬靶材變形量及熱處理對薄膜微觀組織及性能的影響[J];粉末冶金技術(shù);2014年05期

5 梁靜;林小輝;;等離子噴涂技術(shù)在濺射靶材制備中的應(yīng)用[J];中國鉬業(yè);2014年02期

6 梁俊才;穆健剛;張鳳戈;周武平;趙海波;;硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的研究[J];粉末冶金工業(yè);2014年02期

7 劉仁智;孫院軍;王快社;安耿;李晶;王引婷;;Mo靶材組織對濺射薄膜形貌及性能的影響[J];稀有金屬材料與工程;2012年09期

8 王躍明;熊翔;解路;徐玄;閔小兵;;鎢異形件等離子噴涂近凈成形技術(shù)研究[J];中南大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版);2012年04期

9 羅俊鋒;丁照崇;董亭義;何金江;王欣平;江軒;;釕金屬濺射靶材燒結(jié)工藝研究[J];粉末冶金工業(yè);2012年01期

10 儲志強;;國內(nèi)外磁控濺射靶材的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢[J];金屬材料與冶金工程;2011年04期

【共引文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 王躍明;閔小兵;熊翔;劉東華;王芬;閆志巧;;高品質(zhì)鉬靶材低壓等離子噴涂成形技術(shù)研究[J];粉末冶金技術(shù);2017年04期

2 袁學(xué)敏;趙中雷;;國內(nèi)濺射靶材行業(yè)視角下鎳釩濺射靶材的制備及應(yīng)用探討[J];中國建材科技;2017年03期

3 吳王平;蔣金金;王輝;江鵬;王知鷙;孔德軍;;多弧離子鍍法制備TiAlNC涂層的微觀結(jié)構(gòu)[J];材料熱處理學(xué)報;2017年02期

4 王躍明;楊青青;熊翔;時啟龍;解路;;氣氛保護(hù)等離子噴涂成形W/Re合金噴管的抗熱震燒蝕性能研究[J];礦冶工程;2017年01期

5 ;關(guān)于檢測學(xué)術(shù)不端的公告[J];礦冶工程;2017年01期

6 梁婷婷;王愛琴;趙海麗;謝敬佩;;磁控濺射法制備鉬薄膜的研究現(xiàn)狀[J];電鍍與涂飾;2016年24期

7 賈國斌;馮寅楠;賈英;;磁控濺射用難熔金屬靶材制作、應(yīng)用與發(fā)展[J];金屬功能材料;2016年06期

8 王懷國;史文方;聶祚仁;張勁松;;中國稀貴金屬材料技術(shù)進(jìn)展[J];科技導(dǎo)報;2016年17期

9 黨曉明;安耿;李晶;劉仁智;;鈮粉粒度和燒結(jié)方法對鉬鈮合金的影響[J];粉末冶金技術(shù);2016年04期

10 鄭金鳳;扈百直;楊國啟;羅文;鄭愛國;;高純鉭濺射靶材制備工藝進(jìn)展[J];湖南有色金屬;2016年04期

【二級參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 黃江波;魏修宇;李光宗;張外平;夏艷成;常理;宋立強;;熱軋變形量及退火工藝對鉬板材組織和性能的影響[J];硬質(zhì)合金;2013年05期

2 鄧自南;劉競艷;;LCD濺射靶材用大尺寸鉬板工藝、組織、織構(gòu)與性能研究[J];中國鉬業(yè);2013年03期

3 張艷霞;冀亞欣;歐玉峰;閆勇;李莎莎;劉連;張勇;趙勇;余洲;;濺射時間對Mo薄膜結(jié)晶取向的影響[J];功能材料;2013年06期

4 劉仁智;孫院軍;王快社;安耿;李晶;王引婷;;Mo靶材組織對濺射薄膜形貌及性能的影響[J];稀有金屬材料與工程;2012年09期

5 譚政;夏光明;熊翔;王躍明;解路;嚴(yán)淑群;閔小兵;;ZrC對等離子噴涂成形鉬制品的影響[J];金屬材料與冶金工程;2012年03期

6 王錦;安耿;劉仁智;;熱加工方式及總變形量對厚鉬板退火組織的影響[J];中國鉬業(yè);2012年02期

7 范海波;孫院軍;趙寶華;安耿;劉仁智;;濺射電流和時間對鉬薄膜電學(xué)性能的影響[J];中國鉬業(yè);2012年01期

8 解路;熊翔;王躍明;徐玄;閔小兵;;熱等靜壓對等離子噴涂成形制備鉬制品的影響[J];中南大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版);2011年10期

9 王震東;賴珍荃;范定環(huán);徐鵬;;高擇優(yōu)取向Mo薄膜的直流磁控濺射制備及其電學(xué)性能[J];光子學(xué)報;2011年09期

10 趙志明;丁宇;曹智睿;田亞萍;屈直;張國君;蔣百靈;;CIGS薄膜太陽能電池用Mo背電極的制備與結(jié)構(gòu)性能研究[J];材料導(dǎo)報;2011年12期

，

本文編號：1774359