【摘要】：《美國發(fā)明法》在2011年9月16日正式生效。這項(xiàng)綜合性改革方案使美國國會(huì)終于完成了長達(dá)30年的專利法革命,并牽涉到美國專利法的幾乎每一個(gè)基本的方面。其對(duì)美國專利制度的影響之大,被認(rèn)為是僅次于1952年《專利法》的一項(xiàng)制度性革命。而其中最為重要的,也是最受世人關(guān)注的是一項(xiàng)改革,就是對(duì)《專利法》第102條的修改。2013年3月16日之后,美國結(jié)束了自1790年首次制定專利法以來所奉行的"先發(fā)明制",而改為"發(fā)明人先申請(qǐng)制"。與一般理解相反的是,它并沒有完全采用世界其他國家和地區(qū)普遍采用的"先申請(qǐng)制"。同樣應(yīng)當(dāng)注意的是,盡管人們理解AIA對(duì)《專利法》第102條的修改具有革命性,但它實(shí)際并未完全拋棄現(xiàn)行專利法的基本規(guī)則、基本概念與原理。因此,為了正確理解美國專利法的發(fā)明人先申請(qǐng)制,有必要從《專利法》第102條的文本入手,比較其在AIA實(shí)施前后關(guān)于新穎性、現(xiàn)有技術(shù)、寬限期、披露等概念與規(guī)則的異同,以及它們與其他國家專利法相關(guān)制度的差別。
[Abstract]:The American Invention Act came into effect on September 16, 2011. This comprehensive reform program finally completed a 30-year patent law revolution in Congress and involved almost every fundamental aspect of American patent law. Its influence on the patent system of the United States is considered to be second only to the patent law of 1952 as an institutional revolution. And one of the most important, and most noticed, is the reform of Article 102 of the Patent Law. After March 16, 2013, the United States ended the "first invention system" that has been practised since the first patent law was enacted in 1790. Instead, it was changed to "Inventors first apply". Contrary to the general understanding, it does not completely adopt the "first-application" system, which is widely used in other countries and regions of the world. It should also be noted that although AIA is understood to be revolutionary in amending Article 102 of the Patent Law, it has not completely abandoned the basic rules, basic concepts and principles of the existing Patent Law. Therefore, in order to correctly understand the inventor's first application system of the United States Patent Law, it is necessary to start with the text of Article 102 of the Patent Law, and compare the similarities and differences between the concepts and rules about novelty, existing technology, grace period, disclosure and so on before and after the implementation of AIA. And their differences from other countries' patent law related systems.
【作者單位】： 中國人民大學(xué)法學(xué)院;
【分類號(hào)】：D971.2;DD913

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本文編號(hào)：2417820