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集成電路布圖設計的侵權判斷標準研究

發(fā)布時間:2017-09-16 18:18

  本文關鍵詞:集成電路布圖設計的侵權判斷標準研究


  更多相關文章: 布圖設計 確定保護范圍的依據(jù) 獨創(chuàng)性 實質性相似


【摘要】:自2001年10月1日頒布,《集成電路布圖設計保護條例》至今已經(jīng)實施了十余年。但與之形成鮮明對比的是,十幾年來我國有關集成電路布圖設計的侵權案件判決少之又少。大部分的案件均以當事人的和解或撤訴告終。案件的匱乏導致一旦出現(xiàn)涉嫌侵犯集成電路布圖設計專有權的案件,當事人和法官均無法從現(xiàn)有的判例中尋求經(jīng)驗和借鑒,且現(xiàn)有的相關法律法規(guī)對于具體的侵權判定方法也并未規(guī)定的十分明確,這一切都導致了我國對于集成電路布圖設計的侵權判斷標準十分模糊。明確集成電路布圖設計的侵權判斷標準,對于賦予集成電路布圖設計權利人有效的保護是至關重要的,這意味著權利人可以在侵權訴訟中獲得可預期的合理救濟。法院在進行集成電路布圖設計的侵權判定時往往按照以下步驟展開;首先,確定用于侵權比對的布圖設計表現(xiàn)載體;其次,判斷布圖設計是否具有法律保護所要求的獨創(chuàng)性;最后,判斷被控侵權布圖設計是否與權利人的布圖設計構成實質性相似以確定是否構成侵權。本文將圍繞著上述侵權判斷中的問題出發(fā)展開討論。在第一章中,筆者會討論確定集成電路布圖設計保護范圍的依據(jù)。由于對于已經(jīng)實際投入商業(yè)利用的布圖設計,法律規(guī)定布圖設計人在申請專有權登記時,所需的材料既包含了復制件或者圖樣,又包含了樣品。因此法院在進行布圖設計的侵權對比時,應當選擇圖樣還是樣品進行比較是需要進行討論的問題。筆者將從集成電路布圖設計專有權的權利屬性出發(fā),借鑒國內外的判例經(jīng)驗,進行分析與討論。在第二章中,筆者會討論判斷布圖設計獨創(chuàng)性應當遵循的標準。獨創(chuàng)性是集成電路布圖設計受到保護所需滿足的要件,而其標準介乎于專利法的創(chuàng)造性和著作權法的獨創(chuàng)性之間。筆者將結合立法本意、國內外經(jīng)驗等討論對于布圖設計這一特殊的知識產權,在判斷是否具備獨創(chuàng)性時可以考慮的要素。在第三章中,筆者會討論對于布圖設計是否構成實質性相似應當考慮哪些因素。在判斷布圖設計侵權的過程中需證明被控侵權產品與專有權人的布圖設計相同或實質性形似,這與著作權法中“實質性相似”的概念類似。但是考慮到著作權與布圖設計專有權的區(qū)別,與著作權法保護客體僅保護“表現(xiàn)形式”所不同的是,布圖設計還兼具了功能性的重要特征,而且在版權制度中對于不同種類的作品的實質性相似要求也存在不同。因此,若完全照搬著作權實質性相似的判斷標準勢必會產生問題。筆者將結合最新的判例探討判斷布圖設計實質性相似應當參考的標準。在第四章中,筆者希望基于上述介紹和分析對我國現(xiàn)有的集成電路布圖設計保護體系提出一些改進意見。希望將上述分析中所確定的布圖設計侵權判定的一些思路在未來的立法中予以明確,為實務人員在未來的案件審理時提供法律依據(jù)。
【關鍵詞】:布圖設計 確定保護范圍的依據(jù) 獨創(chuàng)性 實質性相似
【學位授予單位】:華東政法大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2015
【分類號】:D923.41
【目錄】:
  • 摘要2-4
  • Abstract4-8
  • 導言8-14
  • 第一章 確定集成電路布圖設計保護范圍的依據(jù)14-25
  • 第一節(jié) 布圖設計保護范圍之依據(jù)的選擇14-15
  • 第二節(jié) 判斷布圖設計保護范圍依據(jù)的司法實踐15-20
  • 一、以圖樣作為優(yōu)先依據(jù)的實踐16-19
  • 二、以樣品作為優(yōu)先依據(jù)的實踐19-20
  • 第三節(jié) 對布圖設計保護范圍依據(jù)選擇的分析20-25
  • 第二章 布圖設計獨創(chuàng)性的判斷25-32
  • 第一節(jié) 獨創(chuàng)性標準的立法現(xiàn)狀25-27
  • 一、專有權人布圖設計的獨創(chuàng)性25-26
  • 二、反向工程布圖設計的獨創(chuàng)性26-27
  • 第二節(jié) 專有權人布圖設計的獨創(chuàng)性標準27-28
  • 第三節(jié) 反向工程中的獨創(chuàng)性標準28-32
  • 一、書面痕跡標準29
  • 二、實質性相同標準29-30
  • 三、功能性優(yōu)化標準30-31
  • 四、功能附加標準31-32
  • 第三章 布圖設計實質性相似的判斷32-37
  • 第一節(jié) 布圖設計侵權判斷中的實質性相似判斷32-33
  • 第二節(jié) 實質性相似判斷的司法實踐33-35
  • 一、實質性相似的判斷不以相似百分比為依據(jù)33-35
  • 二、實質性相似標準的高低依賴于創(chuàng)新空間的大小35
  • 第三節(jié) 實質性相似判斷標準構設的建議35-37
  • 第四章 對我國法律修改的建議37-39
  • 第一節(jié) 集成電路布圖設計保護范圍的依據(jù)37-38
  • 第二節(jié) 獨創(chuàng)性的判斷標準38
  • 第三節(jié) 實質性相似的判斷38-39
  • 結語39-40
  • 參考文獻40-43
  • 在讀期間發(fā)表的學術論文與研究成果43-44
  • 后記44-46

【相似文獻】

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本文編號:864664

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