本文關鍵詞：射頻磁控濺射方法制備摻氮TiO_x薄膜及其結構和親水性研究（英文）

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【摘要】：采用磁控濺射方法制備摻氮TiO_x薄膜。將TiO_x作為靶材,通以N_2/Ar混合氣體來精確控制N的摻雜量。為改善摻氮TiO_x薄膜的性能,首先將試樣放于退火爐中退火,退火溫度范圍為300~600℃;再將試樣放于黑暗處一段時間;最后用可見光(VIS)照射。采用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜的表面形貌,結果表明,顆粒尺寸隨退火溫度升高而增大。采用X射線光電子能譜(XPS)研究薄膜的化學成分,結果表明,薄膜中生成了N-Ti-O(β-N)和羥基,這可能是因為N摻雜入TiO_x晶格引起的;且羥基含量隨退火溫度升高而增加,使得基片有更好的親水性。采用X射線衍射(XRD)研究薄膜的晶體結構,結果表明,退火后非晶薄膜轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)。采用接觸角儀測試薄膜的親水性,結果表明,水接觸角隨退火溫度升高而減小,這可能是由于顆粒尺寸和羥基含量的改變造成的。親水性也受避光儲存時間的影響,實驗結果表明,隨著儲存時間的增加,水接觸角增加�？梢姽庹丈鋵嶒灡砻�,可見光照射后薄膜的親水性增加。
【作者單位】： 東北大學;佳木斯大學;
【基金】：A Grant from Shenyang City(F13-295-1-00) Fundamental Research Funds for the Central Universities(N130403002)
【分類號】：TB383.2
【正文快照】： Titanium oxide(Ti Ox)films have attracted the interest ofsecond model,the red shift is rather related to the occurrencemany researchers due to their exceptional properties,such asof new N 2p states,close to the upper limit of the valencehigh biocompatibi

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本文編號：1207837