本文選題：超材料　切入點(diǎn)：薄膜制備　出處：《潤(rùn)滑與密封》2017年03期

【摘要】：正中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所提出了一種金屬陶瓷超材料薄膜制備新方法,該方法采用傳統(tǒng)的射頻共濺射沉積工藝,輔以襯底偏壓,制備了定向排布Ag金屬納米線/氧化鋁陶瓷復(fù)合超材料薄膜,納米線間距(軸心到軸心)進(jìn)入sub-5 nm區(qū)間,陣列中納米線平均直徑約為3 nm;納米線長(zhǎng)徑比可根據(jù)沉積時(shí)間來靈活調(diào)整;利用PVD
[Abstract]:The Institute of Materials Technology and Engineering, Ningbo Institute of Chinese Academy of Sciences, has proposed a new method for the preparation of metamaterials thin films. The method is based on the conventional RF co-sputtering technique, supplemented by substrate bias. The Ag nanowires / alumina ceramic composite supermaterial films were prepared. The nanowire spacing (axis to axis) entered the sub-5 nm region. The average diameter of nanowires in the array is about 3 nm. The aspect ratio of nanowires can be adjusted flexibly according to deposition time. PVD is used
【分類號(hào)】：TB383.2

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本文編號(hào)：1658305