本文關(guān)鍵詞：微波二次燒結(jié)牙科納米氧化鋯陶瓷低溫時(shí)效性和冠適合性的研究

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【摘要】：目的：1、評(píng)價(jià)微波二次燒結(jié)牙科氧化鋯的低溫時(shí)效性能；2、比較微波二次燒結(jié)和常規(guī)二次燒結(jié)氧化鋯全瓷冠的冠適合性,為微波二次燒結(jié)氧化鋯材料的臨床應(yīng)用提供參考依據(jù)。材料和方法：1、制作cercon氧化鋯圓片48片,將試件隨機(jī)平均分成兩組,對(duì)照組(C組)采用常規(guī)燒結(jié),實(shí)驗(yàn)組(M組)采用微波燒結(jié),將C組和M組各分成兩個(gè)組,一組在常溫下干燥存放(CA組、MA組),一組(CB組、MB組)置于高溫高壓滅菌器中進(jìn)行低溫時(shí)效處理5h,各組試件行X射線衍射(XRD)分析觀察氧化鋯單斜晶相(m相)含量的改變、測(cè)試雙軸彎曲強(qiáng)度和掃描電鏡(SEM)觀察試件斷裂面微觀形貌。2、選取1顆正畸拔除形態(tài)完整的下頜前磨牙行全瓷冠牙體預(yù)備,雙重印模法取模,翻制10個(gè)環(huán)氧樹(shù)脂代型,通過(guò)CAD/CAM制得的cercon氧化鋯全瓷冠后隨機(jī)均分為2組,分別用微波二次燒結(jié)和常規(guī)二次燒結(jié),用玻璃離子水門(mén)汀粘接在代型上,靜置24h后自凝樹(shù)脂包埋,用裝有金剛砂片慢速手機(jī)沿著包埋體頰舌向中線標(biāo)志線處切開(kāi),SEM分別取切面上的12個(gè)點(diǎn)測(cè)量間隙大小,比較兩種燒結(jié)工藝制作的氧化鋯全瓷冠的冠適合性。結(jié)果：1、CA組、CB組、MA組、MB組氧化鋯試件m相含量分別是(0.20±0.07)%,(16.38±0.11)%、(0.19+0.05)%、(16.93+1.17)%,MB組和MA組、CB組和CA組氧化鋯m相含量差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)；SEM結(jié)果顯示微波二次燒結(jié)氧化鋯晶粒均勻細(xì)小,兩種方法燒結(jié)的氧化鋯試件在低溫時(shí)效前后斷裂面微觀結(jié)構(gòu)顯示晶粒并沒(méi)有明顯增大,未發(fā)現(xiàn)裂紋；2、CA組、MA組、CB組、MB組氧化鋯雙軸彎曲強(qiáng)度分別是1061.4±57.43Mpa、1033.9±86.32 Mpa.1005.30±56.39 Mpa.1004.90±84.00 Mpa,差別無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)； 3、微波燒結(jié)和常規(guī)燒結(jié)氧化鋯全冠的邊緣間隙和軸面間隙差別無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05),(?)面間隙和肩臺(tái)間隙差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。結(jié)論：1、微波燒結(jié)氧化鋯全瓷材料在低溫時(shí)效后m相含量明顯增加,雙軸彎曲強(qiáng)度無(wú)明顯改變,低溫時(shí)效性能與常規(guī)燒結(jié)氧化鋯材料相當(dāng)；2、利用微波二次燒結(jié)制作的cercon氧化鋯陶瓷與常規(guī)燒結(jié)氧化鋯具有相似的冠邊緣適合性,在臨床的可接受范圍之內(nèi)。
【關(guān)鍵詞】：微波燒結(jié) 氧化鋯 低溫時(shí)效 冠適合性
【學(xué)位授予單位】：廣西醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2014
【分類(lèi)號(hào)】：R783.1
【目錄】：

• 英文縮略詞4-5
• 中文摘要5-7
• 英文摘要7-9
• 前言9-11
• 實(shí)驗(yàn)一 微波燒結(jié)和常規(guī)燒結(jié)氧化鋯全瓷材料低溫時(shí)效性能比較11-18
• 材料和方法11-14
• 結(jié)果14-17
• 討論17-18
• 實(shí)驗(yàn)二 微波燒結(jié)和常規(guī)燒結(jié)氧化鋯全瓷冠適合性的比較18-26
• 材料和方法18-20
• 結(jié)果20-23
• 附圖23-24
• 討論24-26
• 總結(jié)26-27
• 參考文獻(xiàn)27-30
• 綜述30-38
• 參考文獻(xiàn)36-38
• 致謝38-39
• 攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文目錄39

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：625453