背景及目的納米氧化鋅(ZnO-NPs)是一種新型多功能無(wú)機(jī)材料,具有許多宏觀材料所不具備的優(yōu)良特點(diǎn)和特殊性能,因此被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)生活的許多領(lǐng)域,如陶瓷、紡織、化妝品、油漆涂料、化工原料等各個(gè)行業(yè)。ZnO-NPs的大量使用增加了人體暴露機(jī)會(huì),呼吸道吸入是其最主要的暴露途徑。由于其粒徑較小,經(jīng)呼吸道吸入的ZnO-NPs可以進(jìn)入到肺泡深部,對(duì)肺部產(chǎn)生一定程度的毒性效應(yīng),主要包括氧化應(yīng)激反應(yīng)和炎癥反應(yīng)。NLRP3炎性小體是炎癥反應(yīng)過(guò)程中起到非常關(guān)鍵作用的胞內(nèi)蛋白復(fù)合物,NLRP3炎性小體的活化可以誘導(dǎo)IL-1β等促炎因子的成熟和分泌,在炎癥反應(yīng)的發(fā)生、發(fā)展過(guò)程中起到重要作用。線粒體自噬作為維持細(xì)胞穩(wěn)態(tài)的一種方式,其可以降解胞內(nèi)受損的線粒體,進(jìn)而通過(guò)影響線粒體相關(guān)信號(hào)通路調(diào)節(jié)氧化應(yīng)激及炎性反應(yīng)。為探究ZnO-NPs對(duì)肺泡Ⅱ型上皮細(xì)胞A549線粒體自噬和NLRP3炎性小體活化的影響,以及線粒體自噬與NLRP3炎性小體活化的關(guān)系,本課題在體外實(shí)驗(yàn)水平上探究不同濃度ZnO-NPs對(duì)A549細(xì)胞的線粒體自噬水平及NLRP3炎性小體活化的影響,并通過(guò)分別抑制線粒體自噬和NLRP3炎性小體活化,進(jìn)而更深入...

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖３．１?ＺｎＯ－ＮＰｓ懸液對(duì)Ａ５４９細(xì)胞活性的影響??注：＊表示與對(duì)照組相比，差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義，Ｐ＜０．０５??

????３結(jié)果??３．１不同濃度ＺｎＯ－ＮＰｓ對(duì)Ａ５４９細(xì)胞活性的影響??以質(zhì)量濃度為?０、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０／ｚｇ／ｍＬ?的?ＺｎＯ－ＮＰｓ?懸液??刺激Ａ５４９細(xì)胞２４ｈ后，應(yīng)用ＣＣＫ－８法來(lái)檢測(cè)各組Ａ５４９細(xì)胞活性。如圖３．１所??示，當(dāng)ＺｎＯ－Ｎ....

圖３．２不同染毒劑量及不同染毒時(shí)間對(duì)細(xì)胞內(nèi)ＲＯＳ水平的影響??

０．０５??Ｒｏｓｕｐ：活性氧陽(yáng)性對(duì)照試劑??２５０－｜?〇?＾ｇ／ｍＬ??ＥＺ３?５?｛ｘｇ／ｍＬ??？?２００－?Ｓ?ｌ〇?（ｉｇ／ｍＬ?＊??ｓ?ＣＨＩ?１５ｎｇ／ｍＬ?＃??？：?ＥＳ３?２０?＾ｉｇ／ｍＬ?＃?＂矣??Ｊ?１５０■口?Ｒｏｓｕｐ?＃?ｌ?＃ｐ，（ｌ｜?＾....

圖３．３不同染毒劑量及不同染毒時(shí)間細(xì)胞線粒體膜電位的變化??

????３．３所示。當(dāng)染毒時(shí)間相同時(shí)，與對(duì)照組相比，隨著染毒濃度的升高，細(xì)胞內(nèi)熒??光強(qiáng)度（線粒體膜電位強(qiáng)度）逐漸降低。當(dāng)染毒劑量相同時(shí)，與４ｈ組相比，??Ｏ／ｉｇ／ｍＬ組熒光強(qiáng)度隨著時(shí)間增長(zhǎng)無(wú)明顯變化；其他染毒組隨著染毒時(shí)間的增加，??細(xì)胞內(nèi)熒光強(qiáng)度（線粒體膜電位強(qiáng)度）逐漸降低....

圖３．４不同染毒劑量及不同染毒時(shí)間細(xì)胞線粒體膜電位的變化??５０ｉ?ｅｍ?〇ｆｉｇ／ｍＬ?ｆ??＾?Ｅ３?５＾ｉｇ／ｍＬ?＾??

）?Ｒｈ?１２３??ｇ?〇?，?，?５?ａ?１０?ｙ?１５?２０??ｗ?，?０．５％?，?１２．９％?３?１９．４％?，?Ｊ＾７％?；?＞?－４６．４％?；??自麗?Ｍ?ｉ?Ｋ?ｉ?：?ｗ?｜?Ｐ２?ｉ?１?ｒ?１??Ｕ?１?３?■?ｉ－?Ｉ?１?３－?ｉ?！?１??ｍｌ?Ｊ：?....

本文編號(hào)：3932385