本文選題：光電極值法　切入點(diǎn)：光學(xué)薄膜　出處：《光學(xué)技術(shù)》2017年02期

【摘要】：光電極值法是光學(xué)薄膜厚度監(jiān)測(cè)的常用方法,該方法在鍍膜前引用塊狀材料的折射率設(shè)計(jì)膜系。而在實(shí)際鍍制過程中,用于鍍制光學(xué)薄膜的材料折射率會(huì)發(fā)生改變,從而給膜厚的監(jiān)控帶來誤差。為了避免折射率變化的影響,采用外差干涉法測(cè)量折射率,將實(shí)際測(cè)得的薄膜折射率應(yīng)用光電極值法監(jiān)控薄膜的設(shè)計(jì),從而減少了因材料折射率的變化引起的誤差。以750nm截止濾光片的鍍制為被測(cè)對(duì)象進(jìn)行了實(shí)驗(yàn),對(duì)制備的濾光片透射率光譜曲線進(jìn)行了比較。結(jié)果表明,實(shí)際的透射率曲線與設(shè)計(jì)的透射率曲線吻合較好,兩次實(shí)驗(yàn)曲線平均吻合度均在98%以上,系統(tǒng)穩(wěn)定性很好,從而說明結(jié)合外差干涉法的光電極值監(jiān)控法可以很好地克服折射率變化引起的誤差。
[Abstract]:The optoelectronic extreme value method is a common method to monitor the thickness of optical thin films. The refractive index design system of bulk materials is used in this method before coating. However, the refractive index of materials used for optical thin films will change in the process of actual plating. In order to avoid the influence of refractive index change, the refractive index is measured by heterodyne interferometry. Therefore, the error caused by the change of refractive index of the material is reduced. The experiment is carried out with the plating of the 750nm cut-off filter as the measured object, and the transmittance spectral curves of the prepared filter are compared. The results show that, The actual transmittance curve is in good agreement with the designed transmittance curve. The average coincidence of the two experimental curves is above 98%, and the stability of the system is very good. It shows that the optoelectronic extreme value monitoring method combined with heterodyne interferometry can overcome the error caused by refractive index change.
【作者單位】： 上海理工大學(xué)光電信息與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院;上海市現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：國(guó)家重大儀器專項(xiàng)(2014YQ09070903,2013YQ03065104) 863計(jì)劃(2015AA020401)
【分類號(hào)】：O484.5

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本文編號(hào)：1655973