本文關(guān)鍵詞：甲烷體積分?jǐn)?shù)對(duì)納米金剛石薄膜形貌的影響

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【摘要】：目的研究不同甲烷體積分?jǐn)?shù)對(duì)納米金剛石(NCD)薄膜生長(zhǎng)的影響,實(shí)現(xiàn)較小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制備。方法采用微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的方法制備N(xiāo)CD薄膜,以CH4/H2為氣源,在生長(zhǎng)階段控制其他條件不變的前提下,探討不同甲烷體積分?jǐn)?shù)對(duì)NCD晶粒尺寸、表面形貌以及表面粗糙度的影響。采用SEM、XRD等觀(guān)測(cè)NCD薄膜的表面形貌和晶粒尺寸大小,并利用Raman對(duì)NCD薄膜的不同散射峰進(jìn)行分析。結(jié)果隨著甲烷體積分?jǐn)?shù)的增加,薄膜晶粒尺寸有減小的趨勢(shì)。甲烷體積分?jǐn)?shù)較低時(shí),晶形比較完整,但致密度較小;甲烷體積分?jǐn)?shù)較高時(shí),晶形雜亂無(wú)章,但致密度較好。當(dāng)甲烷體積分?jǐn)?shù)為9%時(shí)NCD薄膜平均粒徑達(dá)到最小,為21.3 nm,表面粗糙度較好,但非晶金剛石成分開(kāi)始大量生成,NCD薄膜質(zhì)量開(kāi)始變差;當(dāng)甲烷體積分?jǐn)?shù)為8%時(shí)其形貌最好,且此時(shí)最小表面粗糙度小于20 nm。通過(guò)Raman分析可知NCD薄膜中出現(xiàn)了硅峰和石墨烯特征峰。結(jié)論甲烷體積分?jǐn)?shù)對(duì)NCD薄膜形貌有較大影響,甲烷體積分?jǐn)?shù)為8%時(shí)是表面平整度由較差變好再逐漸變差的分界點(diǎn),且平均晶粒尺寸為23.6 nm,薄膜表面具有較好的平整度。
【作者單位】： 武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 納米金剛石薄膜 MPCVD 晶粒尺寸 表面粗糙度 甲烷體積分?jǐn)?shù) 表面形貌
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51402220) 武漢工程大學(xué)青年基金項(xiàng)目(Q201501)~~
【分類(lèi)號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： Received:2015-12-07;Revised:2016-02-19Fund:Supported by the National Natural Foundation of China(51402220)and Wuhan Institute of Technology Youth Fund Project(Q201501)金剛石是現(xiàn)有材料中最堅(jiān)硬的物質(zhì),在聲學(xué)、力學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)以及化學(xué)領(lǐng)域都有優(yōu)異的性能[1—5]

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本文編號(hào)：1133552