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離子鍍膜機真空機組設計及涂層工藝研究

發(fā)布時間:2021-04-18 22:04
  為提高切削刀具的耐磨性、耐蝕性以及使用壽命,常在刀具表面涂一層硬質(zhì)薄膜來滿足使用。采用離子鍍膜機制備刀具薄膜是薄膜制備的一種重要方法,在刀具行業(yè)應用廣泛。薄膜通常是在高真空環(huán)境下制備的,因此高真空環(huán)境的獲得對于離子鍍膜機尤為重要。 本文首先簡單介紹了真空技術基本知識,以及幾種常用真空獲得設備的結構和原理。通過分析比較各種真空泵的優(yōu)缺點,結合離子鍍膜機對真空度的要求,制定了真空系統(tǒng)的總體設計方案。通過流導、抽氣速率的具體計算,確定了以擴散泵為主泵,前級泵為羅茨泵+機械泵的高真空機組。經(jīng)過實際測試,結果證明了該設計方案的可行性。 在離子鍍膜機中成功制備了TiAlN薄膜,研究了不同的Al靶電流對薄膜性能的影響。通過顯微硬度儀、劃痕儀、金相顯微鏡、XRD、SEM和EDS等儀器分別對薄膜的硬度、結合力、表面形貌、物相、斷口形貌等主要性能進行了測試分析。結果表明,制備出的樣品的宏觀顏色受Al靶電流的影響,呈現(xiàn)出不同的顏色,隨Al靶電流的增大由黃紅色漸變?yōu)楹谏。顯微硬度和結合力測試表明,薄膜的最高硬度為2893HV,最大結合力達到75N。金相觀察可看出薄膜表面大致平整,但都有尺寸不一的凹坑,隨Al靶電流的增加,薄膜表面變得較為光滑,但當Al靶電流為22A時,薄膜的表面粗糙度又增大。XRD表明Al靶電流較小時,只出現(xiàn)TiN相;當Al靶電流提高到18A時出現(xiàn)了Ti3AlN相,說明Al靶電流的大小決定了沉積到基體表面的Al原子的能量,Al原子的能量只有超過某一臨界值時,才可以置換TiN中的Ti原子。掃描電鏡可以看到膜層呈柱狀晶生長。能譜分析表明膜層中的Al含量隨Al靶電流的增加而增大。
【學位授予單位】:西華大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2014
【分類號】:TG173;TB75
文章目錄
摘要
Abstract
1. 緒論
    1.1 引言
    1.2 薄膜技術
        1.2.1 薄膜的形成過程
        1.2.2 薄膜的生長方式
        1.2.3 影響薄膜生長的因素
    1.3 磁控濺射離子鍍技術
        1.3.1 磁控濺射離子鍍設備
        1.3.2 磁控濺射離子鍍的原理
        1.3.3 磁控濺射離子鍍的特點
        1.3.4 磁控濺射離子鍍的發(fā)展和應用
    1.4 TiAlN 薄膜的結構性能及應用
    1.5 本課題研究的目的及意義、內(nèi)容和技術路線
        1.5.1 研究的目的及意義
        1.5.2 研究的內(nèi)容
        1.5.3 研究技術路線
2 離子鍍鍍膜機真空機組的設計
    2.1 真空技術
        2.1.1 真空的基本概念
        2.1.2 真空中氣體分子運動理論
    2.2 真空獲得設備
        2.2.1 低中真空獲得設備
        2.2.2 高真空獲得設備
    2.3 鍍膜機真空機組設計方案及計算
        2.3.1 技術要求
        2.3.2 主泵的選取
        2.3.3 前級真空泵的選用
        2.3.4 計算抽氣時間
        2.3.5 真空測量設備以及閥門的選用
        2.3.6 真空機組的工作過程
        2.3.7 真空機組結構
3 TiAlN 薄膜的制備及結果分析
    3.1 實驗設備及材料
        3.1.1 實驗設備
        3.1.2 實驗材料
    3.2 鍍膜工藝流程及參數(shù)設置
        3.2.1 基體試樣的預處理
        3.2.2 實驗工藝流程
        3.2.3 實驗工藝參數(shù)
    3.3 TiAlN 薄膜性能測試及分析
        3.3.1 薄膜外觀顏色觀察
        3.3.2 薄膜的金相觀察
        3.3.3 薄膜增重情況和薄膜厚度
        3.3.4 薄膜的顯微硬度
        3.3.5 薄膜的結合力測定及分析
        3.3.6 薄膜的 XRD 檢測及分析
        3.3.7 斷口形貌檢測及分析
        3.3.8 膜層能譜檢測及分析
4. 總結
參考文獻
攻讀碩士學位期間發(fā)表的論文及科研成果
致謝

【參考文獻】

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本文編號:1556971

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